公开(公告)号：US20230266666A1

公开(公告)日：2023-08-24

申请号：US17896138

申请日：2022-08-26

申请人： SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

发明人： Katsuhiro KOMURO ,  Saki KATO ,  Koji ICHIKAWA

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07D307/00 ,  C07D333/76 ,  C07D321/10 ,  C07D409/12 ,  C08F220/18

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07D307/00 ,  C07D321/10 ,  C07D333/76 ,  C07D409/12 ,  C08F220/1808 ,  C08F220/1818

摘要： Disclosed are a salt represented by formula (I), an acid generator, and a resist composition including the same:





wherein R4 to R9 each represent a halogen atom, a haloalkyl group, etc., A1, A2 and A3 each represent a hydrocarbon group which may have a substituent, —CH2— included in the group may be replaced by —O—, —CO—, —S—, etc., X4, X5 and X6 each represent —O— or —S—, m1 and m7 represent an integer of 0 to 5, m2, m3, m8 and m9 represent an integer of 0 to 4, m4 to m6 represent an integer of 0 to 3, 0 ≤ m1 + m7 ≤ 5, 0 ≤ m2 + m8 ≤ 4, 0 ≤ m3 + m9 ≤ 4, one or more of m1, m2 and m3 represent an integer of 1 or more, X7 represents a single bond, —CH2—, —O—, —S—, etc., and Al— represents an organic anion.

公开(公告)号：US09829792B2

公开(公告)日：2017-11-28

申请号：US15204145

申请日：2016-07-07

申请人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

发明人： Koji Hasegawa ,  Jun Hatakeyama ,  Teppei Adachi

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/38 ,  C07C69/54 ,  C07C69/73 ,  C08F220/18 ,  C08F220/30 ,  G03F7/039 ,  C08F128/06 ,  C08F116/10 ,  C08F116/14 ,  C08F124/00 ,  C08F116/36 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  C07D307/00 ,  C07C69/76 ,  C07C69/86

CPC分类号： G03F7/0392 ,  C07C69/54 ,  C07C69/73 ,  C07C69/76 ,  C07C69/86 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C07D307/00 ,  C08F116/10 ,  C08F116/14 ,  C08F116/36 ,  C08F124/00 ,  C08F128/06 ,  C08F220/18 ,  C08F220/30 ,  C08F2220/302 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/085 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38

摘要： A polymer comprising recurring units derived from a polymerizable monomer having two structures of hydroxyphenyl methacrylate having a hydroxy group substituted with an acid labile group is used as base resin in a positive resist composition, especially chemically amplified positive resist composition. The resist composition forms a resist film which is processed by lithography into a pattern of good profile having a high resolution, minimal edge roughness, and etch resistance.

公开(公告)号：US20170115566A1

公开(公告)日：2017-04-27

申请号：US15331056

申请日：2016-10-21

申请人： SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

发明人： Jun Hatakeyama ,  Takashi Sasami ,  Masaki Ohashi

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/16 ,  C07D307/00 ,  G03F7/32 ,  C07C309/12 ,  C07J31/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C07C69/74 ,  C07C69/753 ,  C07C69/757 ,  C07C69/78 ,  C07C69/95 ,  C07C205/06 ,  C07C205/11 ,  C07C303/32 ,  C07C309/04 ,  C07C309/06 ,  C07C309/12 ,  C07C309/20 ,  C07C309/24 ,  C07C309/73 ,  C07C2601/02 ,  C07C2601/04 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2601/18 ,  C07C2601/20 ,  C07C2602/08 ,  C07C2602/10 ,  C07C2602/24 ,  C07C2602/28 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/16 ,  C07C2603/18 ,  C07C2603/24 ,  C07C2603/50 ,  C07C2603/68 ,  C07C2603/74 ,  C07C2603/86 ,  C07D307/00 ,  C07J31/006 ,  C07J43/003 ,  C08F228/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/2059

摘要： A resist composition comprising a base resin comprising acid labile group-containing recurring units and preferably acid generator-containing recurring units, and a sodium, magnesium, potassium, calcium, rubidium, strontium, yttrium, cesium, barium or cerium salt of α-fluorinated sulfonic acid bonded to an alkyl, alkenyl, alkynyl or aryl group exhibits a high resolution and sensitivity and forms a pattern of satisfactory profile with minimal LWR after exposure and development.

公开(公告)号：US20170008982A1

公开(公告)日：2017-01-12

申请号：US15204145

申请日：2016-07-07

申请人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

发明人： Koji Hasegawa ,  Jun Hatakeyama ,  Teppei Adachi

IPC分类号： C08F128/06 ,  C08F116/14 ,  C08F124/00 ,  C08F116/36 ,  C07C69/76 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  C07C69/54 ,  C07D307/00 ,  C08F116/10 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0392 ,  C07C69/54 ,  C07C69/73 ,  C07C69/76 ,  C07C69/86 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C07D307/00 ,  C08F116/10 ,  C08F116/14 ,  C08F116/36 ,  C08F124/00 ,  C08F128/06 ,  C08F220/18 ,  C08F220/30 ,  C08F2220/302 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/085 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38

摘要： A polymer comprising recurring units derived from a polymerizable monomer having two structures of hydroxyphenyl methacrylate having a hydroxy group substituted with an acid labile group is used as base resin in a positive resist composition, especially chemically amplified positive resist composition. The resist composition forms a resist film which is processed by lithography into a pattern of good profile having a high resolution, minimal edge roughness, and etch resistance.

摘要翻译： 在正性抗蚀剂组合物，特别是化学增强的正性抗蚀剂组合物中，使用衍生自具有两个具有羟基被酸不稳定基取代的羟基苯基的具有羟基苯基的可聚合单体的重复单元的聚合物。 抗蚀剂组合物形成抗蚀剂膜，其通过光刻加工成具有高分辨率，最小边缘粗糙度和耐蚀刻性的良好轮廓的图案。

公开(公告)号：US09278912B2

公开(公告)日：2016-03-08

申请号：US14023180

申请日：2013-09-10

申请人： REATA PHARMACEUTICALS, INC.

发明人： Xin Jiang ,  Christopher F. Bender ,  Melean Visnick

IPC分类号： A61K31/343 ,  A61K31/16 ,  A61K31/122 ,  C07C69/74 ,  C07C233/58 ,  C07C35/44 ,  C07D307/00 ,  C07C255/47 ,  C07J63/00

CPC分类号： C07C255/47 ,  C07D307/00 ,  C07J63/008

摘要： Disclosed herein are novel C13-hydroxy derivatives of oleanolic acid, including those of the formula: wherein the variables are defined herein. Also provided are pharmaceutical compositions, kits and articles of manufacture comprising such compounds. Methods and intermediates useful for making the compounds, and methods of using the compounds, for example, as antioxidant inflammation modulators, and compositions thereof are also provided.

摘要翻译： 本文公开了齐墩果酸的新C13-羟基衍生物，包括下式的那些：其中变量在本文中定义。 还提供了包含这些化合物的药物组合物，试剂盒和制品。 还提供了可用于制备化合物的方法和中间体，以及使用该化合物的方法，例如抗氧化剂炎症调节剂及其组合物。

公开(公告)号：US20150284404A1

公开(公告)日：2015-10-08

申请号：US14438435

申请日：2013-10-30

申请人： ELI LILLY AND COMPANY

发明人： Francisco Javier Agejas-Chicharro ,  Nuria Diaz Buezo ,  Joseph Michael Gruber ,  Douglas Richard Stack

IPC分类号： C07D491/056 ,  C07D311/76 ,  C07D265/30 ,  C07D265/36 ,  C07D309/04 ,  C07D319/20 ,  C07D307/87

CPC分类号： C07D491/056 ,  C07D207/00 ,  C07D207/14 ,  C07D217/00 ,  C07D217/24 ,  C07D263/00 ,  C07D263/58 ,  C07D265/30 ,  C07D265/36 ,  C07D273/00 ,  C07D307/00 ,  C07D307/22 ,  C07D307/79 ,  C07D307/87 ,  C07D309/00 ,  C07D309/04 ,  C07D311/00 ,  C07D311/58 ,  C07D311/76 ,  C07D319/00 ,  C07D319/12 ,  C07D319/20 ,  C07D491/052

摘要： The present invention provides compounds of Formula I. Wherein R1, L, and A are as described herein, or a pharmaceutical salt thereof, processes for preparing the compounds, and methods of treating a condition, such as hypertriglyceridemia, using the compounds.

