Invention Grant
- Patent Title: 至少一个光学元件的清洁方法和装置
- Patent Title (English): Method and device for cleaning at least one optical component
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Application No.: CN200480013804.XApplication Date: 2004-05-18
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Publication No.: CN1791793BPublication Date: 2010-12-15
- Inventor: P·辛克 , J·潘克特 , G·德拉 , A·维伯
- Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
- Applicant Address: 荷兰艾恩德霍芬
- Assignee: 皇家飞利浦电子股份有限公司
- Current Assignee: 皇家飞利浦有限公司
- Current Assignee Address: 荷兰艾恩德霍芬
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 原绍辉; 赵辛
- Priority: 03101475.6 2003.05.22 EP
- International Application: PCT/IB2004/050734 2004.05.18
- International Announcement: WO2004/104707 DE 2004.12.02
- Date entered country: 2005-11-21
- Main IPC: B08B3/08
- IPC: B08B3/08

Abstract:
本发明涉及一种至少一个照射设备的至少一个光学元件的清洁方法,该照射设备在一个真空室中具有至少一个产生尤其是强紫外线和/或软x射线的辐射源,其射线通过该光学元件引到一个待处理的工件上,由于通过该辐射源带入的无机物质,该光学元件至少部分地被污染。为此,建议将至少一种对射线(118)基本上透光或透明的反应组分(124)根据当前的反应条件通过一个供料装置(126)输入,该反应组分与沉积物(128)起化学反应,从而将其从光学元件(110)上去除掉。
Public/Granted literature
- CN1791793A 至少一个光学元件的清洁方法和装置 Public/Granted day:2006-06-21
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IPC分类: