发明授权
- 专利标题： 辐射源
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申请号： CN201180072807.0申请日： 2011-12-13
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公开(公告)号： CN103733735B公开(公告)日： 2016-05-11
- 发明人: A·凯姆鹏 , E·鲁普斯特拉 , C·瓦格纳 , H·泰根博世 , G·斯温克尔斯
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维德霍温
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维德霍温
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 张启程
- 优先权： 61/522,928 2011.08.12 US
- 国际申请： PCT/EP2011/072633 2011.12.13
- 国际公布： WO2013/023710 EN 2013.02.21
- 进入国家日期： 2014-02-11
- 主分类号： H05G2/00
- IPC分类号： H05G2/00
摘要：
一种辐射源包括：喷嘴，配置成沿着轨迹朝向等离子体形成位置引导燃料液滴（30）的流；激光器，配置成输出激光辐射，所述激光辐射在等离子体形成位置处被引导到燃料液滴上以在使用中生成用于产生辐射的等离子体；和捕捉装置，配置成捕捉穿过等离子体形成位置的燃料液滴，所述捕捉装置包括：容器（40），被配置成容纳流体（42）；驱动器（44），被配置成驱动所述流体以使得流体移动；所述捕捉装置被配置成使得燃料液滴入射到移动的流体上。
公开/授权文献
- CN103733735A 辐射源 公开/授权日：2014-04-16
