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公开(公告)号：CN105745579A
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201480063035.8
申请日：2014-09-24
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： V·班尼恩 , P·巴特瑞 , R·范格尔库姆 , L·阿门特 , 彼得·德亚格尔 , G·德维里斯 , R·栋克尔 , W·恩格尔伦 , O·弗里基恩斯 , L·格瑞米克 , A·卡塔伦尼克 , E·鲁普斯特拉 , H-K·尼恩惠斯 , A·尼基帕罗夫 , M·瑞肯斯 , F·詹森 , B·克鲁兹卡
CPC分类号： G21K1/067 , G01N2021/95676 , G02B5/1814 , G02B5/1823 , G02B5/1838 , G02B5/1861 , G02B27/0025 , G02B27/0938 , G02B27/10 , G02B27/1086 , G02B27/12 , G02B27/14 , G02B27/142 , G02B27/146 , G02B27/4272 , G03F1/84 , G03F7/70025 , G03F7/70208 , G03F7/70566 , G03F7/70891 , G03F7/70991 , G21K2201/065 , H01S3/0903 , H05H7/04 , G03F7/70008 , G03F7/7005 , G03F7/70091 , G03F7/70158 , G03F7/70166 , G03F7/7065
摘要： 一种在光刻系统内使用的传输系统。所述束传输系统包括光学元件，所述光学元件被布置成接收来自辐射源的辐射束并且沿着一个或多个方向反射辐射的部分以形成用于供给到一个或多个工具的一个或多个分支辐射束。
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公开(公告)号：CN103733735B
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201180072807.0
申请日：2011-12-13
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： H05G2/00
CPC分类号： H05G2/006 , G03F7/70033 , H05G2/003 , H05G2/008
摘要： 一种辐射源包括：喷嘴，配置成沿着轨迹朝向等离子体形成位置引导燃料液滴（30）的流；激光器，配置成输出激光辐射，所述激光辐射在等离子体形成位置处被引导到燃料液滴上以在使用中生成用于产生辐射的等离子体；和捕捉装置，配置成捕捉穿过等离子体形成位置的燃料液滴，所述捕捉装置包括：容器（40），被配置成容纳流体（42）；驱动器（44），被配置成驱动所述流体以使得流体移动；所述捕捉装置被配置成使得燃料液滴入射到移动的流体上。
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公开(公告)号：CN102341754B
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201080009961.9
申请日：2010-02-25
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70825 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要： 提供一种光刻设备的照射系统，所述照射系统具有多个反射元件，反射元件布置成接收来自辐射源的辐射，反射元件在不同取向之间是可移动的。在不同的取向中，反射元件引导辐射朝向照射系统的光瞳平面内的反射部件处的不同部位，由此形成不同的照射模式。每个反射元件在将辐射引导朝向光瞳平面处的第一部位的第一取向和将辐射引导朝向光瞳平面处的第二部位的第二取向之间是可移动的，反射元件的第一取向和第二取向由端部限位件限定。
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公开(公告)号：CN103718654A
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN201280036635.6
申请日：2012-07-04
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： H05G2/00
摘要： 用于通过LPP（激光产生等离子体）或DLP（双激光等离子体）从熔融的燃料液滴的束流产生EUV的辐射源具有布置成提供燃料(314)液滴的束流的燃料液滴产生装置和配置成汽化燃料的所述液滴中的至少一些以产生辐射的至少一个激光器。燃料液滴产生装置包括：喷嘴(301)、馈送室和贮液器(303)，其中泵送装置布置成将熔融状态下的燃料流从贮液器通过馈送室供给并作为液滴的束流排出喷嘴。馈送室具有与填充有液体的驱动腔(310)接触的外表面，并且液体布置成能够被驱动以由振动器(311)震荡，其中该震荡可以通过液体从馈送室的外表面传输至馈送室内的熔融燃料。该布置允许振荡驱动喷嘴馈送室以控制燃料束流破碎成液滴，而不需要振动器和燃料喷嘴馈送室之间的直接接触。这可以减少通过接触失效从振动器至馈送室的传输损失，并且可以允许在冷却位置远程定位振动器用于有效操作。
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公开(公告)号：CN102696283A
