检测系统
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105143862B

    公开(公告)日:2019-07-09

    申请号:CN201480016932.3

    申请日:2014-03-18

    CPC classification number: G01N21/9501 G01N21/9503

    Abstract: 本发明涉及一种用于就缺陷(20a、20b)尤其是在斜面或倾斜边缘上的缺陷来检测诸如晶片、太阳能电池或其中间阶段等的平面半导体物体(1)的检测方法,该检测方法包括以下步骤:在纵向传输方向(T)中沿传输路径(17)传输平面物体(1),传输运动界定平面物体(1)的前缘(4)和后缘(5),利用至少一个成像系统(8、9),优选为摄像机在平面物体(1)沿传输路径(17)的运动期间连续拍摄平面物体(1)的尤其是平面物体(1)的前部和/或后部的多个图像,从多个图像中选择图像数据,该图像数据是从在成像系统(8、9)景深内的平面物体(1)的目标点拍摄的,基本通过所选择的图像数据识别平面物体(1)的缺陷(20a、20b)。本发明还涉及用于检测平面半导体物体的检测系统。

    光学量测方法
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105513985B

    公开(公告)日:2018-08-10

    申请号:CN201410505496.8

    申请日:2014-09-26

    Inventor: 蔡博修 黄怡

    CPC classification number: G01N21/9501 G01N21/95607

    Abstract: 一种光学量测方法,包括:获得待测光学散射光谱;获得与待测光学散射光谱匹配的多个标准光学散射光谱;提供对空白晶圆进行光斑照射所得到的空白光学散射光谱,将每个标准光学散射光谱与空白光学散射光谱进行叠加,对应每个标准光学散射光谱得到多个叠加光学散射光谱;将待测光学散射光谱与所有的叠加光学散射光谱进行第二次匹配,获得多个第二匹配度;若所有第二匹配度均小于所有第一匹配度,输出匹配度最高的标准光学散射光谱对应的标准结构参数;若至少一第二匹配度大于第一匹配度,返回使用光斑照射光学检测结构的步骤。第二次匹配可用于检验第一次匹配结构的准确性,以确保最终的光学量测结果的准确性。这显著提升了光学量测结果的准确性。

    自适应自动缺陷分类
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108352339A

    公开(公告)日:2018-07-31

    申请号:CN201680066102.0

    申请日:2016-09-16

    CPC classification number: G01N21/9501 G01N2201/06113 G01N2201/12 G06N99/005

    Abstract: 本发明提供用于使用自适应自动缺陷分类器来分类在样品上检测到的缺陷的方法及系统。一个方法包含基于从用户接收的用于第一批结果中的不同群组的缺陷的分类及包含在所述第一批结果中的全部所述缺陷的一组训练缺陷来产生缺陷分类器。所述第一批结果及额外批结果经组合以产生累计批结果。使用所述所产生缺陷分类器来分类所述累计批结果中的缺陷。如果所述缺陷中的任何者经分类而具有低于阈值的置信度,那么基于包含所述低置信度经分类缺陷的经修改训练组及用于从用户接收的这些缺陷的分类来修改所述缺陷分类器。接着所述经修改缺陷分类器用于分类额外累计批结果中的缺陷。

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