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公开(公告)号：CN118402033A
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202280082770.8
申请日：2022-11-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 任岩 , A·V·G·曼格努斯 , M·斯科特兹 , E·P·斯马克曼
IPC: H01J37/04
Abstract: 一种从带电粒子源束生成多个子束并将子束下行束引导向样品位置的带电粒子装置。该带电粒子装置包括带电粒子源、孔径阵列和带电粒子光学部件。带电粒子源包括沿着发散路径发射带电粒子源束的发射器。孔径阵列被定位于发散路径中，因此孔径阵列从源束生成子束。带电粒子光学部件作用于孔径阵列上游的源束上。带电粒子光学部件包括多极和/或带电粒子透镜。多极对源束进行操作，以改变发散路径在孔径阵列处的位置。多极可以改变发散路径在孔径阵列处的横截面形状。带电粒子光学透镜补偿发射器与孔径阵列之间的距离变化。
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公开(公告)号：CN116762152A
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202180090368.X
申请日：2021-11-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： E·斯洛特 , A·V·G·曼格努斯 , E·P·斯马克曼 , 任岩 , M·斯科特兹
IPC: H01J37/304
Abstract: 一种带电粒子工具被配置为从带电粒子束生成多个子束，并且将子束向束下游引导向样品(600)位置，该工具、即带电粒子工具包括至少三个带电粒子光学组件(201、111、235、234)；检测器模块(240)；以及控制器。检测器模块被配置为响应于从样品位置的方向向束上游传播的带电粒子而生成检测信号。控制器被配置为在校准模式下操作该工具。带电粒子光学组件包括被配置为发射带电粒子束的带电粒子源201、以及被配置为生成子束的束生成器(111)。检测信号包含关于带电粒子光学组件中的至少两个带电粒子光学组件的对准的信息。带电粒子光学组件包括两个或更多个带电粒子光学元件，该两个或更多个带电粒子光学元件包括可以监测带电粒子的孔径阵列。
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公开(公告)号：CN113424290B
公开(公告)日：2024-11-19
申请号：CN202080014117.9
申请日：2020-02-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·B·汉森 , 任岩 , M·R·古森 , A·V·G·曼格努斯 , E·P·斯马克曼
Abstract: 在各方面中尤其地公开了一种带电粒子检查系统，其包括吸收部件和可编程带电粒子反射镜板，该可编程带电粒子反射镜板被布置为修改束中电子的能量分布并且对束进行整形以减少电子的能量散布和束的像差，其中吸收部件包括限定腔的结构，该腔具有内部表明以及设置在内部表上的超材料吸收体。在操作中，腔沿着束路径的一部分延伸。在其他实施例中，超材料包括吸收结构集合，该吸收结构集合被配置为设置在透明导电层上的吸收结构。进一步，公开了一种使用这种吸收部件并且使用可编程带电粒子反射镜板的方法，其中这种可编程带电粒子反射镜板包括像素集合，该像素集合被配置为生成定制电场以对束进行整形。
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公开(公告)号：CN113412529B
公开(公告)日：2024-11-29
申请号：CN201980091751.X
申请日：2019-12-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/147 , H01J37/26 , H01J37/04
Abstract: 用于带电粒子检测的装置(1400)和方法可以包括：偏转器系统(1408、1410、1412)，该偏转器系统被配置为引导带电粒子脉冲(1414、1416、1418)；检测器，该检测器具有检测元件，该检测元件被配置为检测带电粒子脉冲；以及控制器，该控制器具有电路系统，该电路系统被配置为：控制偏转器系统以将第一带电粒子脉冲和第二带电粒子脉冲引导到检测元件；分别获得与第一带电粒子脉冲何时被偏转器系统引导相关联的第一时间戳和与第一带电粒子脉冲何时被检测元件检测到相关联的第二时间戳、以及与第二带电粒子脉冲何时被偏转器系统引导相关联的第三时间戳和与第二带电粒子脉冲何时被检测元件检测到相关联的第四时间戳；以及分别基于第一时间戳和第二时间戳以及第三时间戳和第四时间戳来标识第一出射射束和第二出射射束。
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公开(公告)号：CN118414686A
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN202280083344.6
申请日：2022-11-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·斯科特兹 , A·V·G·曼格努斯 , 任岩 , E·P·斯马克曼 , J·范索伊斯特
IPC: H01J37/22
Abstract: 一种被配置为投射带电粒子的多射束的带电粒子光学装置，装置包括：带电粒子设备，该带电粒子设备在以下之间切换：(i)操作配置，其中该设备被配置为沿着从多射束的源延伸到样品的操作束路径将多射束投射到所样品，和(ii)监测配置，其中该设备被配置为沿着从源延伸到检测器的监测束路径将多射束投射到检测器；其中监测束路径沿着操作束路径从所述检查束路径中途转向。
