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公开(公告)号：CN116219361A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202211732430.3
申请日：2022-12-30
申请人： 北京创思工贸有限公司
摘要： 本发明涉及透镜镀膜领域，提供一种透镜镀膜工装及其镀膜方法，其中，一种透镜镀膜工装，包括：第一定位件开设有第一定位槽和第二定位槽，第二定位槽用于与透镜的第一基准面配合，以形成第一定位部的定位基准；遮挡件，遮挡件与第一定位槽匹配，用于遮挡透镜的第一镀膜面的非镀膜区域。用以解决现有技术中透镜的同一面的不同区域镀膜精度低的缺陷，本发明提供的透镜镀膜工装，通过第一定位件的第二定位槽与透镜的第一基准面配合以作为定位基准，通过第一定位槽定位出非镀膜区域，实现透镜的第一镀膜面的非镀膜区域的高精度定位，通过遮挡件与第一定位槽匹配，实现非镀膜区域的准确遮挡，实现不同区域镀不同的膜层，提高镀膜精度和镀膜效率。
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公开(公告)号：CN115011917B
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202210542094.X
申请日：2022-05-18
申请人： 湖南工业职业技术学院
摘要： 本发明公开一种基于真空热蒸镀的金刚石颗粒表面改性方法，该方法包括如下步骤：首先对金刚石颗粒进行表面预处理；然后对预处理后的金刚石颗粒进行离子束改性处理，得到活化的金刚石颗粒；最后通过真空热蒸镀法对活化金刚石颗粒表面改性，获得表面包覆碳化物镀层的金刚石颗粒。本发明能够解决现有金刚石颗粒表面改性方法中金刚石石墨化倾向明显，镀层均匀性差等问题。本发明操作简单，方便易行，成本低廉，满足工业量级金刚石颗粒表面改性要求。
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公开(公告)号：CN115433905B
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN202210733607.5
申请日：2022-06-24
申请人： 合肥本源量子计算科技有限责任公司
摘要： 本发明公开了一种约瑟夫森结及其制备方法。该制备方法包括：在衬底上确定第一区域和第二区域，第一区域与第二区域具有相交区域；形成第一超导层于第一区域；通过氧化形成第一势垒层于第一超导层上；形成第二超导层于相交区域的第一势垒层上；通过氧化将第二超导层整体转化为第二势垒层；形成第三超导层于第二势垒层上，以在相交区域获得约瑟夫森结。该约瑟夫森结由该制备方法得到。通过上述方式，本发明能够在降低势垒层的氧化气压的情况下控制势垒层厚度，进而获得大线宽的约瑟夫森结。
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公开(公告)号：CN115061226B
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN202210408582.1
申请日：2022-04-19
申请人： 深圳菲比特光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种减反增透膜的成膜方法，一共设置了十五层的镀膜，均是使用离子源辅助的真空镀膜方法成膜的，离子源辅助镀膜可以使膜层更加致密，同时各膜层不同的厚度和膜层之间的交替都是经过考量以及检测后确定的。前十四层为交替排列的二硅化钽层和二硼化钽层，逐渐地叠加排列使得反射效果逐步降低，第十五层为六硼化锶层，能够起到进一步优化和保护作用。本发明通过离子源辅助真空镀膜的方式，结合膜层材料做到更好的增透效果，降低镜片的反射率，消除摄像头拍照鬼影的现象。
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公开(公告)号：CN115354280B
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN202211135749.8
申请日：2022-09-19
申请人： 陕西理工大学
摘要： 本发明公开了一种半导体芯片的镀膜治具，属于半导体芯片镀膜技术领域，包括镀膜箱，镀膜箱顶部气孔处固定连接有抽真空管，镀膜箱侧壁气孔处固定连接有氩气注气管，镀膜箱顶部前端直孔处密封连接有活动板，活动板顶部安装有磁棒冷却水管道和气压感应器，活动板底部固定连接有金属靶材安装架，金属靶材安装于金属靶材安装架内，金属靶材安装架内安装有磁力棒，磁棒冷却水管道安装于金属靶材一侧；镀膜箱内底部设有等弧度转动组件；镀膜箱在等弧度转动组件上方处设有下料组件；镀膜箱后侧壁开设有料箱插槽；镀膜箱在料箱插槽内插接有传送带式存料组件；通过上述方式，本发明抽真空能耗小，且氩气消耗量小，降低了整体镀膜成本，利于企业生产。
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公开(公告)号：CN116034179A
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN202180054212.6
