公开(公告)号：CN107367909A

公开(公告)日：2017-11-21

申请号：CN201710758280.6

申请日：2017-08-29

Applicant: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司

Inventor： 许俊安 ,  林明文 ,  王维 ,  江敏成 ,  熊定 ,  杨进森

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70016 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70166

Abstract: 本发明提供一种曝光机，曝光腔室外设有包围光源灯室和照明系镜组的透明防护罩，为所述光源灯室和照明系镜组提供了一隔离外部环境即洁净室内空气的空间，且所述透明防护罩与第一气体输送管道连接并相通，所述第一气体输送管道向所述透明防护罩内输送气体从而对所述光源灯室和照明系镜组进行冷却处理，能够避免现有技术直接抽取洁净室内空气对光源灯室和照明系镜组进行冷却而造成曝光腔室外镜片雾化的问题，使所述光源灯室和照明系镜组的镜片可以得到保护，进而可节省售价非常昂贵的高压汞灯或镜片，有效降低了生产成本。

公开(公告)号：CN105745579A

公开(公告)日：2016-07-06

申请号：CN201480063035.8

申请日：2014-09-24

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： V·班尼恩 ,  P·巴特瑞 ,  R·范格尔库姆 ,  L·阿门特 ,  彼得·德亚格尔 ,  G·德维里斯 ,  R·栋克尔 ,  W·恩格尔伦 ,  O·弗里基恩斯 ,  L·格瑞米克 ,  A·卡塔伦尼克 ,  E·鲁普斯特拉 ,  H-K·尼恩惠斯 ,  A·尼基帕罗夫 ,  M·瑞肯斯 ,  F·詹森 ,  B·克鲁兹卡

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  H01S3/09 ,  H05H7/04

CPC classification number: G21K1/067 ,  G01N2021/95676 ,  G02B5/1814 ,  G02B5/1823 ,  G02B5/1838 ,  G02B5/1861 ,  G02B27/0025 ,  G02B27/0938 ,  G02B27/10 ,  G02B27/1086 ,  G02B27/12 ,  G02B27/14 ,  G02B27/142 ,  G02B27/146 ,  G02B27/4272 ,  G03F1/84 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70208 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70991 ,  G21K2201/065 ,  H01S3/0903 ,  H05H7/04 ,  G03F7/70008 ,  G03F7/7005 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/7065

Abstract: 一种在光刻系统内使用的传输系统。所述束传输系统包括光学元件，所述光学元件被布置成接收来自辐射源的辐射束并且沿着一个或多个方向反射辐射的部分以形成用于供给到一个或多个工具的一个或多个分支辐射束。

公开(公告)号：CN103443863A

公开(公告)日：2013-12-11

申请号：CN201280015247.X

申请日：2012-03-21

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： U.丁格 ,  F.比杰科克 ,  M.拜拉克塔 ,  O.迪尔

IPC: G21K1/06

CPC classification number: G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/702 ,  G21K2201/067

Abstract: 一种EUV反射镜布置(100)，具有彼此并排布置并且共同形成所述反射镜布置的反射镜表面的多个反射镜元件(110、111、112)。每个反射镜元件具有基板(120)和多层布置(130)，所述多层布置被施加到所述基板上，并关于来自极紫外范围(EUV)的辐射具有反射效果，所述多层布置包括多个层对(135)，该层对具有由高折射率层材料和低折射率层材料组成的交替层。所述多层布置具有活性层(140)，该活性层布置在辐射进入表面和基板之间，并由压电活性层材料组成，可通过电场的作用来改变所述活性层的层厚度(z)；对于每个活性层，提供电极布置，用于产生作用于所述活性层的电场。

公开(公告)号：CN1791793B

公开(公告)日：2010-12-15

申请号：CN200480013804.X

申请日：2004-05-18

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： P·辛克 ,  J·潘克特 ,  G·德拉 ,  A·维伯

IPC: B08B3/08

CPC classification number: G21K1/06 ,  B08B7/00 ,  B08B7/0057 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70925 ,  G03F7/70941

