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公开(公告)号：CN103365117A
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201310268012.8
申请日：2009-12-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： N·R·凯姆皮尔 , R·N·J·范巴莱高吉 , M·M·P·A·沃姆伦 , M·瑞鹏 , M·W·范登胡威尔 , P·P·J·博克文斯 , C·德米特森阿尔 , J·M·W·范登温凯尔 , C·M·诺普斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , F01N1/023 , G03F7/709
Abstract: 本发明公开了一种用于抽取光刻设备中的两相流体的流体抽取系统，所述流体抽取系统包括：抽取通道，其用于使两相流体流从其中通过；和分离储槽，其与所述抽取通道流体连接，并且被配置用于接收来自所述抽取通道的所述两相流体流，其中，所述抽取通道的壁的至少一部分和/或所述分离储槽的壁的至少一部分包括柔性边界部分，所述柔性边界部分被配置以响应于在其上的压力差的变化发生变形，以便减小所述流体抽取系统中的所述两相流体的压力波动。另外，本发明还公开了包括该流体抽取系统的浸没式光刻设备的流体处理系统、浸没式光刻设备以及用于减小浸没式光刻设备中所使用的浸没液体的压力波动的方法。
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公开(公告)号：CN101762986A
公开(公告)日：2010-06-30
申请号：CN200910253279.3
申请日：2009-12-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： N·R·凯姆皮尔 , R·N·J·范巴莱高吉 , M·M·P·A·沃姆伦 , M·瑞鹏 , M·W·范登胡威尔 , P·P·J·博克文斯 , C·德米特森阿尔 , J·M·W·范登温凯尔 , C·M·诺普斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , F01N1/023 , G03F7/709
Abstract: 本发明公开了一种流体处理系统、一种光刻设备和一种器件制造方法。所述光刻设备典型地包括流体处理系统。流体处理系统通常包括两相流体抽取系统，其被配置以从给定的位置移除气体和液体的混合物。因为抽取流体包括两相，所以可以改变抽取系统中的压力。这种压力变化可以穿过浸没液体并且导致曝光的错误。为了减小抽取系统中的压力波动，可以使用缓冲腔。这种缓冲腔可以连接至流体抽取系统，以便提供减小压力波动的气体体积体。可替代地或另外地，可以在流体抽取系统中的一些位置上提供柔性壁。柔性壁可以响应于流体抽取系统中的压力变化来改变形状。通过改变形状，柔性壁可以帮助减小或消除压力波动。
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公开(公告)号：CN101598906A
公开(公告)日：2009-12-09
申请号：CN200910203129.1
申请日：2009-06-02
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707
Abstract: 本发明涉及一种衬底台、一种光刻设备和一种器件制造方法。所述衬底台在使用期间采用多种方法在台和支撑在台上的物体的边缘之间进行密封。尤其是，在位于台上的物体和台本身之间形成毛细通路。在毛细通路径向向内侧处过压的存在和/或弯液面钉扎特征将液体保持在所述通道内，并且帮助阻止液体进一步径向向内前进。实现这种功能的所述特征可以与围绕所述物体的部件相关联或形成在所述部件内。所述部件可以与所述台的一部分热隔离。
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公开(公告)号：CN101923291B
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201010213165.9
申请日：2010-06-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： D·J·M·迪莱克斯 , N·R·凯姆波 , D·M·H·菲利普斯 , M·瑞鹏 , C·J·G·范德顿根 , M·A·C·斯凯皮斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341
Abstract: 本发明公开了一种浸没光刻设备、控制所述设备的方法以及使用光刻设备制造器件的方法。所述浸没光刻设备包括：衬底台，被配置以支撑衬底；投影系统，被配置以将图案化的辐射束投影到衬底上；液体处理系统，被配置以将浸没液体供给和限制到投影系统与衬底、或衬底台、或衬底和衬底台两者之间所限定的空间；和控制器，用于基于所述路径上的转弯之间的距离在衬底台穿过路径在液体处理系统下面移动期间控制衬底台相对于液体处理系统的移动速度。
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公开(公告)号：CN101598906B
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN200910203129.1
申请日：2009-06-02
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707
