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公开(公告)号：CN109324408A
公开(公告)日：2019-02-12
申请号：CN201810838315.1
申请日：2018-07-27
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 崔长植
CPC classification number: G02B27/0043 , G02B26/0825 , G02B27/0983 , G03B21/28 , G03F7/70266
Abstract: 本发明涉及光学设备、投影光学系统、曝光装置和物品制造方法。光学设备包含反射镜和被配置为使反射镜的反射表面的形状变形的多个致动器。所述多个致动器中的至少一些被布置在多个同心圆上，所述多个同心圆以当同心圆的位置被定位为越远离反射镜的反射表面的中心时同心圆被越致密地布置的方式被布置，并且，所述多个致动器中的至少一些沿同心圆的圆周方向以均等的间隔被布置。
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公开(公告)号：CN103038708B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201180037433.9
申请日：2011-07-28
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司 , ASML荷兰有限公司
Inventor： N·贝尔 , U·勒尔林 , O·纳特 , G·维蒂希 , T·劳弗尔 , P·屈尔兹 , G·林巴赫 , S·亨巴赫尔 , H·沃尔特 , Y-B-P·关 , M·豪夫 , F-J·施蒂克尔 , J·凡舒特
CPC classification number: G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
Abstract: 一种EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，具有至少两个反射光学元件，每个反射光学元件包括主体和反射表面，用于在以EUV光的曝光功率对投影透镜曝光时，将分划板上的物场投影到衬底上的像场上，其中至少两个反射光学元件的主体包括具有与温度相关的热膨胀系数的材料，热膨胀系数在相应的零交叉温度处为零，并且其中零交叉温度之间的差异的绝对值大于6K。
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公开(公告)号：CN104267495A
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201410453043.5
申请日：2009-10-06
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G03F7/70116 , G02B26/0841 , G02B27/0043 , G03B27/72 , G03F7/70075 , G03F7/702 , G03F7/70525
Abstract: 微光刻投射曝光设备的照明系统(10)中的微反射镜阵列(22)的微反射镜(24)，可关于两个倾斜轴(x、y)通过各倾斜角度(αx、αy)倾斜。微反射镜(24)被分配三个驱动器(E1、E2、E3)，所述三个驱动器可以通过控制信号(U1、U2、U3)被分别驱动，从而使得微反射镜(24)关于所述两个倾斜轴(x、y)倾斜。规定两个控制变量(SGx、SGy)，其每个被分配给一个倾斜轴(x、y)且其两者被分配给未被干扰的倾斜角度(αx、αy)。对于两个控制变量(SGx、SGy)的任何希望的组合，根据两个控制变量(SGx、SGy)，选择三个驱动器中的一个驱动器(E1)并将其控制信号(U1)设为常数值，具体地0。确定控制信号(U1、U2、U3)，使得当控制信号(U1、U2、U3)被施加到其它两个驱动器(E2、E3)时，微反射镜(24)根据两个控制变量(SGx、SGy)采用未被干扰倾斜角度(αx、αy)。
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公开(公告)号：CN100582945C
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：CN200510113796.2
申请日：2005-10-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70341 , G02B5/3091 , G02B27/0043 , G03F7/70191 , G03F7/70566 , G03F7/70966
Abstract: 为了补偿光刻投影设备中掩模的双折射，对掩模的双折射进行测量并将其作为双折射数据存储在数据存储装置中。将双折射补偿元件布置在光刻投影设备的光路中。按照所述调节能够在衬底级条件下最佳降低掩模双折射对极化状态的影响来确定对所述补偿元件的恰当的调节。
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公开(公告)号：CN1760763A
公开(公告)日：2006-04-19
申请号：CN200510113796.2
申请日：2005-10-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70341 , G02B5/3091 , G02B27/0043 , G03F7/70191 , G03F7/70566 , G03F7/70966
Abstract: 为了补偿光刻投影设备中掩模的双折射，对掩模的双折射进行测量并将其作为双折射数据存储在数据存储装置中。将双折射补偿元件布置在光刻投影设备的光路中。按照所述调节能够在衬底级条件下最佳降低掩模双折射对极化状态的影响来确定对所述补偿元件的恰当的调节。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108351513A
公开(公告)日：2018-07-31
申请号：CN201680062181.8
申请日：2016-08-31
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： H.门兹
CPC classification number: G02B27/005 , G02B5/1814 , G02B13/0035 , G02B13/14 , G02B27/0043 , G03F7/70241
