公开(公告)号：US12001139B2

公开(公告)日：2024-06-04

申请号：US17381405

申请日：2021-07-21

申请人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

发明人： Jun Hatakeyama ,  Tomomi Watanabe

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07C43/29 ,  C07C43/295 ,  C07C53/15 ,  C07C59/115 ,  C07C63/70 ,  C07C65/05 ,  C07C69/63 ,  C07C205/58 ,  C07C229/60 ,  C07C311/09 ,  C07D205/04 ,  C07D295/13 ,  C08F220/18 ,  C08F220/22 ,  C08F220/30 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C43/29 ,  C07C43/295 ,  C07C53/15 ,  C07C59/115 ,  C07C63/70 ,  C07C65/05 ,  C07C69/63 ,  C07C205/58 ,  C07C229/60 ,  C07C311/09 ,  C07D205/04 ,  C07D295/13 ,  C08F220/1804 ,  C08F220/22 ,  C08F220/30 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392

摘要： A resist composition is provided comprising a base polymer and a quencher comprising a cyclic ammonium salt having a fluorinated saturated hydrocarbyl group or fluorinated aryl group. The resist composition has a high sensitivity and forms a pattern with improved LWR or CDU, independent of whether it is of positive or negative tone.

公开(公告)号：US20240174818A1

公开(公告)日：2024-05-30

申请号：US18523580

申请日：2023-11-29

申请人： Massachusetts Institute of Technology

发明人： Ruixuan Gao ,  Linyi Gao ,  Chih-Chieh Yu ,  Edward Stuart Boyden

IPC分类号： C08J3/075 ,  C08F8/00 ,  C08F8/12 ,  C08F8/30 ,  C08F8/44 ,  C08F222/10 ,  C08G65/26 ,  C08G65/32 ,  C08G81/02 ,  C08J3/24 ,  C12Q1/68 ,  C12Q1/6834 ,  C12Q1/6841 ,  C12Q1/6869 ,  G01N1/30 ,  G01N33/545 ,  C08F220/04 ,  C08F220/30 ,  C08F220/34 ,  G01N1/36 ,  G01N15/0205

CPC分类号： C08J3/075 ,  C08F8/00 ,  C08F8/12 ,  C08F8/30 ,  C08F8/44 ,  C08F222/104 ,  C08G65/2624 ,  C08G65/32 ,  C08G81/025 ,  C08J3/246 ,  C12Q1/68 ,  C12Q1/6834 ,  C12Q1/6841 ,  C12Q1/6869 ,  G01N1/30 ,  G01N33/545 ,  C08F220/04 ,  C08F220/303 ,  C08F220/346 ,  C08F2438/01 ,  C08G2210/00 ,  C08J2300/206 ,  C08J2400/206 ,  C12Q2523/101 ,  G01N1/36 ,  G01N15/0205

摘要： The invention encompasses hydrogels, monomer precursors of the hydrogels, methods for the preparation thereof, and methods of use therefor. The linking of monomers can take place using non-radical, bioorthogonal reactions such as copper-free click-chemistry.

公开(公告)号：US11987654B2

公开(公告)日：2024-05-21

申请号：US18085404

申请日：2022-12-20

申请人： Trustees of Dartmouth College

发明人： Ivan Abrahamian ,  Sirun Yang ,  Laura L. Jeliazkov ,  Jared D. Harris

IPC分类号： C08F20/36 ,  C08F8/48 ,  C08F16/28 ,  C08F18/22 ,  C08F20/34 ,  C08F22/22 ,  C08F220/30 ,  C08F220/34 ,  C08F220/36 ,  C08F222/22 ,  C08F20/60 ,  C08F120/34 ,  C08F120/36 ,  C08F120/60 ,  C08F122/16 ,  C08F122/22 ,  C08F212/14 ,  C08F218/00

CPC分类号： C08F20/36 ,  C08F8/48 ,  C08F16/28 ,  C08F18/22 ,  C08F20/34 ,  C08F22/22 ,  C08F220/30 ,  C08F220/34 ,  C08F220/36 ,  C08F222/22 ,  C08F20/60 ,  C08F120/34 ,  C08F120/36 ,  C08F120/60 ,  C08F122/16 ,  C08F122/22 ,  C08F212/26 ,  C08F218/22 ,  C08F222/225

摘要： In an embodiment, the present disclosure pertains to a method of changing the glass transition temperature of a polymer. In some embodiments, the polymer includes at least one hydrazone-containing compound. In general, the methods of the present disclosure include one or more of the following steps of: (1) applying light to the polymer; and (2) thereby changing the glass transition temperature of the polymer. In another embodiment, the present disclosure pertains to a polymer having a light-adjustable glass transition temperature. In some embodiments, the polymer includes at least one hydrazone-containing compound.