申请日：2021-09-01
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： C23C14/22
摘要： 描述一种蒸发设备(100)，尤其用于蒸发诸如锂之类的反应性材料。此蒸发设备(100)包括用于蒸发液体材料(105)的蒸发坩锅(110)、用于将此液体材料(105)供应至此蒸发坩锅(110)的材料导管(120)，和经配置为通过用冷却装置(152)使此材料导管(120)中的此液体材料(105)的部分固化来关闭此材料导管(120)的阀(150)。此阀(150)可包括用于冷却气体(106)的冷却气体供应器(154)，和可经配置为用此冷却气体(106)冷却此液体材料(105)的此冷却装置(152)。进一步描述一种用于涂覆基板的气相沉积设备(200)以及蒸发方法。
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公开(公告)号：CN113621929B
公开(公告)日：2023-04-11
申请号：CN202010381497.1
申请日：2020-05-08
申请人： 武汉光谷创元电子有限公司
摘要： 本发明涉及一种微波器件的制造设备和制造方法。微波器件的制造设备(1)包括：夹具(10，10')，所述夹具(10，10')包括能够围绕第一轴线(A1)旋转的基座(11)、以及能够围绕第二轴线(A2)摆动的托架(12)，所述托架(12)连接至所述基座(11)以用于保持绝缘基体(40)，其中所述第一轴线(A1)与所述第二轴线(A2)相交；用于朝所述绝缘基体(40)释放金属离子的源头(20)；以及控制器(30)，所述控制器(30)耦合至所述夹具(10，10')和所述源头(20)，并且构造成控制所述夹具(10，10')的运动模式和/或所述源头(20)的角度，使得所述绝缘基体(40)从多个角度接收所述金属离子，并在所述绝缘基体(40)的所有表面(41)上形成金属层(50)。
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公开(公告)号：CN115896748A
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN202211183310.2
申请日：2022-09-27
申请人： ASM IP私人控股有限公司
发明人： T.布兰夸特 , R.H.J.沃乌尔特 , J.德克斯
IPC分类号： C23C16/455 , C23C14/22 , C23C16/44
摘要： 公开了一种使用金属材料在衬底表面上的间隙内形成材料的方法和系统。一种示例性方法包括形成覆盖在衬底上的可熔融材料层，并将可熔融材料加热到流动温度，以形成在间隙内流动的熔融材料。
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公开(公告)号：CN115874146A
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202111138096.4
申请日：2021-09-27
申请人： 东莞新科技术研究开发有限公司
发明人： 冯明章
摘要： 本发明公开了一种磨轮表面的镀膜方法，包括：对磨轮表面进行清洗以及烘干处理；将烘干后的磨轮置于真空室内，在氩气和氢气环境下，对磨轮表面进行辉光清洗；向真空室内通入硅烷和氩气，并控制气压为200Pa～300Pa，温度为200℃～300℃，向磨轮施加‑1000V～‑800V的负偏压，采用气相沉积法在磨轮表面进行第一次沉积，相应形成结合层；将真空室内的真空度调整为8.0×10‑3Pa，向真空室内通入氩气，以将真空度调整为5Pa；开启石墨靶源，向磨轮施加800V～1000V的偏压，将电流调整为18A～20A，温度调整为80℃～90℃，在结合层的表面进行第二次沉积，相应形成类金刚石镀膜层。本发明的技术方案能够在提高磨轮的硬度、润滑性的同时，解决磨轮表面的镀膜层容易脱落的问题，提高磨轮表面与镀膜层的结合性。
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公开(公告)号：CN115852314A
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN202211509517.4
申请日：2022-11-29
申请人： 星弧涂层新材料科技(苏州)股份有限公司
摘要： 本发明揭示了阀用部件复合表面处理工艺及阀用部件，其中表面处理工艺是在清洗后的基体上加工得到50微米‑300微米厚的支撑层并在磨削和抛光处理后，在支撑层上加工得到表层为超硬碳基涂层的PVD涂层。本发明采用较厚的支撑层为PVD涂层提供支撑，可以防止PVD涂层，尤其是超硬碳基涂层因基体变形而失效。支撑层的硬度介于基体和超硬碳基涂层的硬度之间，极大程度地避免基体和超硬碳基涂层之间由于硬度梯度过大导致结合力不良的问题。进一步超硬碳基涂层的硬度在3500HV‑6500HV之间，摩擦系数在0.06‑0.1之间，成倍地提高表面硬度，且表面具有低摩擦系数，充分满足了高压、高频硬密封场合的使用需要，使用寿命相对于常规工艺处理的阀用部件提高3‑10倍。
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