Invention Publication
- Patent Title: 曝光机
- Patent Title (English): Exposure machine
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Application No.: CN201710758280.6Application Date: 2017-08-29
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Publication No.: CN107367909APublication Date: 2017-11-21
- Inventor: 许俊安 , 林明文 , 王维 , 江敏成 , 熊定 , 杨进森
- Applicant: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
- Applicant Address: 广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号
- Assignee: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
- Current Assignee: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
- Current Assignee Address: 广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号
- Agency: 深圳市德力知识产权代理事务所
- Agent 林才桂
- Main IPC: G03F7/20
- IPC: G03F7/20

Abstract:
本发明提供一种曝光机,曝光腔室外设有包围光源灯室和照明系镜组的透明防护罩,为所述光源灯室和照明系镜组提供了一隔离外部环境即洁净室内空气的空间,且所述透明防护罩与第一气体输送管道连接并相通,所述第一气体输送管道向所述透明防护罩内输送气体从而对所述光源灯室和照明系镜组进行冷却处理,能够避免现有技术直接抽取洁净室内空气对光源灯室和照明系镜组进行冷却而造成曝光腔室外镜片雾化的问题,使所述光源灯室和照明系镜组的镜片可以得到保护,进而可节省售价非常昂贵的高压汞灯或镜片,有效降低了生产成本。
Public/Granted literature
- CN107367909B 曝光机 Public/Granted day:2019-01-15
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IPC分类: