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公开(公告)号：CN109358474A
公开(公告)日：2019-02-19
申请号：CN201811418269.6
申请日：2018-11-26
申请人： 合肥芯碁微电子装备有限公司
发明人： 魏云飞
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70491 , G03F7/70383 , G03F7/70925
摘要： 本发明公开了一种用于激光直写曝光机气动门的控制装置及控制方法，属于激光直写曝光技术领域，包括A气动门主体、B气动门主体、A控制阀门、B控制阀门、控制装置和供气调节管路；A气动门主体的气路接口与A控制阀门连接，A气动门主体的磁性开关接口与控制装置的DI接口连接；A控制阀门气路接口与供气调节管路输出连接，A控制阀门的控制接口与控制装置的DO接口连接；B气动门主体的气路接口与B控制阀门连接，B气动门主体的磁性开关接口与控制装置的DI接口连接；B控制阀门气路接口与供气调节管路输出连接，B控制阀门的控制接口与控制装置的DO接口连接。本发明可实现气动门稳定平滑控制。
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公开(公告)号：CN108398858A
公开(公告)日：2018-08-14
申请号：CN201810231517.X
申请日：2018-03-20
申请人： 李笛
发明人： 李笛
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925 , G03F7/70933
摘要： 本发明公开了一种气体隔离装置及隔离方法，用于抑制低清洁腔室中的污染物向高清洁腔室的扩散。所述气体隔离装置是一个两端开口的管道结构，其宽口端与高清洁腔室连接，窄口端与低清洁腔室连接。所述气体隔离装置一面侧壁上开有两层充气口，用于向隔离结构内充气；对面侧壁上开有一层抽气口，用于抽走隔离结构内的部分气体。本发明通过气流对污染物扩散的双重抑制作用以及气流对污染物的裹挟排除作用，更好的抑制了污染物的扩散。
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公开(公告)号：CN106773528A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201611193376.4
申请日：2016-12-21
申请人： 武汉华星光电技术有限公司
发明人： 祖伟
CPC分类号： G03F1/82 , G03F7/70925
摘要： 本发明公开了一种掩膜板自动清洗系统以及方法，该自动清洗系统包括：曝光机控制端，与对应的曝光机相连接，用于控制所述曝光机的曝光制程、以及监控曝光机内每一掩膜板的使用次数；清洗装置，用以清洗所述掩膜板；主控装置，连接至所述曝光机控制端与所述清洗装置，所述主控装置根据每一所述曝光机中即将使用的掩膜板信息控制所述清洗装置提前清洗即将使用的掩膜板，并在监测到所述曝光机中的掩膜板的使用次数达到一预设次数时，自动发出掩膜板清洗提醒。该清洗系统及方法可提前清洗待使用掩膜板，并根据掩膜板的使用情况发起清洗提醒，不但节省了人力，并且可及时清洁可能影响曝光效果的掩膜板，提升产能。
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公开(公告)号：CN106483772A
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201510860745.X
申请日：2015-11-30
申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70866 , G03F7/70925
摘要： 一种微影术系统及其使用方法，微影术系统包括一负载锁定腔室，此负载锁定腔室包括配置用以接收遮罩的开口；曝光模块，其配置用以经由使用遮罩，使半导体晶圆曝露于光源；及清洗模块，其嵌入在此微影术工具内，此清洗模块配置用以自遮罩清洗碳粒子。本发明内容可提供一种用于高级微影术技术中，保持遮罩干净且无缺陷的方法。此方法所形成的干净无缺陷遮罩，可提升微影术工艺的良率与精准度。
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公开(公告)号：CN106054539A
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201610412727.X
申请日：2016-06-13
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925 , G03F7/70716
摘要： 本发明涉及曝光机技术领域，提供了一种承载工作台。该承载工作台包括用于自动清洗台面的擦拭设备和用于干燥台面的干燥设备。通过擦拭设备可清除较顽固污渍，清洁效果好；通过干燥设备可加快清洁剂的蒸发速度，实现即擦即干，可在短时间内完成自动清洁，不影响设备及产线的正常运营。
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公开(公告)号：CN104395833B
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201480001256.2
