公开(公告)号：CN101794079A

公开(公告)日：2010-08-04

申请号：CN200910253825.3

申请日：2009-12-08

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： T·E·J·克娜蓬 ,  R·J·布鲁斯 ,  Y·J·L·M·范多麦伦 ,  J·H·W·雅克布斯 ,  M·H·卡姆普斯 ,  P·M·M·利布瑞格特斯 ,  R·A·J·马斯 ,  M·K·斯塔文卡 ,  C·C·W·沃斯帕盖特 ,  R·J·M·皮伦斯 ,  J·C·范德豪文 ,  D·L·恩斯陶特兹 ,  G-J·G·J·T·布朗德斯 ,  M·J·范德赞登 ,  V·K·巴达姆 ,  C·R·德格鲁特

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70925 ,  G03B27/52 ,  G03F7/70341

Abstract: 本发明提供一种光刻设备和器件制造方法。所述光刻设备具有包括目标和/或传感器的台，和用以采用局部气流从目标和/或传感器转移液体的液体转移装置。液体转移装置可以定位在多个位置处，例如安装在曝光站处的液体处理装置、邻近曝光站和测量站之间的传递路径或位于曝光站和测量站之间的移动路径中、以及位于装载/卸载站处或邻近传感器。

公开(公告)号：CN106716255A

公开(公告)日：2017-05-24

申请号：CN201580051801.3

申请日：2015-06-30

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·J·M·范德纽维拉尔 ,  V·M·布兰科卡巴洛 ,  C·R·德格鲁特 ,  R·H·J·屈斯泰 ,  D·M·菲利普斯 ,  F·A·范德桑德 ,  P·L·J·岗特尔 ,  E·H·E·C·尤姆麦伦 ,  Y·J·G·范德维基沃尔 ,  B·D·斯霍尔滕 ,  M·武泰 ,  R·F·科克斯 ,  J·A·维埃拉萨拉斯

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G02B27/0043 ,  G03F7/2043 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70925

Abstract: 一种浸没式光刻设备具有控制器(500)，所述控制器(500)被配置用以控制衬底台(WT)沿着曝光路线移动，所述曝光路线按次序包括：进入运动(R2)，其中衬底从浸没空间(10)不与所述衬底重叠的衬底外位置移动至所述浸没空间与所述衬底至少部分地重叠的衬底上位置；转移运动(R3，R4)，其中所述衬底台在所述衬底移动至所述衬底上位置之后改变速度和/或方向且移动至少一转移时间；和曝光运动，其中扫描所述衬底且使图案化的束投影至所述衬底上，其中贯穿所述转移运动，所述浸没空间的至少一部分与所述衬底重叠，且其中所述图案化的束在所述进入运动及所述转移运动期间没有被投影至所述衬底上。

公开(公告)号：CN106716255B

公开(公告)日：2019-06-14

申请号：CN201580051801.3

申请日：2015-06-30

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·J·M·范德纽维拉尔 ,  V·M·布兰科卡巴洛 ,  C·R·德格鲁特 ,  R·H·J·屈斯泰 ,  D·M·菲利普斯 ,  F·A·范德桑德 ,  P·L·J·岗特尔 ,  E·H·E·C·尤姆麦伦 ,  Y·J·G·范德维基沃尔 ,  B·D·斯霍尔滕 ,  M·武泰 ,  R·F·科克斯 ,  J·A·维埃拉萨拉斯

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G02B27/0043 ,  G03F7/2043 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70925

Abstract: 一种浸没式光刻设备具有控制器(500)，所述控制器(500)被配置用以控制衬底台(WT)沿着曝光路线移动，所述曝光路线按次序包括：进入运动(R2)，其中衬底从浸没空间(10)不与所述衬底重叠的衬底外位置移动至所述浸没空间与所述衬底至少部分地重叠的衬底上位置；转移运动(R3，R4)，其中所述衬底台在所述衬底移动至所述衬底上位置之后改变速度和/或方向且移动至少一转移时间；和曝光运动，其中扫描所述衬底且使图案化的束投影至所述衬底上，其中贯穿所述转移运动，所述浸没空间的至少一部分与所述衬底重叠，且其中所述图案化的束在所述进入运动及所述转移运动期间没有被投影至所述衬底上。