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公开(公告)号：CN1510518A
公开(公告)日：2004-07-07
申请号：CN200310121698.4
申请日：2003-12-19
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： L·H·J·斯特文斯 , M·H·A·里德斯 , H·梅林 , J·H·J·莫尔斯
CPC classification number: G03F7/70925 , B08B7/0035
Abstract: 本发明披露了各种新颖的清洁方法。先前的清洁方法普遍在于它们都包括将氧气注入整个系统内并将提供清洁辐射光束的单个辐射源接入到光刻装置内的每个光学元件。这会导致一些光学元件的过度曝光，而同时其它的光学元件并未被足够程度地清洁。通过提供一种系统就可以克服这一问题，该系统允许选择性地清洁一些或一组光学元件，且允许在光学元件的表面上出现空间变化的清洁。这可以通过仅仅向一个或一些光学元件供给清洁辐射光束和/或通过增加某些光学元件附近的局部氧气密度来实现。通过使用可以是动态自适应的灰色滤光片或者通过使用可控制的电子束部件就能够获得空间分解的清洁。
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公开(公告)号：CN101795527A
公开(公告)日：2010-08-04
申请号：CN201010003505.5
申请日：2003-09-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： K·N·科塞勒夫 , V·Y·班宁 , V·V·伊范诺夫 , E·R·基夫特 , E·R·鲁普斯特拉 , L·H·J·斯特文斯 , Y·V·斯德科夫 , V·G·科洛奇尼科夫 , V·M·克里特森 , R·R·加亚佐夫 , O·W·V·弗里恩斯
CPC classification number: H05G2/003 , B82Y10/00 , F28D15/0266 , G03F7/70033 , G03F7/70166 , G03F7/70916 , H05G2/005
Abstract: 本发明公开了一种辐射源、光刻装置和器件的制造方法。一种包括阳极和阴极的辐射源，所述阳极和阴极被构造和排列成可以在阳极和阴极之间的空间中的气体或蒸汽中产生放电，进而形成等离子体收缩来产生电磁辐射。所述气体或蒸汽包括氙气、铟、锂和/或锡。为提高热耗散，辐射源包括多个放电元件，每个放电元件只使用短的时间间隔，之后就选择其他的放电元件。为改善收缩形成和由之产生的EUV辐射脉冲的精确同步，辐射源包括一个触发器件。为提高转换效率，辐射源设置为具有低感应系数，并运行在自触发的状态。
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公开(公告)号：CN110832399A
公开(公告)日：2020-02-21
申请号：CN201880044201.8
申请日：2018-06-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： L·H·J·斯特文斯 , N·V·德兹沃姆基娜 , L·M·费尔南德斯迪亚兹 , J·A·C·M·皮耶宁堡
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种系统，包括：衬底支撑件，所述衬底支撑件配置成保持衬底；导电或半导电元件，所述导电或半导电元件与衬底支撑件接触并覆盖衬底支撑件的至少一部分；和充电装置，所述充电装置配置成相对于衬底支撑件的被导电或半导电元件覆盖的部分向所述导电或半导电元件施加正电位。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101795527B
公开(公告)日：2013-02-20
申请号：CN201010003505.5
申请日：2003-09-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： K·N·科塞勒夫 , V·Y·班宁 , V·V·伊范诺夫 , E·R·基夫特 , E·R·鲁普斯特拉 , L·H·J·斯特文斯 , Y·V·斯德科夫 , V·G·科洛奇尼科夫 , V·M·克里特森 , R·R·加亚佐夫 , O·W·V·弗里恩斯
CPC classification number: H05G2/003 , B82Y10/00 , F28D15/0266 , G03F7/70033 , G03F7/70166 , G03F7/70916 , H05G2/005
Abstract: 本发明公开了一种辐射源、光刻装置和器件的制造方法。一种包括阳极和阴极的辐射源，所述阳极和阴极被构造和排列成可以在阳极和阴极之间的空间中的气体或蒸汽中产生放电，进而形成等离子体收缩来产生电磁辐射。所述气体或蒸汽包括氙气、铟、锂和/或锡。为提高热耗散，辐射源包括多个放电元件，每个放电元件只使用短的时间间隔，之后就选择其他的放电元件。为改善收缩形成和由之产生的EUV辐射脉冲的精确同步，辐射源包括一个触发器件。为提高转换效率，辐射源设置为具有低感应系数，并运行在自触发的状态。
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公开(公告)号：CN100565344C
