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公开(公告)号：CN105122139B
公开(公告)日：2017-10-10
申请号：CN201380071158.1
申请日：2013-12-12
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B7/182 , G02B7/1827 , G02B26/0825 , G03F7/70158 , G03F7/70191 , G03F7/70266 , G03F7/70575 , G03F7/709
摘要： 本发明公开了一种被配置为在光刻设备中将辐射束投影到衬底的目标部分上的系统。所述系统包括反射镜(510)和控制器(515a，515b)，所述反射镜具有用于定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状的致动器(500)，所述致动器还为所述反射镜提供主动衰减，并且所述控制器用于产生用于控制所述致动器的致动器控制信号。第一坐标系用于在定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状时控制所述致动器，并且第二坐标系用于在为所述反射镜提供主动衰减时控制所述致动器。
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公开(公告)号：CN104272191B
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201380022023.6
申请日：2013-03-18
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70775 , G01D5/347 , G03F7/70825 , G03F7/7085 , G03F7/709 , G03F9/7015 , G03F9/7096
摘要： 公开了一种光刻设备和器件制造方法。光刻设备包括支撑台(16)以及包括传感器部分(13)和参考部分(12、14)的测量系统(12‑14)，所述测量系统被配置为通过使用所述传感器部分(13)与所述参考部分(12、14)相互作用来确定所述支撑台(16)相对于参考框架(6、8、10)的位置和/或方向或所述支撑台上安装的部件相对于参考框架(6、8、10)的位置和/或方向，其中：所述参考框架(6、8、10)包括N个子框架(6、8)，所述N个子框架耦接在一起以便针对低于第一参考频率的振动主要表现为单个刚性体，并且针对高于第二参考频率的振动主要表现为N体系统，其中N是大于1的整数。
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公开(公告)号：CN104040433B
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201280065095.4
申请日：2012-12-05
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： H·巴特勒 , A·布里克 , P·亨纳斯 , M·胡克斯 , S·A·J·霍尔 , H·范德斯库特 , B·斯拉格海克 , P·蒂纳曼斯 , M·范德威吉斯特 , K·扎尔 , T·P·M·卡迪 , R·比尔恩斯 , O·菲思克尔 , W·安吉内恩特 , N·J·M·博施
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70258 , G03F7/70275 , G03F7/70366 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70558 , G03F7/70816 , G03F7/709
摘要： 本发明公开了一种曝光设备(1)，包括：投射系统(12，14)，配置成将多个辐射束投射到目标上；可移动框架(8)，其至少能够围绕轴线(10)旋转；以及致动器系统(11)，配置成将可移动框架位移至远离与可移动框架的几何中心对应的轴线的轴线并引起框架围绕通过框架的质心的轴线旋转。
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公开(公告)号：CN105122139A
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201380071158.1
申请日：2013-12-12
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B7/182 , G02B7/1827 , G02B26/0825 , G03F7/70158 , G03F7/70191 , G03F7/70266 , G03F7/70575 , G03F7/709
摘要： 本发明公开了一种被配置为在光刻设备中将辐射束投影到衬底的目标部分上的系统。所述系统包括反射镜(510)和控制器(515a，515b)，所述反射镜具有用于定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状的致动器(500)，所述致动器还为所述反射镜提供主动衰减，并且所述控制器用于产生用于控制所述致动器的致动器控制信号。第一坐标系用于在定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状时控制所述致动器，并且第二坐标系用于在为所述反射镜提供主动衰减时控制所述致动器。
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公开(公告)号：CN104272191A
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201380022023.6
申请日：2013-03-18
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70775 , G01D5/347 , G03F7/70825 , G03F7/7085 , G03F7/709 , G03F9/7015 , G03F9/7096
摘要： 公开了一种光刻设备和器件制造方法。光刻设备包括支撑台(16)以及包括传感器部分(13)和参考部分(12、14)的测量系统(12-14)，所述测量系统被配置为通过使用所述传感器部分(13)与所述参考部分(12、14)相互作用来确定所述支撑台(16)相对于参考框架(6、8、10)的位置和/或方向或所述支撑台上安装的部件相对于参考框架(6、8、10)的位置和/或方向，其中：所述参考框架(6、8、10)包括N个子框架(6、8)，所述N个子框架耦接在一起以便针对低于第一参考频率的振动主要表现为单个刚性体，并且针对高于第二参考频率的振动主要表现为N体系统，其中N是大于1的整数。
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公开(公告)号：CN104040433A
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：CN201280065095.4
申请日：2012-12-05
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： H·巴特勒 , A·布里克 , P·亨纳斯 , M·胡克斯 , S·A·J·霍尔 , H·范德斯库特 , B·斯拉格海克 , P·蒂纳曼斯 , M·范德威吉斯特 , K·扎尔 , T·P·M·卡迪 , R·比尔恩斯 , O·菲思克尔 , W·安吉内恩特 , N·J·M·博施
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70258 , G03F7/70275 , G03F7/70366 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70558 , G03F7/70816 , G03F7/709
摘要： 本发明公开了一种曝光设备(1)，包括：投射系统(12，14)，配置成将多个辐射束投射到目标上；可移动框架(8)，其至少能够围绕轴线(10)旋转；以及致动器系统(11)，配置成将可移动框架位移至远离与可移动框架的几何中心对应的轴线的轴线并引起框架围绕通过框架的质心的轴线旋转。
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公开(公告)号：CN102124412B
公开(公告)日：2014-01-22
申请号：CN200980131874.8
申请日：2009-07-13
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70833 , G03F7/70258 , G03F7/70483
摘要： 提供了一种投影系统(PS)，该投影系统包括：传感器系统(20)，所述传感器系统(20)测量至少一个参数，所述参数与在所述投影系统(PS)内支撑光学元件(11)的框架(10)的物理变形相关联；和控制系统(30)，所述控制系统(30)基于来自所述传感器系统(20)的测量来确定由所述投影系统(PS)投影的所述辐射束的位置的预期偏离，所述预期偏离由所述框架(10)的物理变形引起。
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公开(公告)号：CN102124412A
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：CN200980131874.8
申请日：2009-07-13
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70833 , G03F7/70258 , G03F7/70483
摘要： 提供了一种投影系统(PS)，该投影系统包括：传感器系统(20)，所述传感器系统(20)测量至少一个参数，所述参数与在所述投影系统(PS)内支撑光学元件(11)的框架(10)的物理变形相关联；和控制系统(30)，所述控制系统(30)基于来自所述传感器系统(20)的测量来确定由所述投影系统(PS)投影的所述辐射束的位置的预期偏离，所述预期偏离由所述框架(10)的物理变形引起。
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