用于评估具有重复图案的物体的方法和系统

    公开(公告)号:CN101510047B

    公开(公告)日:2013-05-22

    申请号:CN200810130733.1

    申请日:2008-07-14

    CPC classification number: G01N21/95623

    Abstract: 本发明提供一种用于评估具有重复图案的物体的方法和系统。光学单元的照明光学元件适于以少量辐射扫描包括与背景光学上不同的多个规则重复的结构元素的重复图案,产生包括多个衍射瓣的衍射图案。采集光学元件适于将来自重复图案的附图聚焦到检测器上。所聚焦的辐射包括单一衍射瓣而不包括其它衍射瓣。灰场检测器响应所聚焦的采集辐射而产生检测信号。光学单元适于在灰场检测器的检测表面保持辐射图案,该辐射图案包括由重复图案产生的第一辐射图案成分和由缺陷产生的第二辐射图案成分,其中所述第一辐射图案成分比第二辐射成分强。

    傅立叶变换偏转测量系统和方法

    公开(公告)号:CN101861517A

    公开(公告)日:2010-10-13

    申请号:CN200880116558.9

    申请日:2008-11-06

    CPC classification number: G01N21/95623 G01B11/25 G01M11/0264 G01M11/0278

    Abstract: 本发明涉及一种用于光学检验相位和振幅对象2的傅立叶变换偏转测量系统和方法,该相位和振幅对象2被放置在光栅3和成像系统4之间的光径中、与光栅3的距离为h。光栅3形成了在图像平面的x,y正交轴上分别具有空间频率μ0,v0的基于对比的周期图形,以及所述成像系统4包括物镜5和含有多个光敏元件的成像传感器6。空间频率μ0,v0等于或小于成像系统在x、y轴上的相应尼奎斯特频率。根据本发明的方法,首先通过物镜5、由成像传感器6获取被相位和振幅对象2失真的所述图形的第一图像。而后,在空间频域中计算所述第一图像的傅立叶变换;选择所述傅立叶变换的至少一个一阶或更高阶谱,并在所述频域中将其移位,以便将它基本置于所述傅立叶变换的中心频率;以及对所述傅立叶变换的所述至少一个移位的一阶或更高阶谱执行傅立叶逆变换,以便获取复函数其中I(x,y)是强度,而是根据以下公式分别与在x,y轴方向上的光偏转角θx,θy有关的相位。

    用于评估具有重复图案的物体的方法和系统

    公开(公告)号:CN101510047A

    公开(公告)日:2009-08-19

    申请号:CN200810130733.1

    申请日:2008-07-14

    CPC classification number: G01N21/95623

    Abstract: 本发明提供一种用于评估具有重复图案的物体的方法和系统。光学单元的照明光学系统适于以少量辐射扫描包括与其背景光学上不同的多个规则重复的结构元素的重复图案,产生包括多个衍射瓣的衍射图案。采集光学系统适于将来自重复图案的附图聚焦到检测器上。所聚焦的辐射包括单一衍射瓣而不包括其它衍射瓣。灰场检测器响应所聚焦的采集辐射而产生检测信号。光学单元适于在灰场检测器的检测表面保持辐射图案,该辐射图案包括由重复图案产生的第一辐射图案成分和由缺陷产生的第二辐射图案成分,其中所述第一辐射图案成分比第二辐射成分强。

    检查方法和设备
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101995408B

    公开(公告)日:2014-12-31

    申请号:CN201010262277.3

    申请日:2010-08-19

    CPC classification number: G01N21/95623

    Abstract: 本发明公开了一种检查方法和设备。具体地,在一方面中,公开一种用于探测物体上存在缺陷或不存在缺陷的检查方法,所述物体包括具有物理深度的凹陷。所述方法包括:将辐射引导到所述物体上,所述辐射具有基本上等于所述凹陷的光学深度的两倍的波长;探测被所述物体或所述物体上的缺陷改变方向的辐射;和由所述改变方向的辐射确定存在缺陷或不存在缺陷。

    带锯齿的傅立叶滤波器及检查系统

    公开(公告)号:CN101238362B

    公开(公告)日:2011-01-05

    申请号:CN200680029168.9

    申请日:2006-06-06

    CPC classification number: G01N21/95623

    Abstract: 提供了带锯齿的傅立叶滤波器和检查系统。一种傅立叶滤波器包括一个或更多个被配置来阻挡来自晶片的部分光的阻挡单元。所述傅立叶滤波器还包括形成在所述一个或更多个阻挡单元的边缘的周期性锯齿。所述周期性锯齿限定所述一个或更多个阻挡单元的过渡区段。所述周期性锯齿被配置为使透射横跨所述过渡区段变化,以使得横跨所述过渡区段的所述透射的变化基本上是平滑的。一种检查系统包括如上面描述的那样配置的傅立叶滤波器和检测器,所述检测器被配置来检查所述傅立叶滤波器透射的光。所述检测器生成的信号可以被用来检测所述晶片上的所述缺陷。

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