公开(公告)号：CN101794079A

公开(公告)日：2010-08-04

申请号：CN200910253825.3

申请日：2009-12-08

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： T·E·J·克娜蓬 ,  R·J·布鲁斯 ,  Y·J·L·M·范多麦伦 ,  J·H·W·雅克布斯 ,  M·H·卡姆普斯 ,  P·M·M·利布瑞格特斯 ,  R·A·J·马斯 ,  M·K·斯塔文卡 ,  C·C·W·沃斯帕盖特 ,  R·J·M·皮伦斯 ,  J·C·范德豪文 ,  D·L·恩斯陶特兹 ,  G-J·G·J·T·布朗德斯 ,  M·J·范德赞登 ,  V·K·巴达姆 ,  C·R·德格鲁特

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70925 ,  G03B27/52 ,  G03F7/70341

Abstract: 本发明提供一种光刻设备和器件制造方法。所述光刻设备具有包括目标和/或传感器的台，和用以采用局部气流从目标和/或传感器转移液体的液体转移装置。液体转移装置可以定位在多个位置处，例如安装在曝光站处的液体处理装置、邻近曝光站和测量站之间的传递路径或位于曝光站和测量站之间的移动路径中、以及位于装载/卸载站处或邻近传感器。

公开(公告)号：CN101840158A

公开(公告)日：2010-09-22

申请号：CN201010118075.1

申请日：2010-02-10

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·K·斯达文卡 ,  N·R·凯姆普 ,  M·H·A·里恩德尔斯 ,  P·M·M·里布莱格特斯 ,  J·C·H·缪尔肯斯 ,  E·H·E·C·尤米伦 ,  R·莫尔曼 ,  M·瑞鹏 ,  S·舒勒普伍 ,  G-J·G·J·T·布朗德斯 ,  K·斯蒂芬斯 ,  J·W·克洛姆威吉克 ,  R·J·梅杰尔斯 ,  F·伊凡吉里斯塔 ,  D·贝山姆斯 ,  李华 ,  M·乔詹姆森 ,  P·L·J·岗特尔 ,  F·W·贝尔 ,  E·威特伯格 ,  M·A·J·斯米特斯 ,  马振华

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341

Abstract: 本发明公开了一种光刻设备、控制该设备的方法及器件制造方法。具体地，公开了一种操作光刻设备的方法。该方法包括相对于投影系统移动支撑衬底的衬底台，和调整在对衬底的边缘处或附近的预定区域中的目标成像期间衬底台和投影系统之间的扫描速度，或调整在衬底的边缘处或附近的预定区域中的相邻目标位置之间的步进速度，或上述两者。所述调整扫描和/或步进速度可以包括降低速度。投影系统被配置以将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。

公开(公告)号：CN101840158B

公开(公告)日：2013-01-23

申请号：CN201010118075.1

申请日：2010-02-10

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·K·斯达文卡 ,  N·R·凯姆普 ,  M·H·A·里恩德尔斯 ,  P·M·M·里布莱格特斯 ,  J·C·H·缪尔肯斯 ,  E·H·E·C·尤米伦 ,  R·莫尔曼 ,  M·瑞鹏 ,  S·舒勒普伍 ,  G-J·G·J·T·布朗德斯 ,  K·斯蒂芬斯 ,  J·W·克洛姆威吉克 ,  R·J·梅杰尔斯 ,  F·伊凡吉里斯塔 ,  D·贝山姆斯 ,  李华 ,  M·乔詹姆森 ,  P·L·J·岗特尔 ,  F·W·贝尔 ,  E·威特伯格 ,  M·A·J·斯米特斯 ,  马振华

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341

Abstract: 本发明公开了一种光刻设备、控制该设备的方法及器件制造方法。具体地，公开了一种操作光刻设备的方法。该方法包括相对于投影系统移动支撑衬底的衬底台，和调整在对衬底的边缘处或附近的预定区域中的目标成像期间衬底台和投影系统之间的扫描速度，或调整在衬底的边缘处或附近的预定区域中的相邻目标位置之间的步进速度，或上述两者。所述调整扫描和/或步进速度可以包括降低速度。投影系统被配置以将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。