至少一个光学元件的清洁方法和装置
Abstract:
本发明涉及一种至少一个照射设备的至少一个光学元件的清洁方法,该照射设备在一个真空室中具有至少一个产生尤其是强紫外线和/或软x射线的辐射源,其射线通过该光学元件引到一个待处理的工件上,由于通过该辐射源带入的无机物质,该光学元件至少部分地被污染。为此,建议将至少一种对射线(118)基本上透光或透明的反应组分(124)根据当前的反应条件通过一个供料装置(126)输入,该反应组分与沉积物(128)起化学反应,从而将其从光学元件(110)上去除掉。
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