公开(公告)号：US11970557B2

公开(公告)日：2024-04-30

申请号：US16977739

申请日：2019-10-31

申请人： LG CHEM, LTD.

发明人： Jihye Kim ,  Sung Ho Chun ,  Minyoung Lim

IPC分类号： C08F232/02 ,  C08F8/34 ,  G03F7/039

CPC分类号： C08F232/02 ,  C08F8/34 ,  G03F7/039

摘要： A polymer capable of securing pattern uniformity in a photoresist pattern, the polymer containing a photoacid generator by including a structure unit represented by Chemical Formula 1a; and a structure unit represented by Chemical Formula 1b as shown in the specification.

公开(公告)号：US09243090B2

公开(公告)日：2016-01-26

申请号：US14278472

申请日：2014-05-15

申请人： Dow Global Technologies LLC

发明人： Daniel J. Arriola ,  Edmund M. Carnahan ,  Yunwa Wilson Cheung ,  David D. Devore ,  David D. Graf ,  Phillip D. Hustad ,  Roger L. Kuhlman ,  Colin Li Pi Shan ,  Benjamin C. Poon ,  Gordon R. Roof ,  James C. Stevens ,  Pamela J. Stirn ,  Timothy T. Wenzel

IPC分类号： C08F10/00 ,  C08F2/38 ,  C08F210/14 ,  C08F297/08 ,  C08F4/6592 ,  B32B27/32 ,  C08F297/00 ,  C08L23/08 ,  C08F4/659 ,  C08F110/02 ,  C08L23/02 ,  C08L23/10

CPC分类号： B32B27/327 ,  B32B27/06 ,  B32B27/32 ,  C08F4/659 ,  C08F4/65908 ,  C08F4/65912 ,  C08F4/65925 ,  C08F4/65927 ,  C08F10/00 ,  C08F10/14 ,  C08F110/02 ,  C08F210/14 ,  C08F210/16 ,  C08F295/00 ,  C08F297/00 ,  C08F297/08 ,  C08F297/083 ,  C08F297/086 ,  C08F2410/01 ,  C08F2410/04 ,  C08F2420/02 ,  C08L23/02 ,  C08L23/06 ,  C08L23/0815 ,  C08L23/0853 ,  C08L23/10 ,  C08L53/00 ,  C08L53/005 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/24992 ,  Y10T428/2826 ,  Y10T428/31573 ,  Y10T428/31587 ,  C08F2/38 ,  C08F4/65904 ,  C08L2666/06 ,  C08F2500/09 ,  C08F2500/03 ,  C08F4/64148 ,  C08F4/64193 ,  C08F4/64048 ,  C08F4/6411 ,  C08F4/64144 ,  C08F2500/08 ,  C08F4/64113 ,  C08L2666/02 ,  C08L2666/04 ,  C08F2500/12 ,  C08F2500/20 ,  C08F210/08 ,  C08F2500/11 ,  C08F2500/21 ,  C08F210/02 ,  C08F212/08 ,  C08F232/02 ,  C08F232/08

摘要： A composition for use in forming a multi-block copolymer, said copolymer containing therein two or more segments or blocks differing in chemical or physical properties, a polymerization process using the same, and the resulting polymers, wherein the composition comprises the admixture or reaction product resulting from combining: (A) a first metal complex olefin polymerization catalyst, (B) a second metal complex olefin polymerization catalyst capable of preparing polymers differing in chemical or physical properties from the polymer prepared by catalyst (A) under equivalent polymerization conditions, and (C) a chain shuttling agent.

摘要翻译： 一种用于形成多嵌段共聚物的组合物，所述共聚物中含有两个或更多个化学或物理性质不同的链段或嵌段，使用该多嵌段共聚物的聚合方法和所得聚合物，其中组合物包含混合物或反应产物 由（A）第一金属络合物烯烃聚合催化剂，（B）能够在等效聚合条件下制备由催化剂（A）制备的聚合物在化学或物理性质上不同的聚合物的第二金属络合物烯烃聚合催化剂，以及 （C）链式穿梭剂。

公开(公告)号：US20130030092A1

公开(公告)日：2013-01-31

申请号：US13562600

申请日：2012-07-31

申请人： Daniel J. Arriola ,  Edmund M. Carnahan ,  Yunwa Wilson Cheung ,  David D. Devore ,  David D. Graf ,  Phillip D. Hustad ,  Roger L. Kuhlman ,  Colin Li Pi Shan ,  Benjamin C. Poon ,  Gordon R. Roof ,  James C. Stevens ,  Pamela J. Stirn ,  Timothy T. Wenzel

