公开(公告)号：CN104040433A

公开(公告)日：2014-09-10

申请号：CN201280065095.4

申请日：2012-12-05

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： H·巴特勒 ,  A·布里克 ,  P·亨纳斯 ,  M·胡克斯 ,  S·A·J·霍尔 ,  H·范德斯库特 ,  B·斯拉格海克 ,  P·蒂纳曼斯 ,  M·范德威吉斯特 ,  K·扎尔 ,  T·P·M·卡迪 ,  R·比尔恩斯 ,  O·菲思克尔 ,  W·安吉内恩特 ,  N·J·M·博施

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70258 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70366 ,  G03F7/70391 ,  G03F7/704 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70816 ,  G03F7/709

摘要： 本发明公开了一种曝光设备(1)，包括：投射系统(12，14)，配置成将多个辐射束投射到目标上；可移动框架(8)，其至少能够围绕轴线(10)旋转；以及致动器系统(11)，配置成将可移动框架位移至远离与可移动框架的几何中心对应的轴线的轴线并引起框架围绕通过框架的质心的轴线旋转。

公开(公告)号：CN104040433B

公开(公告)日：2016-05-04

申请号：CN201280065095.4

申请日：2012-12-05

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： H·巴特勒 ,  A·布里克 ,  P·亨纳斯 ,  M·胡克斯 ,  S·A·J·霍尔 ,  H·范德斯库特 ,  B·斯拉格海克 ,  P·蒂纳曼斯 ,  M·范德威吉斯特 ,  K·扎尔 ,  T·P·M·卡迪 ,  R·比尔恩斯 ,  O·菲思克尔 ,  W·安吉内恩特 ,  N·J·M·博施

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70258 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70366 ,  G03F7/70391 ,  G03F7/704 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70816 ,  G03F7/709

摘要： 本发明公开了一种曝光设备(1)，包括：投射系统(12，14)，配置成将多个辐射束投射到目标上；可移动框架(8)，其至少能够围绕轴线(10)旋转；以及致动器系统(11)，配置成将可移动框架位移至远离与可移动框架的几何中心对应的轴线的轴线并引起框架围绕通过框架的质心的轴线旋转。