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公开(公告)号：CN118414684A
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN202280084052.4
申请日：2022-11-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 任岩 , M·斯科特兹 , A·V·G·曼格努斯 , E·P·斯马克曼
IPC: H01J37/04 , H01J37/12 , H01J37/244 , H01J37/26 , H01J37/28 , H01J37/317
Abstract: 本发明提供了一种用于带电粒子检查装置的带电粒子设备，用于将子射束阵列朝向样品投射，带电粒子设备包括：带电粒子光学元件和检测器。带电粒子光学元件具有上游表面，该上游表面具有用于从带电粒子束产生子射束阵列的多个开口。在带电粒子光学元件中限定了：子射束孔径和监测孔径。子射束孔径延伸穿过带电粒子元件，用于子射束阵列朝向样品的路径，监测孔径延伸穿过带电粒子元件。检测器位于监测孔径中。检测器的至少一部分位于上游表面的下游。检测器测量入射到检测器上的带电粒子束的一部分的参数。
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公开(公告)号：CN113424290A
公开(公告)日：2021-09-21
申请号：CN202080014117.9
申请日：2020-02-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·B·汉森 , 任岩 , M·R·古森 , A·V·G·曼格努斯 , E·P·斯马克曼
Abstract: 在各方面中尤其地公开了一种带电粒子检查系统，其包括吸收部件和可编程带电粒子反射镜板，该可编程带电粒子反射镜板被布置为修改束中电子的能量分布并且对束进行整形以减少电子的能量散布和束的像差，其中吸收部件包括限定腔的结构，该腔具有内部表明以及设置在内部表上的超材料吸收体。在操作中，腔沿着束路径的一部分延伸。在其他实施例中，超材料包括吸收结构集合，该吸收结构集合被配置为设置在透明导电层上的吸收结构。进一步，公开了一种使用这种吸收部件并且使用可编程带电粒子反射镜板的方法，其中这种可编程带电粒子反射镜板包括像素集合，该像素集合被配置为生成定制电场以对束进行整形。
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公开(公告)号：CN113272934B
公开(公告)日：2024-11-29
申请号：CN201980086549.8
申请日：2019-11-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 任岩
Abstract: 公开了在多束装置中观察样本的系统和方法。多束装置可以包括：电子源，被配置为生成初级电子束；预限流孔阵列，包括多个孔并且被配置为从初级电子束形成多个束波，多个束波中的每个小束具有相关联的束电流；聚束器透镜，被配置为准直多个束波中的每个束波；束限制单元，被配置为修改多个束波中的每个束波的相关联的束电流；以及扇区磁体单元，被配置为定向多个束波中的每个束波以在物镜内或至少在物镜附近形成交叉，该物镜被配置为将多个束波中的每个束波聚焦到样本的表面上并且在其上形成多个探测点。
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公开(公告)号：CN114930486A
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN202180008297.4
申请日：2021-01-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·V·G·曼格努斯 , M·R·古森 , E·P·斯马克曼 , 任岩
IPC: H01J37/153 , H01J37/28
Abstract: 一种设备，包括像素集和像素控制构件集，该像素集被配置为对接近该像素集的子束进行成形，像素控制构件分别与像素集中的每个像素相关联，每个像素控制构件被布置且被配置为向相关联的像素施加信号以用于对子束进行成形。
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公开(公告)号：CN113412529A
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN201980091751.X
申请日：2019-12-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/147 , H01J37/26 , H01J37/04
Abstract: 用于带电粒子检测的装置(1400)和方法可以包括：偏转器系统(1408、1410、1412)，该偏转器系统被配置为引导带电粒子脉冲(1414、1416、1418)；检测器，该检测器具有检测元件，该检测元件被配置为检测带电粒子脉冲；以及控制器，该控制器具有电路系统，该电路系统被配置为：控制偏转器系统以将第一带电粒子脉冲和第二带电粒子脉冲引导到检测元件；分别获得与第一带电粒子脉冲何时被偏转器系统引导相关联的第一时间戳和与第一带电粒子脉冲何时被检测元件检测到相关联的第二时间戳、以及与第二带电粒子脉冲何时被偏转器系统引导相关联的第三时间戳和与第二带电粒子脉冲何时被检测元件检测到相关联的第四时间戳；以及分别基于第一时间戳和第二时间戳以及第三时间戳和第四时间戳来标识第一出射射束和第二出射射束。
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