公开(公告)号：CN117337412A

公开(公告)日：2024-01-02

申请号：CN202280035403.2

申请日：2022-04-28

Applicant: ASML控股股份有限公司 ,  ASML荷兰有限公司

Inventor： 沙哈布·谢尔文 ,  塔莫·伊特尔迪克 ,  M·利普森 ,  M·M·P·A·沃姆伦

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种模块化晶片台以及用于翻新废弃的晶片以制造所述模块化晶片台的方法。所述方法包括：从晶片台的表面移除一个或更多个突节；在移除所述一个或更多个突节之后对所述晶片台的所述表面进行抛光以形成核心模块；形成突节模块，在所述突节模块上具有多个突节；以及将所述核心模块结合到所述突节模块。

公开(公告)号：CN103365117A

公开(公告)日：2013-10-23

申请号：CN201310268012.8

申请日：2009-12-11

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·R·凯姆皮尔 ,  R·N·J·范巴莱高吉 ,  M·M·P·A·沃姆伦 ,  M·瑞鹏 ,  M·W·范登胡威尔 ,  P·P·J·博克文斯 ,  C·德米特森阿尔 ,  J·M·W·范登温凯尔 ,  C·M·诺普斯

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  F01N1/023 ,  G03F7/709

Abstract: 本发明公开了一种用于抽取光刻设备中的两相流体的流体抽取系统，所述流体抽取系统包括：抽取通道，其用于使两相流体流从其中通过；和分离储槽，其与所述抽取通道流体连接，并且被配置用于接收来自所述抽取通道的所述两相流体流，其中，所述抽取通道的壁的至少一部分和/或所述分离储槽的壁的至少一部分包括柔性边界部分，所述柔性边界部分被配置以响应于在其上的压力差的变化发生变形，以便减小所述流体抽取系统中的所述两相流体的压力波动。另外，本发明还公开了包括该流体抽取系统的浸没式光刻设备的流体处理系统、浸没式光刻设备以及用于减小浸没式光刻设备中所使用的浸没液体的压力波动的方法。

公开(公告)号：CN101762986A

公开(公告)日：2010-06-30

申请号：CN200910253279.3

申请日：2009-12-11

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·R·凯姆皮尔 ,  R·N·J·范巴莱高吉 ,  M·M·P·A·沃姆伦 ,  M·瑞鹏 ,  M·W·范登胡威尔 ,  P·P·J·博克文斯 ,  C·德米特森阿尔 ,  J·M·W·范登温凯尔 ,  C·M·诺普斯

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  F01N1/023 ,  G03F7/709

Abstract: 本发明公开了一种流体处理系统、一种光刻设备和一种器件制造方法。所述光刻设备典型地包括流体处理系统。流体处理系统通常包括两相流体抽取系统，其被配置以从给定的位置移除气体和液体的混合物。因为抽取流体包括两相，所以可以改变抽取系统中的压力。这种压力变化可以穿过浸没液体并且导致曝光的错误。为了减小抽取系统中的压力波动，可以使用缓冲腔。这种缓冲腔可以连接至流体抽取系统，以便提供减小压力波动的气体体积体。可替代地或另外地，可以在流体抽取系统中的一些位置上提供柔性壁。柔性壁可以响应于流体抽取系统中的压力变化来改变形状。通过改变形状，柔性壁可以帮助减小或消除压力波动。

公开(公告)号：CN118633060A

公开(公告)日：2024-09-10

申请号：CN202380019450.2

申请日：2023-01-11

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： G·克拉默 ,  C·W·J·贝伦德森 ,  S·万佩尔特 ,  M·M·P·A·沃姆伦 ,  S·K·拉文斯伯格 ,  埃里克·W·博加特

