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公开(公告)号：CN102119366B
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN200980131416.4
申请日：2009-07-13
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/2008 , G03F7/70575 , G03F7/70916 , G03F7/70925 , G03F7/70983 , G21K1/00
摘要： 一种光刻设备，包括：源，配置成使用等离子体生成包括想要的辐射和不想要的辐射的辐射束；照射系统，配置成在光刻设备操作期间调节辐射束并且接收氢气；和支撑结构，构造成保持图案形成装置。所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束。衬底台构造成保持衬底，以及投影系统配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。光刻设备配置成使得进入照射系统的辐射束包括由等离子体生成的至少50％的不想要的辐射，并且包括与氢气反应以生成氢自由基的辐射的波长。
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公开(公告)号：CN102144191A
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：CN200980134710.0
申请日：2009-07-21
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70033 , G03F7/70916 , G03F7/70983 , H05G2/003
摘要： 一种辐射源(SO)配置成生成极紫外辐射。所述辐射源(SO)包括等离子体形成部位(2)，所述等离子体形成部位位于燃料将通过与辐射束(5)接触而形成等离子体所在的位置；出口(16)，所述出口配置成允许气体出离辐射源(SO)；和污染物阱(23)，所述污染物阱至少部分地位于所述出口(16)内部。所述污染物阱(23)配置成俘获由生成等离子体所产生的碎片粒子。
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公开(公告)号：CN102918461A
公开(公告)日：2013-02-06
申请号：CN201180013373.7
申请日：2011-03-03
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70916
摘要： 本发明提供了一种用于从EUV辐射束的路径去除污染物粒子的系统，其中提供至少第一AC电压至位于EUV辐射束的路径的相对侧上的一对电极作为电压机制的第一阶段，和提供DC电压至电极作为电压机制的第二阶段。
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公开(公告)号：CN102472962B
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201080034422.0
申请日：2010-07-02
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F1/84 , G01N21/6408 , G01N21/6489 , G01N21/65 , G01N21/94 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G03F1/24
摘要： 用于物体检查的方法和系统包括基于不想要的微粒与将要被检查的物体相比由于其不同的材料带来的不同的响应，使用分光技术检查物体表面上的不想要的微粒。使用来自物体表面的次级光子发射的能量分辨光谱术和/或时间分辨光谱术获得拉曼和光致发光光谱。将要被检查的物体可以例如是在光刻过程中使用的图案形成装置，诸如掩模版，在这种情况下，可以检测例如金属、金属氧化物或有机物微粒的存在。方法和设备非常敏感，因而能够检测EUV掩模版的图案侧上的小的微粒(例如亚100nm，其至亚50nm)。
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公开(公告)号：CN102119366A
公开(公告)日：2011-07-06
申请号：CN200980131416.4
申请日：2009-07-13
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/2008 , G03F7/70575 , G03F7/70916 , G03F7/70925 , G03F7/70983 , G21K1/00
摘要： 一种光刻设备，包括：源，配置成使用等离子体生成包括想要的辐射和不想要的辐射的辐射束；照射系统，配置成在光刻设备操作期间调节辐射束并且接收氢气；和支撑结构，构造成保持图案形成装置。所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束。衬底台构造成保持衬底，以及投影系统配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。光刻设备配置成使得进入照射系统的辐射束包括由等离子体生成的至少50％的不想要的辐射，并且包括与氢气反应以生成氢自由基的辐射的波长。
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公开(公告)号：CN103782662A
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201280042060.9
