-
公开(公告)号：CN101796893A
公开(公告)日：2010-08-04
申请号：CN200880106162.6
申请日：2008-09-03
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: H05G2/00
Abstract: 本发明涉及一种用于气体放电源的电极设备、包括这种电极设备的气体放电源以及操作该气体放电源的方法。电极设备包括可围绕旋转轴(3)旋转的电极轮(1)和擦拭器单元(11)，所述擦拭器单元(11)被设置成在所述电极轮(1)的旋转期间限制被施加到该电极轮(1)的外圆周表面(18)的至少一部分上的液体材料膜的厚度。擦拭器单元(11)被设置并设计成在外圆周表面(18)与擦拭器单元(11)的擦拭边缘(19)之间形成间隙(17)，并且在旋转期间抑制或者至少减少液体材料从侧表面到电极轮(1)的外圆周表面(18)的转移。利用所提出的电极设备，电极轮(1)可以在更高的旋转速度下旋转而不会形成液滴，从而得到具有这种电极设备的气体放电源的更高的输出功率和脉冲频率。
-
公开(公告)号：CN1791793B
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：CN200480013804.X
申请日：2004-05-18
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: B08B3/08
CPC classification number: G21K1/06 , B08B7/00 , B08B7/0057 , B82Y10/00 , G03F7/70166 , G03F7/70925 , G03F7/70941
Abstract: 本发明涉及一种至少一个照射设备的至少一个光学元件的清洁方法，该照射设备在一个真空室中具有至少一个产生尤其是强紫外线和/或软x射线的辐射源，其射线通过该光学元件引到一个待处理的工件上，由于通过该辐射源带入的无机物质，该光学元件至少部分地被污染。为此，建议将至少一种对射线(118)基本上透光或透明的反应组分(124)根据当前的反应条件通过一个供料装置(126)输入，该反应组分与沉积物(128)起化学反应，从而将其从光学元件(110)上去除掉。
-
公开(公告)号：CN101796893B
公开(公告)日：2013-02-06
申请号：CN200880106162.6
申请日：2008-09-03
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: H05G2/00
Abstract: 本发明涉及一种用于气体放电源的电极设备、包括这种电极设备的气体放电源以及操作该气体放电源的方法。电极设备包括可围绕旋转轴(3)旋转的电极轮(1)和擦拭器单元(11)，所述擦拭器单元(11)被设置成在所述电极轮(1)的旋转期间限制被施加到该电极轮(1)的外圆周表面(18)的至少一部分上的液体材料膜的厚度。擦拭器单元(11)被设置并设计成在外圆周表面(18)与擦拭器单元(11)的擦拭边缘(19)之间形成间隙(17)，并且在旋转期间抑制或者至少减少液体材料从侧表面到电极轮(1)的外圆周表面(18)的转移。利用所提出的电极设备，电极轮(1)可以在更高的旋转速度下旋转而不会形成液滴，从而得到具有这种电极设备的气体放电源的更高的输出功率和脉冲频率。
-
公开(公告)号：CN1791793A
公开(公告)日：2006-06-21
申请号：CN200480013804.X
申请日：2004-05-18
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC classification number: G21K1/06 , B08B7/00 , B08B7/0057 , B82Y10/00 , G03F7/70166 , G03F7/70925 , G03F7/70941
Abstract: 本发明涉及一种至少一个照射设备的至少一个光学元件的清洁方法，该照射设备在一个真空室中具有至少一个产生尤其是强紫外线和/或软x射线的辐射源，其射线通过该光学元件引到一个待处理的工件上，由于通过该辐射源带入的无机物质，该光学元件至少部分地被污染。为此，建议将至少一种对射线(118)基本上透光或透明的反应组分(124)根据当前的反应条件通过一个供料装置(126)输入，该反应组分与沉积物(128)起化学反应，从而将其从光学元件(110)上去除掉。
-
-
-
Search Results
4
records
(took 0.027 seconds)