摘要翻译： 本发明提供式I化合物，其中R1，L和A如本文所述，或其药学盐，制备化合物的方法，以及使用该化合物治疗诸如高甘油三酯血症的病症的方法。

公开(公告)号：US09102687B2

公开(公告)日：2015-08-11

申请号：US13996989

申请日：2011-12-22

申请人： Gunnar Grue-Sørensen ,  Xifu Liang ,  Thomas Högberg ,  Kristoffer Månsson ,  Per Vedsø ,  Thomas Vifian

发明人： Gunnar Grue-Sørensen ,  Xifu Liang ,  Thomas Högberg ,  Kristoffer Månsson ,  Per Vedsø ,  Thomas Vifian

IPC分类号： C07D405/06 ,  C07D513/04 ,  C07C271/34 ,  C07C271/36 ,  C07C271/38 ,  C07D249/06 ,  C07D261/18 ,  C07D277/32 ,  C07D295/21 ,  C07D309/08 ,  C07D333/38 ,  C07D401/04 ,  C07D471/04 ,  C07D495/04 ,  C07D265/36 ,  C07D271/08 ,  C07D277/587 ,  C07D295/205 ,  C07D307/00 ,  C07D307/94

CPC分类号： C07D261/18 ,  A61K31/365 ,  A61K31/381 ,  A61K31/404 ,  A61K31/415 ,  A61K31/416 ,  A61K31/4192 ,  A61K31/42 ,  A61K31/472 ,  A61K31/502 ,  A61K31/5375 ,  A61K31/538 ,  C07C271/34 ,  C07C271/36 ,  C07C271/38 ,  C07C2603/86 ,  C07D209/08 ,  C07D209/42 ,  C07D213/79 ,  C07D215/50 ,  C07D217/26 ,  C07D231/14 ,  C07D231/56 ,  C07D233/90 ,  C07D237/28 ,  C07D239/28 ,  C07D249/04 ,  C07D249/06 ,  C07D261/20 ,  C07D263/34 ,  C07D265/36 ,  C07D271/08 ,  C07D277/32 ,  C07D277/56 ,  C07D277/587 ,  C07D295/182 ,  C07D295/205 ,  C07D295/21 ,  C07D307/00 ,  C07D307/68 ,  C07D307/94 ,  C07D309/08 ,  C07D333/38 ,  C07D333/40 ,  C07D401/04 ,  C07D405/06 ,  C07D471/04 ,  C07D493/08 ,  C07D495/04 ,  C07D513/04

摘要： The invention relates to compounds of general formula I wherein R is heteroaryl optionally substituted by R7; or R is heterocycloalkyl or heterocycloalkenyl, optionally substituted by R8; or R is X wherein X is —NR11R12; and pharmaceutically acceptable salts, hydrates, or solvates thereof, for use—alone or in combination with one or more other pharmaceutically active compounds—in therapy, for preventing, treating or ameliorating diseases or conditions responsive to stimulation of neutrophil oxidative burst, responsive to stimulation of keratinocyte IL-8 release or responsive to induction of necrosis.

摘要翻译： 本发明涉及通式I的化合物，其中R是任选被R 7取代的杂芳基; 或R是任选被R 8取代的杂环烷基或杂环烯基; 或R为X，其中X为-NR 11 R 12; 其药学上可接受的盐，水合物或溶剂合物，用于单独或与一种或多种其它药学活性化合物组合用于治疗，用于预防，治疗或改善响应刺激的中性粒细胞氧化性突发的反应的疾病或病症 的角质形成细胞IL-8释放或响应于坏死的诱导。

公开(公告)号：US09051248B2

公开(公告)日：2015-06-09

申请号：US13389606

申请日：2010-08-06

申请人： Xianqi Kong ,  Nigel Levens ,  Abderrahim Bouzide ,  Stephane Ciblat ,  Richard Frenette ,  Johanne Renaud

发明人： Xianqi Kong ,  Nigel Levens ,  Abderrahim Bouzide ,  Stephane Ciblat ,  Richard Frenette ,  Johanne Renaud

IPC分类号： C07C309/65 ,  C07D319/06 ,  A61K31/366 ,  A61K31/365 ,  A61K31/255 ,  C07D309/22 ,  A61K31/351 ,  C07C309/05 ,  C07C311/06 ,  C07C311/51 ,  C07D213/64 ,  C07D213/65 ,  C07D231/12 ,  C07D307/33 ,  C07D307/58 ,  C07D307/77 ,  C07D327/10 ,  C07F9/09 ,  C07F9/40