发明人： Daniel J. Arriola ,  Edmund M. Carnahan ,  Yunwa Wilson Cheung ,  David D. Devore ,  David D. Graf ,  Phillip D. Hustad ,  Roger L. Kuhlman ,  Colin Li Pi Shan ,  Benjamin C. Poon ,  Gordon R. Roof ,  James C. Stevens ,  Pamela J. Stirn ,  Timothy T. Wenzel

IPC分类号： C08L23/20 ,  C08L1/28 ,  C08K5/41 ,  C08K5/09 ,  C08K5/20

CPC分类号： B32B27/327 ,  B32B27/06 ,  B32B27/32 ,  C08F4/659 ,  C08F4/65908 ,  C08F4/65912 ,  C08F4/65925 ,  C08F4/65927 ,  C08F10/00 ,  C08F10/14 ,  C08F110/02 ,  C08F210/14 ,  C08F210/16 ,  C08F295/00 ,  C08F297/00 ,  C08F297/08 ,  C08F297/083 ,  C08F297/086 ,  C08F2410/01 ,  C08F2410/04 ,  C08F2420/02 ,  C08L23/02 ,  C08L23/06 ,  C08L23/0815 ,  C08L23/0853 ,  C08L23/10 ,  C08L53/00 ,  C08L53/005 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/24992 ,  Y10T428/2826 ,  Y10T428/31573 ,  Y10T428/31587 ,  C08F2/38 ,  C08F4/65904 ,  C08L2666/06 ,  C08F2500/09 ,  C08F2500/03 ,  C08F4/64148 ,  C08F4/64193 ,  C08F4/64048 ,  C08F4/6411 ,  C08F4/64144 ,  C08F2500/08 ,  C08F4/64113 ,  C08L2666/02 ,  C08L2666/04 ,  C08F2500/12 ,  C08F2500/20 ,  C08F210/08 ,  C08F2500/11 ,  C08F2500/21 ,  C08F210/02 ,  C08F212/08 ,  C08F232/02 ,  C08F232/08

摘要： A composition for use in forming a multi-block copolymer, said copolymer containing therein two or more segments or blocks differing in chemical or physical properties, a polymerization process using the same, and the resulting polymers, wherein the composition comprises the admixture or reaction product resulting from combining: (A) a first metal complex olefin polymerization catalyst, (B) a second metal complex olefin polymerization catalyst capable of preparing polymers differing in chemical or physical properties from the polymer prepared by catalyst (A) under equivalent polymerization conditions, and (C) a chain shuttling agent.

摘要翻译： 一种用于形成多嵌段共聚物的组合物，所述共聚物中含有两个或更多个化学或物理性质不同的链段或嵌段，使用该多嵌段共聚物的聚合方法和所得聚合物，其中组合物包含混合物或反应产物 由（A）第一金属络合物烯烃聚合催化剂，（B）能够在等效聚合条件下制备由催化剂（A）制备的聚合物在化学或物理性质上不同的聚合物的第二金属络合物烯烃聚合催化剂，以及 （C）链式穿梭剂。

公开(公告)号：US08198374B2

公开(公告)日：2012-06-12

申请号：US12962822

申请日：2010-12-08

申请人： Daniel J. Arriola ,  Edmund M. Carnahan ,  Yunwa Wilson Cheung ,  David D. Devore ,  David D. Graf ,  Phillip D. Hustad ,  Roger L. Kuhlman ,  Colin Li Pi Shan ,  Benjamin C. Poon ,  Gordon R. Roof ,  James C. Stevens ,  Pamela J. Stirn ,  Timothy T. Wenzel

发明人： Daniel J. Arriola ,  Edmund M. Carnahan ,  Yunwa Wilson Cheung ,  David D. Devore ,  David D. Graf ,  Phillip D. Hustad ,  Roger L. Kuhlman ,  Colin Li Pi Shan ,  Benjamin C. Poon ,  Gordon R. Roof ,  James C. Stevens ,  Pamela J. Stirn ,  Timothy T. Wenzel

