-
公开(公告)号:CN113424290B
公开(公告)日:2024-11-19
申请号:CN202080014117.9
申请日:2020-02-04
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: S·B·汉森 , 任岩 , M·R·古森 , A·V·G·曼格努斯 , E·P·斯马克曼
-
-
公开(公告)号:CN118974716A
公开(公告)日:2024-11-15
申请号:CN202380031646.3
申请日:2023-03-01
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: J·L·范吉南
IPC分类号: G06F16/242
摘要: 一种从存储多个数据集的至少一个数据存储器检取数据的方法,其中每个数据集具有表格数据结构,该方法包括:接收查询,该查询包括语义信息并且从数据存储器请求与语义信息相关联的数据;根据语义信息确定是否可以使用从多个数据集中的一个或多个候选数据集中选择和/或得出的数据来服务查询;如果多个候选数据集可以为查询服务,则使用成本函数来确定多个候选数据集中的至少一个候选数据集来服务查询,并且确定至少一个候选数据集中的每一者的一部分来服务查询;并且返回对查询的响应,该响应包括使用至少一个候选数据集中的每一者的一部分获得的数据。
-
公开(公告)号:CN118946949A
公开(公告)日:2024-11-12
申请号:CN202380029575.3
申请日:2023-03-16
申请人: ASML荷兰有限公司
IPC分类号: H01J37/20 , H01L21/683 , H01J37/26 , H01J37/30
摘要: 提供了用于将带电粒子束装置中的晶片(604;904)接地的系统和方法。该系统和方法包括在晶片上的背面膜(608;908)中提供足够大小的排除区域(613;911),以允许晶片与带电粒子束装置的电触头(612;912)之间进行电连接。该系统和方法包括使引脚体接触晶片的表面,并且晶片的表面具有涂层,并且引脚体包括第一尖端和第二尖端,每个尖端从引脚体延伸;其中该接触通过第一尖端、第二尖端或它们的任何组合中的任一者在涂层的第一排除区域处发生。还提供了一种用于在晶片表面上形成涂层的方法,包括用第一排除掩模来遮蔽晶片表面上的第一排除区域。
-
-
公开(公告)号:CN118915395A
公开(公告)日:2024-11-08
申请号:CN202410943928.7
申请日:2019-10-08
申请人: ASML荷兰有限公司
IPC分类号: G03F7/20
摘要: 一种生成用于图案化过程的特征图案和训练机器学习模型的方法。用于生成特征图案的方法包括:获得经训练的生成器模型和输入图案,该经训练的生成器模型被配置为生成特征图案(例如热点图案);以及经由经训练的生成器模型(例如CNN)的模拟,基于输入图案生成特征图案,其中,输入图案是随机向量、一种类型图案中的至少一者。
-
公开(公告)号:CN113767446B
公开(公告)日:2024-11-08
申请号:CN202080027751.6
申请日:2020-03-26
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: H·W·H·赛维特 , J-G·C·范德托恩 , R·范德威尔克 , A·E·库伊克
IPC分类号: H01J37/20
摘要: 粒子束装置包括导电物体(402)和载物台(404),载物台被配置为支撑物体(414)。载物台包括台体和导电涂层(420),导电涂层被提供在台体的表面的至少一部分上。导电物体被设置为与导电涂层邻近并且台体被提供有与导电涂层的边缘部分邻近的特征(502)。该特征被布置为使得当电压被施加到导电物体和导电涂层两者时,降低导电涂层的边缘部分的附近区域的电场强度。
-
公开(公告)号:CN118901117A
公开(公告)日:2024-11-05
申请号:CN202380028776.1
申请日:2023-02-27
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: M·J-J·维兰德
IPC分类号: H01J37/317 , H01J37/153
摘要: 一种带电粒子设备将带电粒子束沿着束路径朝向样品位置投射。该设备包括:用于操纵束的带电粒子透镜组件、和控制器。透镜组件包括板,每个板具有用于使束路径通过的孔径阵列。板位于沿着束路径的不同板位置处。控制器控制带电粒子设备,使得束的带电粒子在沿着束路径的不同板位置处具有不同能量值。透镜组件包括校正器,该校正器包括被配置为彼此独立地在相应的孔径处执行像差校正的单独的校正器。校正器与位于如下这样的板位置处的板相关联,在这样的板位置处,能量值最小、邻近板的电场的强度最大、和/或能量值与邻近板的电场的强度之比最小。
-
公开(公告)号:CN113050388B
公开(公告)日:2024-11-05
申请号:CN202110313757.6
申请日:2016-03-24
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: L·M·威廉斯 , K·布哈塔查里亚 , P·P·宾特维诺斯 , G·陈 , M·艾伯特 , P·J·M·H·克奈里森 , S·摩根 , M·范德沙 , L·H·M·维斯塔彭 , J-S·王 , P·H·瓦德尼尔
摘要: 本公开的实施例涉及用于检测及量测的方法与装置。一种方法,包括:执行仿真以对多个量测目标和/或用来测量量测目标的多个量测选配方案进行评价;从经评价的多个量测目标和/或量测选配方案中标识一个或多个量测目标和/或量测选配方案;接收一个或多个标识的量测目标和/或量测选配方案的测量数据;以及使用测量数据来调整量测目标参数或量测选配方案参数。
-
公开(公告)号:CN118891586A
公开(公告)日:2024-11-01
申请号:CN202380027766.6
申请日:2023-02-22
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: A·J·登博夫 , T·T·M·范沙伊克 , R·D·布吉思 , J·F·迪鲍尔 , C·弥赛西
摘要: 披露了一种用于确定衬底上的结构相对于名义竖直位置的竖直位置的方法。所述方法包括:针对多个不同波长,获得与来自所述结构的散射辐射相关的复合场数据;根据所述复合场数据确定相位参数随波长的变化;以及根据所确定的相位随波长的变化来确定相对于名义竖直位置的所述竖直位置。
-
-
-
-
-
-
-
-
-