CPC分类号： C07C309/65 ,  A61K31/255 ,  A61K31/351 ,  A61K31/365 ,  A61K31/366 ,  C07C309/05 ,  C07C311/06 ,  C07C311/51 ,  C07C2601/04 ,  C07C2601/14 ,  C07D213/64 ,  C07D213/65 ,  C07D231/12 ,  C07D307/00 ,  C07D307/33 ,  C07D307/58 ,  C07D307/77 ,  C07D309/22 ,  C07D319/06 ,  C07D327/00 ,  C07D327/10 ,  C07F9/091 ,  C07F9/4006 ,  C07F9/4043

摘要： The invention relates to methods, compounds, and compositions for delivering 1,3-propanedisulfonic acid (1,3PDS) in a subject, preferably a human subject. The invention encompasses compounds that will yield or generate 1,3PDS, either in vitro or in vivo. The invention also relates to sulfonate ester prodrugs of 1,3PDS as well as Gemini dimmers and oligomers of 1,3PDS for the prevention or treatment of associated diseases and conditions.

摘要翻译： 本发明涉及在受试者，优选人受试者中递送1,3-丙二磺酸（1,3PDS）的方法，化合物和组合物。 本发明包括在体外或体内产生或产生1,3PDS的化合物。 本发明还涉及1,3PDS的磺酸酯前药以及用于预防或治疗相关疾病和病症的1,3PDS的双子座二聚体和寡聚体。

公开(公告)号：US20140342288A1

公开(公告)日：2014-11-20

申请号：US14282270

申请日：2014-05-20

申请人： JSR CORPORATION

发明人： Hiroshi TOMIOKA ,  Takakazu KIMOTO ,  Yusuke ASANO

IPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C25/18 ,  C07C309/04 ,  C07C309/12 ,  C07C309/13 ,  C07C309/17 ,  C07C309/39 ,  C07C321/28 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C07D307/00 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/327 ,  G03F7/40

摘要： The present invention provides a radiation-sensitive resin composition that contains a polymer having a structural unit that includes an acid-labile group; and an acid generator, wherein the acid generator includes a compound including a sulfonate anion having SO3−, wherein a hydrogen atom or an electron-donating group bonds to an α carbon atom with respect to SO3−, and an electron-withdrawing group bonds to a β carbon atom with respect to SO3−; and a radiation-degradable onium cation. The compound preferably has a group represented by the following formula (1-1) or (1-2). In the following formulae (1-1) and (1-2), R1 and R2 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent electron-donating group. R3 represent a monovalent electron-withdrawing group. R4 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group.

摘要翻译： 本发明提供了含有具有包含酸不稳定基团的结构单元的聚合物的辐射敏感性树脂组合物， 和酸发生剂，其中酸产生剂包括包含具有SO 3 - 的磺酸根阴离子的化合物，其中氢原子或给电子基团相对于SO 3键与α碳原子键合，并且吸电子基团与 一个 碳原子相对于SO3-; 和辐射可降解的鎓阳离子。 该化合物优选具有下式（1-1）或（1-2）表示的基团。 在下式（1-1）和（1-2）中，R 1和R 2各自独立地表示氢原子或一价给电子基团。 R3表示一价吸电子基团。 R4表示氢原子或一价烃基。

公开(公告)号：US08741544B2

公开(公告)日：2014-06-03

申请号：US13589852

申请日：2012-08-20

申请人： Isao Yoshida ,  Yuichi Mukai ,  Koji Ichikawa

发明人： Isao Yoshida ,  Yuichi Mukai ,  Koji Ichikawa

IPC分类号： G03F7/00 ,  C07C317/06 ,  C07C309/19 ,  C07C309/07

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C309/06 ,  C07C309/10 ,  C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C07D307/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A photoresist composition containing a resin that is hardly soluble or insoluble, but which is soluble in an aqueous alkali solution by action of an acid, and a salt represented by formula (I): wherein Q1, Q2, L1, W1, W2, R1, R2, t1 and t2 are defined in the specification, and Z+ represents an organic cation.

摘要翻译： 含有难溶性或不溶性但通过酸作用而溶于碱性水溶液的树脂的光致抗蚀剂组合物和式（I）表示的盐：其中Q1，Q2，L1，W1，W2，R1 在说明书中定义了R2，t1和t2，Z +表示有机阳离子。