Abstract: 本发明涉及一种至少一个照射设备的至少一个光学元件的清洁方法，该照射设备在一个真空室中具有至少一个产生尤其是强紫外线和/或软x射线的辐射源，其射线通过该光学元件引到一个待处理的工件上，由于通过该辐射源带入的无机物质，该光学元件至少部分地被污染。为此，建议将至少一种对射线(118)基本上透光或透明的反应组分(124)根据当前的反应条件通过一个供料装置(126)输入，该反应组分与沉积物(128)起化学反应，从而将其从光学元件(110)上去除掉。

公开(公告)号：CN101795527A

公开(公告)日：2010-08-04

申请号：CN201010003505.5

申请日：2003-09-17

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： K·N·科塞勒夫 ,  V·Y·班宁 ,  V·V·伊范诺夫 ,  E·R·基夫特 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  L·H·J·斯特文斯 ,  Y·V·斯德科夫 ,  V·G·科洛奇尼科夫 ,  V·M·克里特森 ,  R·R·加亚佐夫 ,  O·W·V·弗里恩斯

IPC: H05G2/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/02

CPC classification number: H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  F28D15/0266 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70916 ,  H05G2/005

Abstract: 本发明公开了一种辐射源、光刻装置和器件的制造方法。一种包括阳极和阴极的辐射源，所述阳极和阴极被构造和排列成可以在阳极和阴极之间的空间中的气体或蒸汽中产生放电，进而形成等离子体收缩来产生电磁辐射。所述气体或蒸汽包括氙气、铟、锂和/或锡。为提高热耗散，辐射源包括多个放电元件，每个放电元件只使用短的时间间隔，之后就选择其他的放电元件。为改善收缩形成和由之产生的EUV辐射脉冲的精确同步，辐射源包括一个触发器件。为提高转换效率，辐射源设置为具有低感应系数，并运行在自触发的状态。

公开(公告)号：CN100541336C

公开(公告)日：2009-09-16

申请号：CN200580019552.6

申请日：2005-06-14

Applicant: 原子能源局 ,  阿尔卡特真空技术法国公司

Inventor： G·谢莫尔 ,  P·科尔蒙 ,  P-Y·特罗 ,  O·萨布利蒙捷 ,  M·施密特 ,  B·巴尔托

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00 ,  G21K1/06

CPC classification number: G03F7/70166 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  H05G2/003 ,  H05G2/008

Abstract: 本发明涉及一种用于在激光束(1)聚焦的真空空间内产生基本上线性的靶(4)的设备(2)，该靶能够通过与聚焦的激光束(1)相互作用而发射等离子体，该等离子体发射远紫外辐射。接收设备(3)在靶(4)与聚焦的激光束(1)相互作用之后接收靶(4)，同时收集设备(110)收集由靶(4)发射的EUV辐射。将激光束聚焦在靶(4)上的元件(11)被布置成使得通过使激光束(1)位于相对于靶(4)的公共半空间内并通过相对于垂直于靶(4)的中间收集轴(6)倾斜大约60°至90°之间的预定角度而使得激光束(1)侧向聚焦在靶(4)上。收集设备(110)相对于中间收集轴(6)对称布置在包含聚焦在靶(4)上的激光束(1)的半空间内，且在中间收集轴(6)为中心的锥形空间(8)内，该锥形空间(8)的顶点位于靶(4)上，且顶点处的半角小于相对于该中间收集轴(6)的聚焦的激光束(1)的倾斜角度。该设备适于用作在光刻中用于EUV辐射的光源，用于制造集成电路。

公开(公告)号：CN1069136C

公开(公告)日：2001-08-01

申请号：CN96101194.7

申请日：1996-02-17

Applicant: 北京师范大学 ,  中国航天工业总公司

Inventor： 颜一鸣 ,  赫业军 ,  陈宝振 ,  刘安东 ,  丁训良 ,  王大椿 ,  魏富忠

IPC: G02B3/00

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G03F7/70166 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