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：CN201080059731.3
申请日：2010-11-29
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： H05G2/00
摘要： 一种EUV辐射源，包括：燃料源，配置用于将燃料供给至等离子体形成位置。所述燃料源包括：喷嘴，配置用于喷射燃料液滴；以及液滴加速器，配置用于加速燃料液滴。EUV辐射源包括激光辐射源，配置用于在等离子体形成位置处照射通过所述燃料源供给的燃料。
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公开(公告)号：CN102144191A
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：CN200980134710.0
申请日：2009-07-21
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70033 , G03F7/70916 , G03F7/70983 , H05G2/003
摘要： 一种辐射源(SO)配置成生成极紫外辐射。所述辐射源(SO)包括等离子体形成部位(2)，所述等离子体形成部位位于燃料将通过与辐射束(5)接触而形成等离子体所在的位置；出口(16)，所述出口配置成允许气体出离辐射源(SO)；和污染物阱(23)，所述污染物阱至少部分地位于所述出口(16)内部。所述污染物阱(23)配置成俘获由生成等离子体所产生的碎片粒子。
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公开(公告)号：CN104641298B
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：CN201380048627.8
申请日：2013-09-17
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70425 , G03F7/7045 , G03F7/70466 , G03F7/70475
摘要： 本发明公开一种使用EUV光刻设备在衬底上曝光图案化区域的方法，该光刻设备具有至少大约5倍的缩小率和至少大约0.4的数值孔径，所述方法包括步骤：使用第一曝光在衬底上曝光图案化区域的第一部分，第一部分具有比常规曝光的尺寸明显小的尺寸；和使用一次或更多次附加曝光在衬底上曝光图案化区域的一个或多个附加部分，所述一个或多个附加部分的尺寸比常规曝光的尺寸明显小。所述方法还包括重复以上步骤以在衬底上曝光第二图案化区域，该第二图案化区域设置有与第一图案化区域相同的图案，其中第一图案化区域的中心点与第二图案化区域的中心点之间的距离与常规曝光的尺寸对应。
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公开(公告)号：CN105122139B
公开(公告)日：2017-10-10
申请号：CN201380071158.1
申请日：2013-12-12
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B7/182 , G02B7/1827 , G02B26/0825 , G03F7/70158 , G03F7/70191 , G03F7/70266 , G03F7/70575 , G03F7/709
摘要： 本发明公开了一种被配置为在光刻设备中将辐射束投影到衬底的目标部分上的系统。所述系统包括反射镜(510)和控制器(515a，515b)，所述反射镜具有用于定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状的致动器(500)，所述致动器还为所述反射镜提供主动衰减，并且所述控制器用于产生用于控制所述致动器的致动器控制信号。第一坐标系用于在定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状时控制所述致动器，并且第二坐标系用于在为所述反射镜提供主动衰减时控制所述致动器。
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公开(公告)号：CN102859442B
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201180019319.3
申请日：2011-03-18
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G02B5/08 , G03F7/20 , G03F7/70033 , G03F7/70175 , G03F7/70808 , G03F7/70841 , G03F7/70908 , G03F7/70916 , G03F7/70933 , G21K5/04
摘要： 一种收集器反射镜组件(302)包括：包括反射表面(304)的收集器反射镜(co’)和具有边缘(308)的孔(306)。所述孔延伸通过反射表面。所述组件还包括管状主体(310)，所述管状主体(310)具有内表面(312)和外表面(314)。所述管状主体构造和布置成沿着大致横向于反射表面的方向引导气流(GF)。所述管状主体的外表面和孔的边缘形成开口(316)，所述开口布置成引导另外的气流(GF’)，所述另外的气流与大致横向于反射表面的气流分开。
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