Invention Publication
- Patent Title: 光学设备、投影光学系统、曝光装置和物品制造方法
- Patent Title (English): Optical device, projection optical system, exposure apparatus, and method for manufacturing article
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Application No.: CN201810838315.1Application Date: 2018-07-27
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Publication No.: CN109324408APublication Date: 2019-02-12
- Inventor: 崔长植
- Applicant: 佳能株式会社
- Applicant Address: 日本东京
- Assignee: 佳能株式会社
- Current Assignee: 佳能株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京
- Agency: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- Agent 杨小明
- Priority: 2017-149540 2017.08.01 JP
- Main IPC: G02B26/08
- IPC: G02B26/08 ; G03F7/20

Abstract:
本发明涉及光学设备、投影光学系统、曝光装置和物品制造方法。光学设备包含反射镜和被配置为使反射镜的反射表面的形状变形的多个致动器。所述多个致动器中的至少一些被布置在多个同心圆上,所述多个同心圆以当同心圆的位置被定位为越远离反射镜的反射表面的中心时同心圆被越致密地布置的方式被布置,并且,所述多个致动器中的至少一些沿同心圆的圆周方向以均等的间隔被布置。
Public/Granted literature
- CN109324408B 光学设备、投影光学系统、曝光装置和物品制造方法 Public/Granted day:2021-06-01
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