Abstract: 本发明涉及一种衬底台、一种光刻设备和一种器件制造方法。所述衬底台在使用期间采用多种方法在台和支撑在台上的物体的边缘之间进行密封。尤其是，在位于台上的物体和台本身之间形成毛细通路。在毛细通路径向向内侧处过压的存在和/或弯液面钉扎特征将液体保持在所述通道内，并且帮助阻止液体进一步径向向内前进。实现这种功能的所述特征可以与围绕所述物体的部件相关联或形成在所述部件内。所述部件可以与所述台的一部分热隔离。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102236264A
公开(公告)日：2011-11-09
申请号：CN201110096632.9
申请日：2011-04-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·H·M·考蒂 , P·M·M·里布莱格特斯 , M·瑞鹏 , F·伊凡吉里斯塔
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341
Abstract: 本发明公开了一种流体处理结构、光刻设备和器件制造方法。所述流体处理结构用于光刻设备，所述流体处理结构在从配置成包含浸没流体的空间至在所述流体处理结构外部的部位的边界上依次具有：布置在第一线中的细长开口或多个开口，其在使用中被引导朝向衬底和/或配置成支撑所述衬底的衬底台；气刀装置，所述气刀装置具有在第二线中的细长孔；和与所述气刀装置相邻的细长开口或多个开口。
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公开(公告)号：CN101840158A
公开(公告)日：2010-09-22
申请号：CN201010118075.1
申请日：2010-02-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·K·斯达文卡 , N·R·凯姆普 , M·H·A·里恩德尔斯 , P·M·M·里布莱格特斯 , J·C·H·缪尔肯斯 , E·H·E·C·尤米伦 , R·莫尔曼 , M·瑞鹏 , S·舒勒普伍 , G-J·G·J·T·布朗德斯 , K·斯蒂芬斯 , J·W·克洛姆威吉克 , R·J·梅杰尔斯 , F·伊凡吉里斯塔 , D·贝山姆斯 , 李华 , M·乔詹姆森 , P·L·J·岗特尔 , F·W·贝尔 , E·威特伯格 , M·A·J·斯米特斯 , 马振华
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备、控制该设备的方法及器件制造方法。具体地，公开了一种操作光刻设备的方法。该方法包括相对于投影系统移动支撑衬底的衬底台，和调整在对衬底的边缘处或附近的预定区域中的目标成像期间衬底台和投影系统之间的扫描速度，或调整在衬底的边缘处或附近的预定区域中的相邻目标位置之间的步进速度，或上述两者。所述调整扫描和/或步进速度可以包括降低速度。投影系统被配置以将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。
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公开(公告)号：CN102880006B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201210238530.0
申请日：2012-07-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70866 , G03F7/70341
Abstract: 本发明公开了一种流体处理结构、光刻设备和器件制造方法。所述流体处理结构在配置用于将浸没流体限制在流体处理结构之外的区域的空间的边界处具有：弯液面钉扎特征，用以抵抗浸没流体沿径向向外的方向离开所述空间；线性阵列形式的多个气体供给开口，其至少部分地围绕弯液面钉扎特征并且在弯液面钉扎特征的径向向外位置处；其中所述线性阵列的多个气体供给开口的尺寸类似或相同。
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公开(公告)号：CN102193328B
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN201110052100.5
申请日：2011-03-02
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03B27/52 , G03F7/70341
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和使用光刻设备制造器件的方法。一种用于光刻设备的液体处理结构包括：液滴控制器，配置成允许浸没液体的液滴从所述结构损失且防止所述液滴与所限制的浸没液体的弯液面碰撞。液滴控制器可以包括气刀，所述气刀布置成交叠以阻挡进入的液滴。可以设置有与用于抽取穿过间隙的液体的气刀之间的间隙对齐的抽取孔。允许液滴穿过间隙逸出。
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公开(公告)号：CN101576718B
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：CN200910141992.9
申请日：2009-05-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·瑞鹏 , N·R·凯姆波 , J·P·M·B·沃麦乌伦 , D·J·M·迪莱克斯 , D·M·H·飞利浦斯 , A·J·范普腾
CPC classification number: G03B27/52 , G03F7/70341 , G03F7/70916
Abstract: 本发明公开一种浸没式光刻设备、干燥装置、浸没量测设备和器件制造方法。在所述浸没式光刻设备中，液体去除装置布置成：例如在曝光期间，通过沿一条线布置且与该线形成角度的多个细长的狭槽从衬底去除液体。液体去除装置用作浸没罩(hood)中的弯液面钉扎装置，或用在干燥装置中以从衬底上去除液滴。
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