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公开(公告)号：CN106054539A
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201610412727.X
申请日：2016-06-13
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925 , G03F7/70716
摘要： 本发明涉及曝光机技术领域，提供了一种承载工作台。该承载工作台包括用于自动清洗台面的擦拭设备和用于干燥台面的干燥设备。通过擦拭设备可清除较顽固污渍，清洁效果好；通过干燥设备可加快清洁剂的蒸发速度，实现即擦即干，可在短时间内完成自动清洁，不影响设备及产线的正常运营。
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公开(公告)号：CN106054539B
公开(公告)日：2018-10-30
申请号：CN201610412727.X
申请日：2016-06-13
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明涉及曝光机技术领域，提供了一种承载工作台。该承载工作台包括用于自动清洗台面的擦拭设备和用于干燥台面的干燥设备。通过擦拭设备可清除较顽固污渍，清洁效果好；通过干燥设备可加快清洁剂的蒸发速度，实现即擦即干，可在短时间内完成自动清洁，不影响设备及产线的正常运营。
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公开(公告)号：CN105655276B
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201610153784.0
申请日：2016-03-17
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H01L21/677 , G02F1/13
摘要： 本申请提供了一种基板传送装置及显示器生产设备，用以避免由于基板的显示区域与滚轮接触而导致显示区域出现各种显示不良，从而提高产品的品质，本申请提供的一种基板传送装置，包括：供气系统、多根传送杆、以及安装在每一所述传送杆上的多个滚轮；其中，每一所述滚轮为可充气式滚轮；所述供气系统用于为与基板的非显示区域相对的滚轮充气，使得与基板的非显示区域相对的滚轮能够接触并传送所述基板。
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公开(公告)号：CN105824200A
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201610379882.6
申请日：2016-05-31
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/20 , G03F7/70733 , H01L21/67748 , G03F7/70716
摘要： 本发明公开了一种基板支撑结构及曝光机，涉及机械设备技术领域，可减少现有技术中因托举件的水平位置固定而对产品良率造成影响的问题。该基板支撑结构包括多个托举件和第一驱动装置，多个所述托举件的顶端位于同一水平面内，所述第一驱动装置可驱动至少一个所述托举件水平移动。本发明用于支撑基板。
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公开(公告)号：CN108388076A
公开(公告)日：2018-08-10
申请号：CN201810181739.5
申请日：2018-03-06
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G03F1/00
摘要： 本发明公开了一种掩膜版及其掩膜方法、制造方法、掩膜系统，该掩膜版包括本体和位于本体上的第一曝光图案、第二曝光图案和位于所述第一曝光图案和所述第二曝光图案之外的遮光图案，第一曝光图案用于当第一光线照射时透光且当第二光线照射时不透光，第二曝光图案用于当第二光线照射时透光且当第一光线照射时不透光。本发明仅通过单张掩膜版即可实现多条产线的掩膜功能，有效降低了生产成本。
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公开(公告)号：CN105652608B
公开(公告)日：2017-11-07
申请号：CN201610232693.6
申请日：2016-04-14
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供了一种曝光机及曝光方法，涉及显示技术领域，在曝光过程中使支撑针顶在显示基板的非显示区域上，从而避免了采用这种显示基板进行画面显示时出现姆拉现象。所述曝光机包括基台、设置于基台中并可从基台的上表面伸出的多个支撑针、与各支撑针相连的支撑针控制器，支撑针控制器包括：与各支撑针相连的支撑针确定单元，用于根据待曝光的显示基板的显示区域和非显示区域的具体位置，确定多个支撑针中要使用的支撑针，使要使用的支撑针对应显示基板的非显示区域；与支撑针确定单元和各支撑针均相连的伸缩控制单元，用于控制要使用的支撑针在曝光时伸出基台的上表面，以支撑显示基板。本发明提供的曝光机用于对显示基板进行曝光。
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公开(公告)号：CN105947524A
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201610352829.7
申请日：2016-05-25
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
CPC分类号： B65G13/00 , B65G39/04 , B65G43/08 , B65G49/064 , B65G2201/022
摘要： 本发明提供一种基板传输装置，包括多个并排设置的传输辊，所述传输辊包括传输轴和设置在该传输轴上的多个辊轮，所述传输轴用于带动所述辊轮绕所述传输轴的轴线转动，所述辊轮能够沿所述传输轴的轴线方向与所述传输轴发生相对移动。本发明能够减少基板在传输过程中受到的划伤。
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公开(公告)号：CN105655276A
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201610153784.0
申请日：2016-03-17
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H01L21/677 , G02F1/13
CPC分类号： H01L21/67706 , G02F1/1303
摘要： 本申请提供了一种基板传送装置及显示器生产设备，用以避免由于基板的显示区域与滚轮接触而导致显示区域出现各种显示不良，从而提高产品的品质，本申请提供的一种基板传送装置，包括：供气系统、多根传送杆、以及安装在每一所述传送杆上的多个滚轮；其中，每一所述滚轮为可充气式滚轮；所述供气系统用于为与基板的非显示区域相对的滚轮充气，使得与基板的非显示区域相对的滚轮能够接触并传送所述基板。
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公开(公告)号：CN108388076B
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN201810181739.5
申请日：2018-03-06
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G03F1/00
摘要： 本发明公开了一种掩膜版及其掩膜方法、制造方法、掩膜系统，该掩膜版包括本体和位于本体上的第一曝光图案、第二曝光图案和位于所述第一曝光图案和所述第二曝光图案之外的遮光图案，第一曝光图案用于当第一光线照射时透光且当第二光线照射时不透光，第二曝光图案用于当第二光线照射时透光且当第一光线照射时不透光。本发明仅通过单张掩膜版即可实现多条产线的掩膜功能，有效降低了生产成本。
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公开(公告)号：CN105947524B
公开(公告)日：2018-05-18
申请号：CN201610352829.7
申请日：2016-05-25
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种基板传输装置，包括多个并排设置的传输辊，所述传输辊包括传输轴和设置在该传输轴上的多个辊轮，所述传输轴用于带动所述辊轮绕所述传输轴的轴线转动，所述辊轮能够沿所述传输轴的轴线方向与所述传输轴发生相对移动。本发明能够减少基板在传输过程中受到的划伤。
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