公开(公告)日：2009-12-02
申请号：CN200310121698.4
申请日：2003-12-19
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： L·H·J·斯特文斯 , M·H·A·里德斯 , H·梅林 , J·H·J·莫尔斯
CPC classification number: G03F7/70925 , B08B7/0035
Abstract: 本发明披露了各种新颖的清洁方法。先前的清洁方法普遍在于它们都包括将氧气注入整个系统内并将提供清洁辐射光束的单个辐射源接入到光刻装置内的每个光学元件。这会导致一些光学元件的过度曝光，而同时其它的光学元件并未被足够程度地清洁。通过提供一种系统就可以克服这一问题，该系统允许选择性地清洁一些或一组光学元件，且允许在光学元件的表面上出现空间变化的清洁。这可以通过仅仅向一个或一些光学元件供给清洁辐射光束和/或通过增加某些光学元件附近的局部氧气密度来实现。通过使用可以是动态自适应的灰色滤光片或者通过使用可控制的电子束部件就能够获得空间分解的清洁。
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公开(公告)号：CN110832399B
公开(公告)日：2021-09-28
申请号：CN201880044201.8
申请日：2018-06-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： L·H·J·斯特文斯 , N·V·德兹沃姆基娜 , L·M·费尔南德斯迪亚兹 , J·A·C·M·皮耶宁堡
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种系统，包括：衬底支撑件，所述衬底支撑件配置成保持衬底；导电或半导电元件，所述导电或半导电元件与衬底支撑件接触并覆盖衬底支撑件的至少一部分；和充电装置，所述充电装置配置成相对于衬底支撑件的被导电或半导电元件覆盖的部分向所述导电或半导电元件施加正电位。
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公开(公告)号：CN100594428C
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN03164836.3
申请日：2003-09-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： K·N·科塞勒夫 , V·Y·班宁 , V·V·伊范诺夫 , E·R·基夫特 , E·R·鲁普斯特拉 , L·H·J·斯特文斯 , Y·V·斯德科夫 , V·G·科洛奇尼科夫 , V·M·克里特森 , R·R·加亚佐夫 , O·W·V·弗里恩斯
IPC: G03F7/20 , H01J17/02 , H01L21/027
CPC classification number: H05G2/003 , B82Y10/00 , F28D15/0266 , G03F7/70033 , G03F7/70166 , G03F7/70916 , H05G2/005
Abstract: 一种包括阳极和阴极的辐射源，所述阳极和阴极被构造和排列成可以在阳极和阴极之间的空间中的气体或蒸汽中产生放电，进而形成等离子体收缩来产生电磁辐射。所述气体或蒸汽包括氙气、铟，锂和/或锡。为提高热耗散，辐射源包括多个放电元件，每个放电元件只使用短的时间间隔，之后就选择其他的放电元件。为改善收缩形成和由之产生的的EUV辐射脉冲的精确同步，辐射源包括一个触发器件。为提高转换效率，辐射源设置为具有低感应系数，并运行在自触发的状态。
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公开(公告)号：CN1497349A
公开(公告)日：2004-05-19
申请号：CN03164836.3
申请日：2003-09-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： K·N·科塞勒夫 , V·Y·班宁 , V·V·伊范诺夫 , E·R·基夫特 , E·R·鲁普斯特拉 , L·H·J·斯特文斯 , Y·V·斯德科夫 , V·G·科洛奇尼科夫 , V·M·克里特森 , R·R·加亚佐夫 , O·W·V·弗里恩斯
IPC: G03F7/20 , H01J17/02 , H01L21/027
CPC classification number: H05G2/003 , B82Y10/00 , F28D15/0266 , G03F7/70033 , G03F7/70166 , G03F7/70916 , H05G2/005
Abstract: 一种包括阳极和阴极的辐射源，所述阳极和阴极被构造和排列成可以在阳极和阴极之间的空间中的气体或蒸汽中产生放电，进而形成等离子体收缩来产生电磁辐射。所述气体或蒸汽包括氙气、铟，锂和/或锡。为提高热耗散，辐射源包括多个放电元件，每个放电元件只使用短的时间间隔，之后就选择其他的放电元件。为改善收缩形成和由之产生的的EUV辐射脉冲的精确同步，辐射源包括一个触发器件。为提高转换效率，辐射源设置为具有低感应系数，并运行在自触发的状态。
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