制造半导体器件的方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113314428A

    公开(公告)日:2021-08-27

    申请号:CN202110162639.X

    申请日:2021-02-05

    Abstract: 本公开涉及一种制造半导体器件的方法。在根据一个实施例的制造半导体器件的方法中,在提供包括非易失性存储器、焊盘以及包括有机材料的绝缘膜的半导体晶片之后,使探针接触位于第二区域中的焊盘的表面,并且数据被写入到非易失性存储器。在此,通过对有机材料执行第一热处理来形成绝缘膜。而且,在对半导体晶片执行第二热处理并检查其中被写入数据的非易失性存储器之后,通过使用电镀法来在位于第一区域中的焊盘的表面上形成阻挡层和第一焊料材料。此外,通过对第一焊料材料执行第三热处理来在第一区域中形成凸块电极。

    半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN110299292B

    公开(公告)日:2024-11-26

    申请号:CN201910211657.5

    申请日:2019-03-20

    Abstract: 本申请涉及半导体器件及其制造方法。在层间绝缘膜上形成焊盘,在层间绝缘膜上形成绝缘膜以覆盖焊盘,并且在绝缘膜中形成露出焊盘的一部分的开口部分。在从开口部分露出的焊盘上和绝缘膜上形成电连接到焊盘的金属膜。金属膜一体地包括位于从开口部分露出的焊盘上的第一部分和位于绝缘膜上的第二部分。金属膜的上表面具有用于将导线键合到金属膜的导线键合区域和用于使探针与金属膜接触的探针接触区域,导线键合区域位于金属膜的第一部分上并且探针接触区域位于金属膜的第二部分上。

    半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN110299292A

    公开(公告)日:2019-10-01

    申请号:CN201910211657.5

    申请日:2019-03-20

    Abstract: 本申请涉及半导体器件及其制造方法。在层间绝缘膜上形成焊盘,在层间绝缘膜上形成绝缘膜以覆盖焊盘,并且在绝缘膜中形成露出焊盘的一部分的开口部分。在从开口部分露出的焊盘上和绝缘膜上形成电连接到焊盘的金属膜。金属膜一体地包括位于从开口部分露出的焊盘上的第一部分和位于绝缘膜上的第二部分。金属膜的上表面具有用于将导线键合到金属膜的导线键合区域和用于使探针与金属膜接触的探针接触区域,导线键合区域位于金属膜的第一部分上并且探针接触区域位于金属膜的第二部分上。

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