Abstract: 一种整体X光透镜及其制造方法和应用，该透镜包含多个从一端贯通到另一端的X光导孔，其特点在于：该透镜为没有支撑部件的、且由上述X光导孔壁自身熔合而成的、单一的玻璃固体，它可在很宽的波长范围内调控X光，将其会聚成很小的束斑或转化为准平行光束，也可与X光导管或光阑组成组合体，以进一步提高X光功率密度，它的占空比高、结构小巧；该透镜采用在加热炉内将玻璃管拉伸，一次或多次复合方法一次拉制成型，因此工艺简单、省时、造价低，可应用于荧光分析仪、衍射仪及光刻装置中。

公开(公告)号：CN101795527B

公开(公告)日：2013-02-20

申请号：CN201010003505.5

申请日：2003-09-17

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： K·N·科塞勒夫 ,  V·Y·班宁 ,  V·V·伊范诺夫 ,  E·R·基夫特 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  L·H·J·斯特文斯 ,  Y·V·斯德科夫 ,  V·G·科洛奇尼科夫 ,  V·M·克里特森 ,  R·R·加亚佐夫 ,  O·W·V·弗里恩斯

IPC: H05G2/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/02

CPC classification number: H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  F28D15/0266 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70916 ,  H05G2/005

Abstract: 本发明公开了一种辐射源、光刻装置和器件的制造方法。一种包括阳极和阴极的辐射源，所述阳极和阴极被构造和排列成可以在阳极和阴极之间的空间中的气体或蒸汽中产生放电，进而形成等离子体收缩来产生电磁辐射。所述气体或蒸汽包括氙气、铟、锂和/或锡。为提高热耗散，辐射源包括多个放电元件，每个放电元件只使用短的时间间隔，之后就选择其他的放电元件。为改善收缩形成和由之产生的EUV辐射脉冲的精确同步，辐射源包括一个触发器件。为提高转换效率，辐射源设置为具有低感应系数，并运行在自触发的状态。

公开(公告)号：CN100505974C

公开(公告)日：2009-06-24

申请号：CN03164931.9

申请日：2003-09-30

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： G·G·祖卡维斯维里 ,  V·V·艾瓦诺夫 ,  K·N·科谢勒夫 ,  E·D·科罗布 ,  V·Y·班尼 ,  P·S·安特斯菲罗夫

IPC: H05H1/24 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  F28D15/0266 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70916 ,  H05G2/005

Abstract: 一种包括阳极和阴极的辐射源，所述阳极和阴极被配置和排列为在所述阳极和阴极之间的物质中产生放电形成等离子体从而产生电磁辐射。所述流体包括氙、铟、锂、锡或任何适合的材料。辐射源单元设置为具有低感应系数，并运行于等离子体最小的状态来提高转换效率。在辐射源体积和芯捻内设有流体循环系统，应用流体的气态和液态转换来提高热耗散。辐射源单元设置得产生最小量的污染物，并在不干扰出射辐射的情况下捕获污染物来防止污染物进入光刻投影装置。

公开(公告)号：CN100476585C

公开(公告)日：2009-04-08

申请号：CN200310125192.0

申请日：2003-12-22

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： L·P·巴克 ,  M·M·T·M·迪里奇斯 ,  J·M·弗雷里克斯 ,  F·J·P·舒尔曼斯 ,  J·维温科 ,  W·J·博西

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70916

Abstract: 一种杂质屏蔽，用于使来自辐射源的辐射通过，并捕获来自所述辐射源的碎片，所述的杂质屏蔽包括从主轴沿径向延伸的许多薄片，每一所述的薄片被定位在包含所述主轴的各自的平面内，其特征在于，该杂质屏蔽包括内环和外环，每一所述的薄片的至少一个外部边缘被可滑动地定位在所述内环和外环至少其中之一的槽中。这样，薄片曝光轻易扩展，并且避免了机械压力，因此薄片没有变形。该薄片的至少一个边缘与环热连接。