本发明提供一种曝光装置，其具备：基板保持载物台(110)，可保持基板(W)并往复移动及升降；曝光载物台(320)，保持掩模板(310)，使图案面(M2)与基板(W)的感光面(M1)相面对；掩模除尘部(120)，与基板保持载物台(110)一起前进，通过推压掩模板(310)的图案面(M2)的方向的力(第1方向的力)而与图案面(M2)的表面接触，一边旋转一边除尘；及基板除尘部(210)，通过基板保持载物台(110)前进，而利用推压基板(W)的感光面(M1)的方向的力(第2方向的力)与基板(W)的感光面(M1)接触，一边旋转一边除尘。根据本发明的曝光装置，能够简化用于对基板的感光面及掩模的表面进行除尘的机构整体，并且能够使大量的基板高速曝光。