IPC分类号： C08F255/02 ,  C08F293/00 ,  C08F255/00

CPC分类号： B32B27/327 ,  B32B27/06 ,  B32B27/32 ,  C08F4/659 ,  C08F4/65908 ,  C08F4/65912 ,  C08F4/65925 ,  C08F4/65927 ,  C08F10/00 ,  C08F10/14 ,  C08F110/02 ,  C08F210/14 ,  C08F210/16 ,  C08F295/00 ,  C08F297/00 ,  C08F297/08 ,  C08F297/083 ,  C08F297/086 ,  C08F2410/01 ,  C08F2410/04 ,  C08F2420/02 ,  C08L23/02 ,  C08L23/06 ,  C08L23/0815 ,  C08L23/0853 ,  C08L23/10 ,  C08L53/00 ,  C08L53/005 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/24992 ,  Y10T428/2826 ,  Y10T428/31573 ,  Y10T428/31587 ,  C08F2/38 ,  C08F4/65904 ,  C08L2666/06 ,  C08F2500/09 ,  C08F2500/03 ,  C08F4/64148 ,  C08F4/64193 ,  C08F4/64048 ,  C08F4/6411 ,  C08F4/64144 ,  C08F2500/08 ,  C08F4/64113 ,  C08L2666/02 ,  C08L2666/04 ,  C08F2500/12 ,  C08F2500/20 ,  C08F210/08 ,  C08F2500/11 ,  C08F2500/21 ,  C08F210/02 ,  C08F212/08 ,  C08F232/02 ,  C08F232/08

摘要： A composition for use in forming a multi-block copolymer, said copolymer containing therein two or more segments or blocks differing in chemical or physical properties, a polymerization process using the same, and the resulting polymers, wherein the composition comprises the admixture or reaction product resulting from combining: (A) a first metal complex olefin polymerization catalyst, (B) a second metal complex olefin polymerization catalyst capable of preparing polymers differing in chemical or physical properties from the polymer prepared by catalyst (A) under equivalent polymerization conditions, and (C) a chain shuttling agent.

摘要翻译： 一种用于形成多嵌段共聚物的组合物，所述共聚物中含有两个或更多个化学或物理性质不同的链段或嵌段，使用该多嵌段共聚物的聚合方法和所得聚合物，其中组合物包含混合物或反应产物 由（A）第一金属络合物烯烃聚合催化剂，（B）能够在等效聚合条件下制备由催化剂（A）制备的聚合物在化学或物理性质上不同的聚合物的第二金属络合物烯烃聚合催化剂，以及 （C）链式穿梭剂。

公开(公告)号：US06806335B2

公开(公告)日：2004-10-19

申请号：US10375129

申请日：2003-02-28

申请人： Yoshinori Funaki ,  Kiyoharu Tsutsumi ,  Akira Takaragi

发明人： Yoshinori Funaki ,  Kiyoharu Tsutsumi ,  Akira Takaragi

IPC分类号： C08F12400

CPC分类号： C08F32/08 ,  C08F232/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397

摘要： A photoresist polymeric compound includes a monomer unit represented by following Formula (I): The polymeric compound may further include at least one of monomer units represented by Formulae (IIa) to (IIg) as described in the specification. The photoresist polymeric compound can exhibit high adhesion to substrates and can highly precisely form fine patterns.

摘要翻译： 光致抗蚀剂聚合物包括由下式（I）表示的单体单元：聚合化合物还可包含如本说明书中所述的由式（IIa）至（IIg）表示的单体单元中的至少一种。 光致抗蚀剂聚合物可以表现出对基材的高粘合性，并可高精度地形成精细图案。

公开(公告)号：US20160145371A1

公开(公告)日：2016-05-26

申请号：US14549729

申请日：2014-11-21

申请人： International Business Machines Corporation

发明人： Dylan J. Boday ,  Joseph Kuczynski ,  Timothy C. Mauldin

IPC分类号： C08F299/00 ,  H05K1/03 ,  H05K3/46 ,  H05K1/02

CPC分类号： C08F299/00 ,  C08F232/02 ,  C08J3/24 ,  C08J2343/04 ,  H05K1/034 ,  H05K1/0366 ,  H05K3/0011 ,  H05K3/46 ,  H05K3/4602

摘要： An AB-type block copolymer for use in printed circuit board (PCB) fabrication is provided having a structure represented by the following formula: wherein R1 is a silane pendant group that includes a silicon-containing moiety capable of bonding to a glass surface, and wherein R2 is a matrix-reactive pendant group that includes at least one moiety (e.g., a vinyl-, allyl-, amine-, amide- or epoxy-containing moiety) capable of reacting with a base polymer.

摘要翻译： 提供了一种用于印刷电路板（PCB）制造的AB型嵌段共聚物，其具有由下式表示的结构：其中R1是包含能够结合到玻璃表面的含硅部分的硅烷侧基，以及 其中R2是包含能够与基础聚合物反应的至少一个部分（例如，含乙烯基，烯丙基，胺，酰胺或环氧基的部分）的基质反应性侧基。

公开(公告)号：US09017931B2

公开(公告)日：2015-04-28

申请号：US13968583

申请日：2013-08-16

申请人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

发明人： Koji Hasegawa ,  Jun Hatakeyama ,  Masayoshi Sagehashi ,  Teppei Adachi

IPC分类号： G03F7/38 ,  G03F7/004 ,  C08F228/02 ,  C08F232/02 ,  C07C69/54 ,  C07C219/08 ,  C07C303/32 ,  C07C309/20 ,  G03F7/038 ,  C08F220/38

CPC分类号： G03F7/038 ,  C07C69/54 ,  C07C219/08 ,  C07C303/32 ,  C07C309/20 ,  C08F228/02 ,  C08F232/02 ,  C08F2220/382 ,  G03F7/039 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38 ,  Y10S430/111

摘要： A negative pattern is formed by coating a resist composition comprising a polymer comprising recurring units having a tertiary ester type acid labile group having a plurality of methyl or ethyl groups on alicycle and an acid generator onto a substrate, prebaking, exposing to high-energy radiation, baking, and developing in an organic solvent developer so that the unexposed region of resist film is dissolved away and the exposed region of resist film is not dissolved. The resist composition exhibits a high dissolution contrast during organic solvent development and forms a fine hole or trench pattern of dimensional uniformity.

摘要翻译： 通过将包含聚合物的抗蚀剂组合物包含在基材上，包含具有在脂环上具有多个甲基或乙基的叔酯型酸不稳定基团的重复单元的聚合物，预烘烤，暴露于高能量辐射 ，在有机溶剂显影剂中烘烤和显影，使得抗蚀剂膜的未曝光区域被溶解，并且抗蚀剂膜的曝光区域不溶解。 抗蚀剂组合物在有机溶剂显影期间表现出高的溶解对比度，并形成尺寸均匀性的细孔或沟槽图案。

公开(公告)号：US20130085234A1

公开(公告)日：2013-04-04

申请号：US13683596

申请日：2012-11-21

申请人： Dow Global Technologies LLC

发明人： William J. Harris ,  John D. Weaver ,  Brian W. Walther ,  Stephen F. Hahn ,  Yunwa W. Cheung ,  Pankaj Gupta ,  Thoi H. Ho ,  Kenneth N. Reichek ,  Selim Yalvac ,  Teresa P. Karjala ,  Benjamin R. Rozenblat ,  Cynthia L. Rickey

IPC分类号： C08F10/14

CPC分类号： B32B27/327 ,  B32B27/06 ,  B32B27/32 ,  C08F4/659 ,  C08F4/65908 ,  C08F4/65912 ,  C08F4/65925 ,  C08F4/65927 ,  C08F10/00 ,  C08F10/14 ,  C08F110/02 ,  C08F210/14 ,  C08F210/16 ,  C08F295/00 ,  C08F297/00 ,  C08F297/08 ,  C08F297/083 ,  C08F297/086 ,  C08F2410/01 ,  C08F2410/04 ,  C08F2420/02 ,  C08L23/02 ,  C08L23/06 ,  C08L23/0815 ,  C08L23/0853 ,  C08L23/10 ,  C08L53/00 ,  C08L53/005 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/24992 ,  Y10T428/2826 ,  Y10T428/31573 ,  Y10T428/31587 ,  C08F2/38 ,  C08F4/65904 ,  C08L2666/06 ,  C08F2500/09 ,  C08F2500/03 ,  C08F4/64148 ,  C08F4/64193 ,  C08F4/64048 ,  C08F4/6411 ,  C08F4/64144 ,  C08F2500/08 ,  C08F4/64113 ,  C08L2666/02 ,  C08L2666/04 ,  C08F2500/12 ,  C08F2500/20 ,  C08F210/08 ,  C08F2500/11 ,  C08F2500/21 ,  C08F210/02 ,  C08F212/08 ,  C08F232/02 ,  C08F232/08

摘要： The invention relates to functionalized interpolymers derived from base olefin interpolymers, which are prepared by polymerizing one or more monomers or mixtures of monomers, such as ethylene and one or more comonomers, to form an interpolymer products having unique physical properties. The functionalized olefin interpolymers contain two or more differing regions or segments (blocks), resulting in unique processing and physical properties.

