Invention Publication
- Patent Title: 成象特性测量法、成象特性调节法、曝光法及设备、程序和存储介质以及器件制造方法
- Patent Title (English): Imaging characteristics measuring method, imaging characteristics adjusting method, exposure method and equipment, program and recording medium, and device producing method
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Application No.: CN01821648.XApplication Date: 2001-12-27
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Publication No.: CN1484757APublication Date: 2004-03-24
- Inventor: 塚越敏雄
- Applicant: 株式会社尼康
- Applicant Address: 日本东京
- Assignee: 株式会社尼康
- Current Assignee: 株式会社尼康
- Current Assignee Address: 日本东京
- Agency: 中原信达知识产权代理有限责任公司
- Agent 武玉琴; 顾红霞
- Priority: 402657/2000 2000.12.28 JP; 402686/2000 2000.12.28 JP; 359096/2001 2001.11.26 JP; 359103/2001 2001.11.26 JP
- International Application: PCT/JP2001/11588 2001.12.27
- International Announcement: WO2002/054036 JA 2002.07.11
- Date entered country: 2003-06-30
- Main IPC: G01M11/00
- IPC: G01M11/00 ; G03F7/20 ; H01L21/027 ; G02B7/00

Abstract:
当输入投影光学系统(PL)的波前象差的实际测量数据时,主控制器(50)根据该数据和输入之前制作的成象特性泽尔尼克变量表计算投影光学系统的靶成象特性。通过利用泽尔尼克变量表,可以只用一次测量波前象差来计算靶成象特性。而且还提前获得表示可调节的特定光学元件(131~134)的调节与投影光学系统的成象特性的变化之间关系的参数,并将其提前储存在存储单元(42)中。然后,当输入投影光学系统的成象特性的测量数据时,主控制器利用测量数据、参数和特定光学元件的靶调节量之间的关系表达式计算特定光学元件的靶调节量,并且根据计算结果调节特定光学元件。
Public/Granted literature
- CN100346150C 成象状态调节法、曝光法及设备以及器件制造方法 Public/Granted day:2007-10-31
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