公开(公告)号：CN100541336C

公开(公告)日：2009-09-16

申请号：CN200580019552.6

申请日：2005-06-14

Applicant: 原子能源局 ,  阿尔卡特真空技术法国公司

Inventor： G·谢莫尔 ,  P·科尔蒙 ,  P-Y·特罗 ,  O·萨布利蒙捷 ,  M·施密特 ,  B·巴尔托

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00 ,  G21K1/06

CPC classification number: G03F7/70166 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  H05G2/003 ,  H05G2/008

Abstract: 本发明涉及一种用于在激光束(1)聚焦的真空空间内产生基本上线性的靶(4)的设备(2)，该靶能够通过与聚焦的激光束(1)相互作用而发射等离子体，该等离子体发射远紫外辐射。接收设备(3)在靶(4)与聚焦的激光束(1)相互作用之后接收靶(4)，同时收集设备(110)收集由靶(4)发射的EUV辐射。将激光束聚焦在靶(4)上的元件(11)被布置成使得通过使激光束(1)位于相对于靶(4)的公共半空间内并通过相对于垂直于靶(4)的中间收集轴(6)倾斜大约60°至90°之间的预定角度而使得激光束(1)侧向聚焦在靶(4)上。收集设备(110)相对于中间收集轴(6)对称布置在包含聚焦在靶(4)上的激光束(1)的半空间内，且在中间收集轴(6)为中心的锥形空间(8)内，该锥形空间(8)的顶点位于靶(4)上，且顶点处的半角小于相对于该中间收集轴(6)的聚焦的激光束(1)的倾斜角度。该设备适于用作在光刻中用于EUV辐射的光源，用于制造集成电路。

公开(公告)号：CN101019078A

公开(公告)日：2007-08-15

申请号：CN200580019552.6

申请日：2005-06-14

Applicant: 原子能源局 ,  阿尔卡特真空技术法国公司

Inventor： G·谢莫尔 ,  P·科尔蒙 ,  P-Y·特罗 ,  O·萨布利蒙捷 ,  M·施密特 ,  B·巴尔托

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00 ,  G21K1/06

CPC classification number: G03F7/70166 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  H05G2/003 ,  H05G2/008

Abstract: 本发明涉及一种用于在激光束(1)聚焦的真空空间内产生基本上线性的靶(4)的设备(2)，该靶能够通过与聚焦的激光束(1)相互作用而发射等离子体，该等离子体发射远紫外辐射。接收设备(3)在靶(4)与聚焦的激光束(1)相互作用之后接收靶(4)，同时收集设备(110)收集由靶(4)发射的EUV辐射。将激光束聚焦在靶(4)上的元件(11)被布置成使得通过使激光束(1)位于相对于靶(4)的公共半空间内并通过相对于垂直于靶(4)的中间收集轴(6)倾斜大约60°至90°之间的预定角度而使得激光束(1)侧向聚焦在靶(4)上。收集设备(110)相对于中间收集轴(6)对称布置在包含聚焦在靶(4)上的激光束(1)的半空间内，且在中间收集轴(6)为中心的锥形空间(8)内，该锥形空间(8)的顶点位于靶(4)上，且顶点处的半角小于相对于该中间收集轴(6)的聚焦的激光束(1)的倾斜角度。该设备适于用作在光刻中用于EUV辐射的光源，用于制造集成电路。