知搜-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

54 条记录 (耗时 0.017 秒)

    一种直写光刻设备的位置同步方法及系统
    2.
    发明公开
    一种直写光刻设备的位置同步方法及系统 有权

    公开(公告)号：CN109407471A

    公开(公告)日：2019-03-01

    申请号：CN201811417217.7

    申请日：2018-11-26

    申请人： 合肥芯碁微电子装备有限公司

    发明人： 赵美云

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/2053 ,  G03F7/70383 ,  G03F7/70491 ,  G03F7/70508 ,  G03F7/70775

    摘要： 本发明公开了一种直写光刻设备的位置同步方法及系统，属于光刻设备技术领域，包括其用于通过DMD数字微镜图像中设置的FPGA处理器，对DMD数字微镜图像输出与运动平台之间的位置进行同步，包括如下步骤：FPGA处理器对单端信号进行检测，该单端信号为运动平台的驱动器输出的位置同步信号转化得到；在检测到单端信号时，触发FPGA处理器内部输出一个时钟信号；利用时钟信号触发输出DND数字微镜和运动平台之间的扫描数据。本发明将位置同步信号作为指示运动平台是否到达指定的曝光位置的信号，降低了运动平台驱动器输出PSO信号的依赖性，避免出现运动平台驱动器PSO信号丢失时造成的图形曝光的不连续。

    一种电子束曝光散射参数的提取方法
    3.
    发明公开
    一种电子束曝光散射参数的提取方法 无效

    公开(公告)号：CN109324482A

    公开(公告)日：2019-02-12

    申请号：CN201710675206.8

    申请日：2017-07-31

    申请人： 吴辉

    发明人： 吴辉

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/2061 ,  G03F7/70491

    摘要： 本发明涉及一种电子束曝光散射参数的提取方法。为了解决现有电子束曝光散射参数提取方法中操作繁琐且难以保证准确性的问题，本发明提供一种电子束曝光散射参数的提取方法，该方法根据所要进行参数提取的电子束抗蚀剂及衬底结构特性设计出合适的前散射参数α、背散射参数β以及背散射与前散射沉积能量之比η的提取版图；然后在待测的电子抗蚀剂及衬底结构上分别对三种设计的版图进行变剂量的电子束直写曝光；最后根据多组不同参数曝光、显影及剥离后的图形结构特征确定一组合适的散射参数。本发明无需进行大量烦琐的测量，因此不存在测量误差，并减少了由于数学处理带来的误差，使参数提取准确且简单易行。

    一种空心柱立体结构的图形加工方法
    4.
    发明公开
    一种空心柱立体结构的图形加工方法 无效

    公开(公告)号：CN109143792A

    公开(公告)日：2019-01-04

    申请号：CN201811019376.1

    申请日：2018-09-03

    申请人： 中山新诺科技股份有限公司

    发明人： 梅文辉 ,  敦士军

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70416 ,  G03F7/70383 ,  G03F7/70491

    摘要： 本发明公开了一种空心柱体立体结构的图形加工方法，该方法包括：步骤1，将柱体浸入到感光胶内，使柱体的表面形成感光胶层；步骤2，根据柱体的表面的曝光尺寸大小及希望得到的柱体的结构，用绘图软件绘制所需要的二维电子图形，计算将柱体的表面分割成若干子区域并确定每个子区域的曝光焦点，并形成待加工图形；步骤3，利用无掩模光刻技术，将待加工图形曝光在柱体的表面上；步骤4，对显影后的柱体的表面进行图形加法或是图形减法处理；步骤5，剥离柱体的表面的感光胶，得到连续的精细图形形成在柱体的表面。本发明提供的方法能够制作出严格同心或是同波纹或是严格图形步进重复的任意精密图形的结构件。

    检查装置、检查方法和设备制造方法
    8.
    发明授权
    检查装置、检查方法和设备制造方法 有权

    公开(公告)号：CN106662824B

    公开(公告)日：2018-07-24

    申请号：CN201580037024.7

    申请日：2015-06-19

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： A·辛格 ,  H·P·M·佩莱曼斯 ,  P·沃纳尔

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70491 ,  G01J3/2823 ,  G01J3/45 ,  G01N21/4788 ,  G01N2201/06113 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633

    摘要： 检查装置(100)用于测量衬底上的目标。相干辐射跟随用于照射目标(T)的照射路径(实线)。收集路径(虚线)收集来自目标的衍射辐射并且将其传递至锁定图像检测器(112)。参考束跟随参考路径(点线)。声光调制器(108)偏移参考束的光学频率，使得锁定检测器处的辐射的强度包括时变分量，其具有与衍射辐射与参考辐射的频率之间的差相对应的特征频率。锁定图像检测器记录表示时变分量的幅度和相位的二维图像信息。具有不同偏移(110)的第二参考束跟随第二参考路径(点划线)。两个参考束之间的敢骚扰可用于强度标准化。

    光刻投影物镜控制装置
    9.
    发明公开
    光刻投影物镜控制装置 无效

    公开(公告)号：CN108227388A

    公开(公告)日：2018-06-29

    申请号：CN201611133636.9

    申请日：2016-12-10

    申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

    发明人： 郭嘉亮 ,  李佩玥 ,  葛川 ,  李朋志 ,  隋永新 ,  杨怀江

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70275 ,  G03F7/70491 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70758

    摘要： 本发明公开了一种光刻投影物镜控制装置。所述光刻投影物镜控制装置包括上位机、工控机箱、驱动控制箱、压电驱动器和电容传感器：所述工控机箱包括主控单板计算机、多路光纤从板和VPX总线背板，所述主控单板计算机上设置有光刻投影物镜控制器；所述驱动控制箱包括高压驱动板和信号采集板；所述光刻投影物镜控制器在接收到物镜功能性调节控制指令后，对所述物镜功能性调节控制指令进行闭环运动控制运算处理并打包后将控制指令发送至多路光纤从板；所述多路光纤从板将所述控制指令发送至高压驱动板，所述高压驱动板对所述控制指令做出数/模转换之后完成对压电驱动器的驱动控制。本发明提供的光刻投影物镜控制装置能对个功能性调节机构进行集中控制。