申请日：2012-08-01
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70033 , H05G2/005 , H05G2/006 , H05G2/008
摘要： 一种辐射源（60），适于提供辐射束至光刻设备的照射器。辐射源包括：喷嘴，配置成沿轨迹（64）朝向等离子体形成位置（66）引导燃料液滴（62）的束流。辐射源配置成接收第一辐射量辐射（68）使得第一辐射量辐射入射到位于等离子体形成位置的燃料液滴（62a），并使得第一辐射量辐射传递能量进入燃料液滴以生成修改的燃料分布（70），修改的燃料分布具有表面。辐射源还配置成接收第二辐射量辐射（72）使得第二辐射量辐射入射到修改的燃料分布的表面（72a）的部分上，第二辐射量辐射具有相对于所述表面的部分的p偏振分量；并使得第二辐射量辐射传递能量至修改的燃料分布以生产辐射生成等离子体，辐射生成等离子体发射第三辐射量辐射（74）。辐射源还包括收集器（CO），配置成收集和引导第三辐射量辐射的至少部分。辐射源配置成使得第二辐射量辐射沿第一方向传播，第一方向不平行于修改的燃料分布的表面的部分的法线。
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公开(公告)号：CN103257532A
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN201310166910.2
申请日：2009-07-21
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70033 , G03F7/70916 , G03F7/70983 , H05G2/003
摘要： 本发明涉及一种辐射源及光刻设备。所述辐射源配置成生成极紫外辐射。所述辐射源包括等离子体形成部位，所述等离子体形成部位位于燃料将通过与辐射束接触而形成等离子体所在的位置；出口，所述出口配置成允许气体出离辐射源；和污染物阱，所述污染物阱至少部分地设置在辐射源的壁上。所述污染物阱配置成俘获由生成等离子体所产生的碎片粒子。
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公开(公告)号：CN102823330A
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN201180015510.0
申请日：2011-03-08
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： H05G2/008 , G03F7/70033 , G03F7/70916 , H05G2/003
摘要： 一种EUV辐射源包括配置成将燃料液滴传输至等离子体产生位置(201)的燃料供给装置(200)；配置成提供第一激光束辐射(205)的第一激光束源，该第一激光束辐射在等离子体产生位置入射到燃料液滴上并由此蒸发燃料液滴；以及配置成随后在等离子体产生位置处提供第二激光束辐射(205)的第二激光束源，第二激光束辐射配置成蒸发由燃料液滴的不完全蒸发产生的碎片颗粒(252)。
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公开(公告)号：CN103782662B
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：CN201280042060.9
申请日：2012-08-01
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70033 , H05G2/005 , H05G2/006 , H05G2/008
摘要： 一种辐射源（60），适于提供辐射束至光刻设备的照射器。辐射源包括：喷嘴，配置成沿轨迹（64）朝向等离子体形成位置（66）引导燃料液滴（62）的束流。辐射源配置成接收第一辐射量辐射（68）使得第一辐射量辐射入射到位于等离子体形成位置的燃料液滴（62a），并使得第一辐射量辐射传递能量进入燃料液滴以生成修改的燃料分布（70），修改的燃料分布具有表面。辐射源还配置成接收第二辐射量辐射（72）使得第二辐射量辐射入射到修改的燃料分布的表面（72a）的部分上，第二辐射量辐射具有相对于所述表面的部分的p偏振分量；并使得第二辐射量辐射传递能量至修改的燃料分布以生产辐射生成等离子体，辐射生成等离子体发射第三辐射量辐射（74）。辐射源还包括收集器（CO），配置成收集和引导第三辐射量辐射的至少部分。辐射源配置成使得第二辐射量辐射沿第一方向传播，第一方向不平行于修改的燃料分布的表面的部分的法线。
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公开(公告)号：CN103257532B
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201310166910.2
申请日：2009-07-21
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70033 , G03F7/70916 , G03F7/70983 , H05G2/003
摘要： 本发明涉及一种辐射源及光刻设备。所述辐射源配置成生成极紫外辐射。所述辐射源包括等离子体形成部位，所述等离子体形成部位位于燃料将通过与辐射束接触而形成等离子体所在的位置；出口，所述出口配置成允许气体出离辐射源；和污染物阱，所述污染物阱至少部分地设置在辐射源的壁上。所述污染物阱配置成俘获由生成等离子体所产生的碎片粒子。
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