摘要翻译： 本发明涉及衍生自基础烯烃互聚物的官能化互聚物，其通过聚合一种或多种单体或单体混合物如乙烯和一种或多种共聚单体而制备，以形成具有独特物理性质的互聚物产物。 官能化的烯烃互聚物含有两个或多个不同的区域或链段（嵌段），产生独特的加工和物理性能。

公开(公告)号：US20110124818A1

公开(公告)日：2011-05-26

申请号：US12962822

申请日：2010-12-08

申请人： Daniel J. Arriola ,  Edmund M. Carnahan ,  Yunwa Wilson Cheung ,  David D. Devore ,  David D. Graf ,  Phillip D. Hustad ,  Roger L. Kuhlman ,  Colin Li Pi Shan ,  Benjamin C. Poon ,  Gordon R. Roof ,  James C. Stevens ,  Pamela J. Stirn ,  Timothy T. Wenzel

发明人： Daniel J. Arriola ,  Edmund M. Carnahan ,  Yunwa Wilson Cheung ,  David D. Devore ,  David D. Graf ,  Phillip D. Hustad ,  Roger L. Kuhlman ,  Colin Li Pi Shan ,  Benjamin C. Poon ,  Gordon R. Roof ,  James C. Stevens ,  Pamela J. Stirn ,  Timothy T. Wenzel

IPC分类号： C08F210/16 ,  C08F4/30 ,  C08F216/04

CPC分类号： B32B27/327 ,  B32B27/06 ,  B32B27/32 ,  C08F4/659 ,  C08F4/65908 ,  C08F4/65912 ,  C08F4/65925 ,  C08F4/65927 ,  C08F10/00 ,  C08F10/14 ,  C08F110/02 ,  C08F210/14 ,  C08F210/16 ,  C08F295/00 ,  C08F297/00 ,  C08F297/08 ,  C08F297/083 ,  C08F297/086 ,  C08F2410/01 ,  C08F2410/04 ,  C08F2420/02 ,  C08L23/02 ,  C08L23/06 ,  C08L23/0815 ,  C08L23/0853 ,  C08L23/10 ,  C08L53/00 ,  C08L53/005 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/24992 ,  Y10T428/2826 ,  Y10T428/31573 ,  Y10T428/31587 ,  C08F2/38 ,  C08F4/65904 ,  C08L2666/06 ,  C08F2500/09 ,  C08F2500/03 ,  C08F4/64148 ,  C08F4/64193 ,  C08F4/64048 ,  C08F4/6411 ,  C08F4/64144 ,  C08F2500/08 ,  C08F4/64113 ,  C08L2666/02 ,  C08L2666/04 ,  C08F2500/12 ,  C08F2500/20 ,  C08F210/08 ,  C08F2500/11 ,  C08F2500/21 ,  C08F210/02 ,  C08F212/08 ,  C08F232/02 ,  C08F232/08

摘要： A composition for use in forming a multi-block copolymer, said copolymer containing therein two or more segments or blocks differing in chemical or physical properties, a polymerization process using the same, and the resulting polymers, wherein the composition comprises the admixture or reaction product resulting from combining: (A) a first metal complex olefin polymerization catalyst, (B) a second metal complex olefin polymerization catalyst capable of preparing polymers differing in chemical or physical properties from the polymer prepared by catalyst (A) under equivalent polymerization conditions, and (C) a chain shuttling agent.

公开(公告)号：US20040006189A1

公开(公告)日：2004-01-08

申请号：US10375129

申请日：2003-02-28

申请人： Daicel Chemical Industries, Ltd.

发明人： Yoshinori Funaki ,  Kiyoharu Tsutsumi ,  Akira Takaragi

IPC分类号： C08F122/04

CPC分类号： C08F32/08 ,  C08F232/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397

摘要： A photoresist polymeric compound includes a monomer unit represented by following Formula (I): 1 The polymeric compound may further include at least one of monomer units represented by Formulae (IIa) to (IIg) as described in the specification. The photoresist polymeric compound can exhibit high adhesion to substrates and can highly precisely form fine patterns.

摘要翻译： 光致抗蚀剂聚合物包括由下式（I）表示的单体单元：聚合化合物还可包含如本说明书中所述的由式（IIa）至（IIg）表示的单体单元中的至少一种。 光致抗蚀剂聚合物可以表现出对基材的高粘合性，并可高精度地形成精细图案。