Abstract: 一种用于场成像和/或光瞳成像的光学系统(10)包括光轴(16；46)、光阑平面(18；38)以及像平面(20；40)。该光学系统包括透镜系统(11；37)，该透镜系统具有三个透镜组(14a，b，c；42a，b，c)，每个透镜组具有至少一个透镜，这些透镜组被安排成在该光阑平面(18；38)与该像平面(20；40)之间沿着该光轴(16；46)是彼此间隔开的，其中，这三个透镜组(14a，b，c；42a，b，c)具有第一透镜材料和/或与该第一透镜材料不同的第二透镜材料。该透镜元件系统(11；37)被进一步设计为傅立叶光学单元(12；36)，该傅立叶光学单元另外包括进一步透镜组(14d；42d)，该进一步透镜组被安排成在该光阑平面(18；38)与该像平面(20；40)之间沿着该光轴(16；46)与这三个透镜组(14a，b，c；42a，b，c)彼此间隔开并且具有至少一个透镜，该进一步透镜组包括该第一透镜材料和/或该第二透镜材料，其中，该傅里叶光学单元(12；36)的这四个透镜组(14a，c；42b，d)中的两个被设计为与该场成像和/或该光瞳成像的纵向色差有关的第一和第二颜色欠校正透镜组，其中，该傅里叶光学单元(12；36)的这四个透镜组(14b，d；42a，c)中的另外两个被设计为第一和第二颜色过校正透镜组，其中，该傅里叶光学单元(12；36)具有颜色欠校正透镜元件组和颜色过校正透镜元件组在各自情况下的交替序列。
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公开(公告)号：CN106716255A
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201580051801.3
申请日：2015-06-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： N·J·M·范德纽维拉尔 , V·M·布兰科卡巴洛 , C·R·德格鲁特 , R·H·J·屈斯泰 , D·M·菲利普斯 , F·A·范德桑德 , P·L·J·岗特尔 , E·H·E·C·尤姆麦伦 , Y·J·G·范德维基沃尔 , B·D·斯霍尔滕 , M·武泰 , R·F·科克斯 , J·A·维埃拉萨拉斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G02B27/0043 , G03F7/2043 , G03F7/70358 , G03F7/70725 , G03F7/70858 , G03F7/70925
Abstract: 一种浸没式光刻设备具有控制器(500)，所述控制器(500)被配置用以控制衬底台(WT)沿着曝光路线移动，所述曝光路线按次序包括：进入运动(R2)，其中衬底从浸没空间(10)不与所述衬底重叠的衬底外位置移动至所述浸没空间与所述衬底至少部分地重叠的衬底上位置；转移运动(R3，R4)，其中所述衬底台在所述衬底移动至所述衬底上位置之后改变速度和/或方向且移动至少一转移时间；和曝光运动，其中扫描所述衬底且使图案化的束投影至所述衬底上，其中贯穿所述转移运动，所述浸没空间的至少一部分与所述衬底重叠，且其中所述图案化的束在所述进入运动及所述转移运动期间没有被投影至所述衬底上。
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公开(公告)号：CN102177460A
公开(公告)日：2011-09-07
申请号：CN200980139821.0
申请日：2009-10-06
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: G02B26/08
CPC classification number: G03F7/70116 , G02B26/0841 , G02B27/0043 , G03B27/72 , G03F7/70075 , G03F7/702 , G03F7/70525
Abstract: 微光刻投射曝光设备的照明系统(10)中的微反射镜阵列(22)的微反射镜(24)，可关于两个倾斜轴(x、y)通过各倾斜角度(αx、αy)倾斜。微反射镜(24)被分配三个驱动器(E1、E2、E3)，所述三个驱动器可以通过控制信号(U1、U2、U3)被分别驱动，从而使得微反射镜(24)关于所述两个倾斜轴(x、y)倾斜。规定两个控制变量(SGx、SGy)，其每个被分配给一个倾斜轴(x、y)且其两者被分配给未被干扰的倾斜角度(αx、αy)。对于两个控制变量(SGx、SGy)的任何希望的组合，根据两个控制变量(SGx、SGy)，选择三个驱动器中的一个驱动器(E1)并将其控制信号(U1)设为常数值，具体地0。确定控制信号(U1、U2、U3)，使得当控制信号(U1、U2、U3)被施加到其它两个驱动器(E2、E3)时，微反射镜(24)根据两个控制变量(SGx、SGy)采用未被干扰倾斜角度(αx、αy)。
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公开(公告)号：CN100427994C
公开(公告)日：2008-10-22
申请号：CN200480007623.6
申请日：2004-03-22
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 三轮聪
CPC classification number: G03F7/70958 , G02B3/06 , G02B27/0043 , G02F1/353 , G02F1/3532 , G02F2001/354 , G03F7/70025 , G03F7/70575 , G03F7/70666 , G03F7/708 , G03F7/70825 , G03F7/70941 , G03F7/70983
Abstract: 柱状透镜11a和11b的母线方向垂直于光轴且彼此垂直。结果，组合柱状透镜11a和11b的光学系统可以实现与球面透镜相同的光学效果。此系统的特征在于如下事实：即因为各个透镜为柱状透镜，所以即使透镜在母线方向移动，光轴也没有移位。例如，在透镜上的划伤变得显著的情况下，可以通过移动机构(图中未示出)例如配备有测微仪的平台将透镜在母线方向(箭头所示的方向)上移动并利用透镜的未使用部分而延长激光器装置的使用寿命。
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公开(公告)号：CN1484757A
公开(公告)日：2004-03-24
申请号：CN01821648.X
申请日：2001-12-27
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 塚越敏雄
IPC: G01M11/00 , G03F7/20 , H01L21/027 , G02B7/00
CPC classification number: G03F7/705 , G02B7/023 , G02B27/0043 , G02B27/0068 , G03F7/70258 , G03F7/70591 , G03F7/706
Abstract: 当输入投影光学系统(PL)的波前象差的实际测量数据时，主控制器(50)根据该数据和输入之前制作的成象特性泽尔尼克变量表计算投影光学系统的靶成象特性。通过利用泽尔尼克变量表，可以只用一次测量波前象差来计算靶成象特性。而且还提前获得表示可调节的特定光学元件(131～134)的调节与投影光学系统的成象特性的变化之间关系的参数，并将其提前储存在存储单元(42)中。然后，当输入投影光学系统的成象特性的测量数据时，主控制器利用测量数据、参数和特定光学元件的靶调节量之间的关系表达式计算特定光学元件的靶调节量，并且根据计算结果调节特定光学元件。
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