半导体装置
    22.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100338771C

    公开(公告)日:2007-09-19

    申请号:CN03109521.6

    申请日:2003-04-08

    Abstract: 在包括半导体元件,覆盖半导体的电绝缘盖,以及分别电连接到半导体元件的至少第一和第二导电端子的半导体装置中,第一导电端子具有第一端子凸起从盖的第一表面突出并且包括第一终止端和第一根源端,第二导电端子具有第二端子凸起从盖的第二表面突出并且包括第二终止端和第二根源端,在沿着平行于突出方向的虚平面而获得的断面图中,盖具有盖凸起和盖凹槽中至少一个,盖凸起突出到高于第一和第二终止端高度的高度,盖凹槽的底部相对于盖的第一和第二表面凹陷。

    半导体器件
    23.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1050226C

    公开(公告)日:2000-03-08

    申请号:CN96103944.2

    申请日:1996-03-08

    CPC classification number: H01L29/7455 H01L29/102 H01L29/749

    Abstract: 本发明为一种复合半导体装置,包括串联在一起的一个MIS场效应管和一个可控硅,这里,或者把MIS场效应管的p基极层和可控硅p基极层之间的可承受电压设置成低于该MIS场效应管的可承受电压,在MIS场效应管的p基极层和可控硅p基极层通过-p通道连接的条件下使该MIS场效应管“断掉”,或者减小该可控硅p基极层的侧向电阻,从而扩展了该复合半导体装置的安全操作区间。

    二极管及电力转换系统

    公开(公告)号:CN103681878A

    公开(公告)日:2014-03-26

    申请号:CN201310343709.7

    申请日:2013-08-08

    Abstract: 本发明提供一种能够利用不伴随耐压的降低且无追加工序的简易方法来降低恢复损失的二极管。该二极管具有:n型的n-漂移层(101);与n-漂移层(101)邻接的p型的正极p层(102);n型的负极n层(104),其与n-漂移层(101)的正极侧邻接设置,且n型杂质的浓度比n-漂移层(101)高;与正极p层(102)欧姆接触的正极电极(107);及与负极n层(104)欧姆接触的负极电极(108),在n-漂移层(101)与负极n层(104)之间的与负极n层(104)邻接的位置上,设置低寿命区域层(106),该低寿命区域层(106)含有与负极n层(104)所含有的n型杂质相同的种类的杂质,且载流子的寿命比负极n层(104)短。

    半导体装置及使用其的电力转换装置

    公开(公告)号:CN102891172A

    公开(公告)日:2013-01-23

    申请号:CN201210247689.9

    申请日:2012-07-17

    CPC classification number: H01L29/7397 H01L29/0696 H01L29/407 H01L29/66348

    Abstract: 本发明提供一种低损失、高耐压、输出电压的dV/dt的控制容易且容易制造的IGBT。其具备:第一导电型的第一半导体层;第一半导体层的表面上的第二导电型的第二半导体层;形成在第一半导体层的表面上的沟槽;第一半导体层的表面上的半导体凸部;形成在半导体凸部的表面上的第三半导体层;第三半导体层的表面上的第四半导体层;沿着沟槽的内壁设置的栅极绝缘层;沿着沟槽的内壁设置的第一层间绝缘层;隔着栅极绝缘层而与第四半导体层对置的第一导电层;第一眉间绝缘层的第二导电层;覆盖第二导电层的表面的第二层间绝缘层;形成在第三半导体层与第四半导体层的表面上且与所述第四半导体层电连接的第三导电层;将第三导电层和第三半导体层连接的触点部;形成在第二半导体层的表面上的第四导电层,半导体凸部的表面的一部分为第一半导体层。

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