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种用于浸没光刻设备中的衬底台，所述衬底台具有限定用于支撑待图案化的衬底的支撑平面的支撑区域和围绕所述支撑区域的上表面，其中：所述上表面包括大致平面的外部区和邻近于所述支撑区域的过渡区；并且所述过渡区是与所述外部区不共面的以便改善所述外部区与非标准衬底之间的水平过渡，所述非标准衬底具有不同于所述支撑平面与由所述外部区限定的名义平面之间的距离的厚度。

公开(公告)号：CN115176203A

公开(公告)日：2022-10-11

申请号：CN202180015881.2

申请日：2021-01-25

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： C·H·M·伯尔蒂斯 ,  N·坦凯特 ,  M·M·P·A·沃姆伦 ,  S·A·特姆普 ,  F·P·A·范德别尔克莫特尔 ,  N·J·J·罗塞 ,  G·克拉默 ,  N·P·M·布兰吉斯 ,  M·T·J·芳廷

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种用于在光刻设备中支撑衬底的衬底支撑件，该衬底支撑件包括：第一支撑体，该第一支撑体被配置成支撑衬底；主本体，该主本体与第一支撑体分离，并且被配置成支撑第一支撑体，主本体包括热调节器，该热调节器被配置成热调节主本体和/或第一支撑体和/或衬底；以及提取件本体，该提取件本体围绕主本体和支撑体，其中提取件本体包括第一提取通道，该第一提取通道被配置成从衬底的周边部分的附近提取流体。

公开(公告)号：CN103365117B

公开(公告)日：2015-09-23

申请号：CN201310268012.8

申请日：2009-12-11

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·R·凯姆皮尔 ,  R·N·J·范巴莱高吉 ,  M·M·P·A·沃姆伦 ,  M·瑞鹏 ,  M·W·范登胡威尔 ,  P·P·J·博克文斯 ,  C·德米特森阿尔 ,  J·M·W·范登温凯尔 ,  C·M·诺普斯

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  F01N1/023 ,  G03F7/709

Abstract: 本发明公开了一种用于抽取光刻设备中的两相流体的流体抽取系统，所述流体抽取系统包括：抽取通道，其用于使两相流体流从其中通过；和分离储槽，其与所述抽取通道流体连接，并且被配置用于接收来自所述抽取通道的所述两相流体流，其中，所述抽取通道的壁的至少一部分和/或所述分离储槽的壁的至少一部分包括柔性边界部分，所述柔性边界部分被配置以响应于在其上的压力差的变化发生变形，以便减小所述流体抽取系统中的所述两相流体的压力波动。另外，本发明还公开了包括该流体抽取系统的浸没式光刻设备的流体处理系统、浸没式光刻设备以及用于减小浸没式光刻设备中所使用的浸没液体的压力波动的方法。

公开(公告)号：CN101762986B

公开(公告)日：2013-07-10

申请号：CN200910253279.3

申请日：2009-12-11

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·R·凯姆皮尔 ,  R·N·J·范巴莱高吉 ,  M·M·P·A·沃姆伦 ,  M·瑞鹏 ,  M·W·范登胡威尔 ,  P·P·J·博克文斯 ,  C·德米特森阿尔 ,  J·M·W·范登温凯尔 ,  C·M·诺普斯

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  F01N1/023 ,  G03F7/709

Abstract: 本发明公开了一种流体处理系统、一种光刻设备和一种器件制造方法。所述光刻设备典型地包括流体处理系统。流体处理系统通常包括两相流体抽取系统，其被配置以从给定的位置移除气体和液体的混合物。因为抽取流体包括两相，所以可以改变抽取系统中的压力。这种压力变化可以穿过浸没液体并且导致曝光的错误。为了减小抽取系统中的压力波动，可以使用缓冲腔。这种缓冲腔可以连接至流体抽取系统，以便提供减小压力波动的气体体积体。可替代地或另外地，可以在流体抽取系统中的一些位置上提供柔性壁。柔性壁可以响应于流体抽取系统中的压力变化来改变形状。通过改变形状，柔性壁可以帮助减小或消除压力波动。