公开(公告)号：US11914248B2

公开(公告)日：2024-02-27

申请号：US17092316

申请日：2020-11-08

申请人： FUJIFILM Corporation

发明人： Yutaka Nozoe ,  Takashi Iizumi ,  Kazushige Nakagawa ,  Takahiro Kato ,  Miho Asahi ,  Hirofumi Omura ,  Yuki Hirai

IPC分类号： G02F1/1337 ,  C08F220/60 ,  C08F220/32 ,  C08F220/36 ,  G02F1/01 ,  C08F220/30 ,  C08F220/58 ,  C08F220/28

CPC分类号： G02F1/133711 ,  C08F220/30 ,  C08F220/32 ,  C08F220/325 ,  C08F220/36 ,  C08F220/365 ,  C08F220/58 ,  C08F220/603 ,  G02F1/0136 ,  G02F1/13378 ,  C08F220/281 ,  C09K2323/02 ,  G02F2202/022 ,  C08F220/603 ,  C08F220/40 ,  C08F220/603 ,  C08F220/281 ,  C08F220/58 ,  C08F220/32 ,  C08F220/32 ,  C08F220/58 ,  C08F220/281 ,  C08F220/603 ,  C08F220/40 ,  C08F220/603

摘要： An object of the invention is to provide a photo-alignment copolymer which makes it possible to produce a photo-alignment film having excellent solvent resistance and liquid crystal aligning properties, and a photo-alignment film and an optical laminate produced using the photo-alignment copolymer. A photo-alignment copolymer of the invention is a photo-alignment copolymer having a repeating unit A including a photo-alignment group represented by Formula (A) and a repeating unit B including a crosslinkable group represented by Formula (B).

公开(公告)号：US20240059903A1

公开(公告)日：2024-02-22

申请号：US18268807

申请日：2022-02-28

申请人： SUN CHEMICAL CORPORATION

发明人： Jürgen DIEKER ,  Florian MAESING

IPC分类号： C09D4/00 ,  C08F220/30 ,  C08F222/10 ,  C08G65/331 ,  C09D133/14 ,  C09D135/02 ,  C09D11/107 ,  C09D11/101 ,  C09D11/38 ,  B65D65/42

CPC分类号： C09D4/00 ,  C08F220/302 ,  C08F222/1063 ,  C08F222/103 ,  C08G65/331 ,  C09D133/14 ,  C09D135/02 ,  C09D11/107 ,  C09D11/101 ,  C09D11/38 ,  B65D65/42

摘要： The present invention relates to a new class of photoinitiator compositions, which are especially suited for use in low migration packaging materials. The present invention also relates to inks, coatings, varnishes and adhesives made therefrom.

公开(公告)号：US11873374B2

公开(公告)日：2024-01-16

申请号：US16267849

申请日：2019-02-05

申请人： Massachusetts Institute of Technology

发明人： Ruixuan Gao ,  Linyi Gao ,  Chih-Chieh Yu ,  Edward Stuart Boyden

IPC分类号： C08J3/075 ,  C08G65/26 ,  C12Q1/6834 ,  C12Q1/6841 ,  G01N33/545 ,  C08G81/02 ,  C08F8/12 ,  G01N1/30 ,  C08J3/24 ,  C12Q1/68 ,  C08F8/30 ,  C08G65/32 ,  C12Q1/6869 ,  C08F8/44 ,  C08F8/00 ,  C08F222/10 ,  C08F220/04 ,  G01N15/02 ,  G01N1/36 ,  C08F220/30 ,  C08F220/34

