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公开(公告)号：CN113412529A
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN201980091751.X
申请日：2019-12-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/147 , H01J37/26 , H01J37/04
Abstract: 用于带电粒子检测的装置(1400)和方法可以包括：偏转器系统(1408、1410、1412)，该偏转器系统被配置为引导带电粒子脉冲(1414、1416、1418)；检测器，该检测器具有检测元件，该检测元件被配置为检测带电粒子脉冲；以及控制器，该控制器具有电路系统，该电路系统被配置为：控制偏转器系统以将第一带电粒子脉冲和第二带电粒子脉冲引导到检测元件；分别获得与第一带电粒子脉冲何时被偏转器系统引导相关联的第一时间戳和与第一带电粒子脉冲何时被检测元件检测到相关联的第二时间戳、以及与第二带电粒子脉冲何时被偏转器系统引导相关联的第三时间戳和与第二带电粒子脉冲何时被检测元件检测到相关联的第四时间戳；以及分别基于第一时间戳和第二时间戳以及第三时间戳和第四时间戳来标识第一出射射束和第二出射射束。
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公开(公告)号：CN105794055B
公开(公告)日：2019-07-30
申请号：CN201480066424.6
申请日：2014-11-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·A·尼基佩洛夫 , V·Y·巴宁 , P·W·H·德加格 , G·C·德维雷斯 , O·W·V·弗雷杰恩斯 , L·A·G·格里敏克 , A·卡特勒尼克 , J·A·G·阿克曼斯 , E·R·洛普斯特拉 , W·J·恩格伦 , P·R·巴特莱杰 , T·J·科南 , W·P·E·M·奥普特鲁特
CPC classification number: H01S3/0903 , H01J1/34 , H05H7/08 , H05H2007/084
Abstract: 一种用于提供电子束的注入器装置。注入器装置包括用于提供电子束团的第一注入器和用于提供电子束团的第二注入器。注入器装置可操作为以电子束包括仅由第一注入器提供的电子束团的第一模式和电子束包括仅由第二注入器提供的电子束团的第二模式操作。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1725109A
公开(公告)日：2006-01-25
申请号：CN200510081066.9
申请日：2005-06-29
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70916 , G03F7/70983
Abstract: 一种光刻装置和方法，其中照射系统提供辐射投射光束，构图系统赋予该光束带图案的横截面，投影系统将带图案的光束投射到基底台上支撑的基底的目标部分上。该投影系统包括与基底分开设置的透镜阵列，因此该透镜阵列中的每个透镜都将带图案的光束的各个部分聚焦在基底上。位移系统引起透镜阵列和基底之间的相对位移。设置粒子检测器来检测由于透镜阵列和基底之间的相对位移而接近透镜阵列的位于基底上的粒子。设置自由工作距离控制系统，以便根据粒子检测器对粒子的检测来增大透镜阵列和基底之间的间隔，从而当相对位移使检测到的粒子在透镜阵列下面通过时移动透镜阵列远离该基底。这样，能够避免因例如基底表面上所承载的粒子的刮擦而对透镜阵列的损坏。
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公开(公告)号：CN113412529B
公开(公告)日：2024-11-29
申请号：CN201980091751.X
申请日：2019-12-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/147 , H01J37/26 , H01J37/04
Abstract: 用于带电粒子检测的装置(1400)和方法可以包括：偏转器系统(1408、1410、1412)，该偏转器系统被配置为引导带电粒子脉冲(1414、1416、1418)；检测器，该检测器具有检测元件，该检测元件被配置为检测带电粒子脉冲；以及控制器，该控制器具有电路系统，该电路系统被配置为：控制偏转器系统以将第一带电粒子脉冲和第二带电粒子脉冲引导到检测元件；分别获得与第一带电粒子脉冲何时被偏转器系统引导相关联的第一时间戳和与第一带电粒子脉冲何时被检测元件检测到相关联的第二时间戳、以及与第二带电粒子脉冲何时被偏转器系统引导相关联的第三时间戳和与第二带电粒子脉冲何时被检测元件检测到相关联的第四时间戳；以及分别基于第一时间戳和第二时间戳以及第三时间戳和第四时间戳来标识第一出射射束和第二出射射束。
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公开(公告)号：CN112513741A
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN201980050901.2
申请日：2019-07-03
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： P·W·H·德加格
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种方法包括用具有形成第一灰度图案的光幅度的光照射反射镜阵列，反射镜阵列包括多个反射镜，并且用光的相同幅度照射至少两个反射镜。该方法还包括将具有光幅度的光成像到衬底上以在衬底处产生不同于第一灰度图案的第二灰度图案。
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公开(公告)号：CN105794055A
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：CN201480066424.6
申请日：2014-11-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·A·尼基佩洛夫 , V·Y·巴宁 , P·W·H·德加格 , G·C·德维雷斯 , O·W·V·弗雷杰恩斯 , L·A·G·格里敏克 , A·卡特勒尼克 , J·A·G·阿克曼斯 , E·R·洛普斯特拉 , W·J·恩格伦 , P·R·巴特莱杰 , T·J·科南 , W·P·E·M·奥普特鲁特
CPC classification number: H01S3/0903 , H01J1/34 , H05H7/08 , H05H2007/084
Abstract: 一种用于提供电子束的注入器装置。注入器装置包括用于提供电子束团的第一注入器和用于提供电子束团的第二注入器。注入器装置可操作为以电子束包括仅由第一注入器提供的电子束团的第一模式和电子束包括仅由第二注入器提供的电子束团的第二模式操作。
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公开(公告)号：CN100524034C
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：CN200510081066.9
申请日：2005-06-29
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70916 , G03F7/70983
Abstract: 一种光刻装置和方法，其中照射系统提供辐射投射光束，构图系统赋予该光束带图案的横截面，投影系统将带图案的光束投射到基底台上支撑的基底的目标部分上。该投影系统包括与基底分开设置的透镜阵列，因此该透镜阵列中的每个透镜都将带图案的光束的各个部分聚焦在基底上。位移系统引起透镜阵列和基底之间的相对位移。设置粒子检测器来检测由于透镜阵列和基底之间的相对位移而接近透镜阵列的位于基底上的粒子。设置自由工作距离控制系统，以便根据粒子检测器对粒子的检测来增大透镜阵列和基底之间的间隔，从而当相对位移使检测到的粒子在透镜阵列下面通过时移动透镜阵列远离该基底。这样，能够避免因例如基底表面上所承载的粒子的刮擦而对透镜阵列的损坏。
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