申请日：2014-05-12
申请人： 倍科有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , H05K3/00
CPC分类号： G03F7/70925 , H05K3/064 , H05K2203/0514
摘要： 本发明提供一种曝光装置，其具备：基板保持载物台(110)，可保持基板(W)并往复移动及升降；曝光载物台(320)，保持掩模板(310)，使图案面(M2)与基板(W)的感光面(M1)相面对；掩模除尘部(120)，与基板保持载物台(110)一起前进，通过推压掩模板(310)的图案面(M2)的方向的力(第1方向的力)而与图案面(M2)的表面接触，一边旋转一边除尘；及基板除尘部(210)，通过基板保持载物台(110)前进，而利用推压基板(W)的感光面(M1)的方向的力(第2方向的力)与基板(W)的感光面(M1)接触，一边旋转一边除尘。根据本发明的曝光装置，能够简化用于对基板的感光面及掩模的表面进行除尘的机构整体，并且能够使大量的基板高速曝光。
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公开(公告)号：CN105652604A
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201610145776.1
申请日：2016-03-15
申请人： 武汉华星光电技术有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925
摘要： 本发明提供一种曝光机及其操作方法，所述曝光机用于对基板进行曝光，并包括：检测装置，检测基板上的异物；清洁装置，用于清洁异物，并包括能够运动的清洗头；控制系统，被配置为：接收检测装置检测到的异物的大小和位置信息；根据异物的大小控制清洗头运动到异物的位置以执行基板的清洁；在清除异物后，控制检测装置对基板进行重新扫描，并控制曝光机对检测合格的基板进行曝光。该曝光机有效地避免了浪费大量的稼动时间和不合格的基板重新投入所需的原材料，从而能够提高生产效率并降低成本。
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公开(公告)号：CN105580117A
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201480049748.9
申请日：2014-08-21
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H05G2/008 , G03F7/70033 , G03F7/70925 , H05G2/005
摘要： 在由导管的第一端部限定的第一开口处接收与通过将靶混合物转换成发射出EUV光的等离子体而产生的碎屑结合的自由基，导管包括使自由基通过的材料，并且导管包括远离第一开口延伸并且限定出至少一个其他开口的侧壁，至少一个其他开口被定位成使自由基朝向在表面上积聚有碎屑的元件释放。导管中的自由基被朝向至少一个其他开口引导。自由基穿过至少一个其他开口并且到达元件的表面，以在不从EUV光源去除元件的情况下从元件的表面去除碎屑。
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公开(公告)号：CN102119366B
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN200980131416.4
申请日：2009-07-13
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/2008 , G03F7/70575 , G03F7/70916 , G03F7/70925 , G03F7/70983 , G21K1/00
摘要： 一种光刻设备，包括：源，配置成使用等离子体生成包括想要的辐射和不想要的辐射的辐射束；照射系统，配置成在光刻设备操作期间调节辐射束并且接收氢气；和支撑结构，构造成保持图案形成装置。所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束。衬底台构造成保持衬底，以及投影系统配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。光刻设备配置成使得进入照射系统的辐射束包括由等离子体生成的至少50％的不想要的辐射，并且包括与氢气反应以生成氢自由基的辐射的波长。
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公开(公告)号：CN104049469A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201410084248.0
申请日：2014-03-07
申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925
摘要： 本发明提供了一种光刻系统。该光刻系统包括配置为使用固定在掩模台上的掩模实施光刻曝光工艺的曝光模块；以及集成在曝光模块中并且设计为使用吸附机构清洗掩模和掩模台中的至少一个的清洗模块。本发明还提供了具有嵌入式清洗模块的光刻系统。
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