CPC分类号： C08J3/075 ,  C08F8/00 ,  C08F8/12 ,  C08F8/30 ,  C08F8/44 ,  C08F222/104 ,  C08G65/2624 ,  C08G65/32 ,  C08G81/025 ,  C08J3/246 ,  C12Q1/68 ,  C12Q1/6834 ,  C12Q1/6841 ,  C12Q1/6869 ,  G01N1/30 ,  G01N33/545 ,  C08F220/04 ,  C08F220/303 ,  C08F220/346 ,  C08F2438/01 ,  C08G2210/00 ,  C08J2300/206 ,  C08J2400/206 ,  C12Q2523/101 ,  G01N1/36 ,  G01N15/0205 ,  C08F8/12 ,  C08F8/30 ,  C08F20/18 ,  C08F8/12 ,  C08F8/00 ,  C08F8/04 ,  C08F8/30 ,  C08F20/18 ,  C08F8/44 ,  C08F8/30 ,  C08F20/18 ,  C08F8/44 ,  C08F8/00 ,  C08F8/04 ,  C08F8/30 ,  C08F20/18 ,  C12Q1/6869 ,  C12Q2521/107 ,  C12Q2525/191 ,  C12Q2527/125 ,  C12Q2543/101

摘要： The invention encompasses hydrogels, monomer precursors of the hydrogels, methods for the preparation thereof, and methods of use therefor. The linking of monomers can take place using non-radical, bioorthogonal reactions such as copper-free click-chemistry.

公开(公告)号：US20230400767A1

公开(公告)日：2023-12-14

申请号：US18239399

申请日：2023-08-29

申请人： JSR CORPORATION

发明人： Takuya OMIYA ,  Katsuaki NISHIKORI ,  Kazuya KIRIYAMA ,  Natsuko KINOSHITA ,  Tetsurou KANEKO

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  C08F212/14 ,  C07C69/54 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/22 ,  C08F220/30 ,  C08F220/34

CPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0045 ,  C08F212/24 ,  C07C69/54 ,  C08F220/1805 ,  C08F220/1806 ,  C08F220/1807 ,  C08F220/1808 ,  C08F220/1809 ,  C08F220/24 ,  C08F220/1811 ,  C08F220/22 ,  C08F220/301 ,  C08F220/1812 ,  C08F220/1818 ,  C08F220/34

摘要： A radiation-sensitive resin composition includes: a polymer including a first structural unit represented by formula (1); and a radiation-sensitive acid generator. In the formula (1), R1 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group; R2, R3, and R4 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms; R5 represents a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms; and L represents a single bond or a divalent organic group having 1 to 20 carbon atoms.

公开(公告)号：US11807701B2

公开(公告)日：2023-11-07

申请号：US16892980

申请日：2020-06-04

申请人： The Regents of the University of California ,  Hydrophilix, Inc.

发明人： Brian T. McVerry ,  Ethan Rao ,  Richard B. Kaner ,  Na He

IPC分类号： C08F220/34 ,  C08F220/30 ,  C08F293/00 ,  C09D153/00 ,  A61L29/08 ,  C09D5/00 ,  C08F220/38

CPC分类号： C08F220/30 ,  A61L29/085 ,  C08F220/34 ,  C08F220/382 ,  C08F293/005 ,  C09D5/00 ,  C09D153/00 ,  A61L2420/02 ,  C08F2438/01

摘要： Disclosed herein are compositions to use in biofouling-resistant coatings, biofouling-resistant coatings, methods of making biofouling-resistant coatings, biofouling-resistant devices, and methods of making biofouling-resistant devices.

公开(公告)号：US11719866B2

公开(公告)日：2023-08-08

申请号：US17095533

申请日：2020-11-11

申请人： CANON KABUSHIKI KAISHA

发明人： Mamo Matsumoto

IPC分类号： G02B5/18 ,  C08G75/045 ,  C08F220/30

CPC分类号： G02B5/1842 ,  C08F220/303 ,  C08G75/045 ,  G02B5/1857

摘要： Diffractive optical element includes two resin layers stacked on first substrate. One of the two resin layers is cured article of first resin containing thiol group and sulfide group, the cured article having diffraction grating shape. The other is cured article of second resin, the cured article having diffraction grating shape. When measurement is performed by laser Raman spectroscopy, α

公开(公告)号：US11693161B2

公开(公告)日：2023-07-04

申请号：US17095533

申请日：2020-11-11

申请人： CANON KABUSHIKI KAISHA

发明人： Mamo Matsumoto

IPC分类号： G02B5/18 ,  C08G75/045 ,  C08F220/30

CPC分类号： G02B5/1842 ,  C08F220/303 ,  C08G75/045 ,  G02B5/1857

摘要： Diffractive optical element includes two resin layers stacked on first substrate. One of the two resin layers is cured article of first resin containing thiol group and sulfide group, the cured article having diffraction grating shape. The other is cured article of second resin, the cured article having diffraction grating shape. When measurement is performed by laser Raman spectroscopy, α