公开(公告)号：CN119547014A

公开(公告)日：2025-02-28

申请号：CN202380045582.2

申请日：2023-05-24

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： D·蓬特托尼 ,  N·J·J·罗塞 ,  T·N·M·西格 ,  J·惠伯特斯 ,  S·K·拉文斯伯格 ,  黄壮雄

IPC: G03F7/00

Abstract: 一种衬底支撑件，被配置为在光刻设备中支撑衬底，衬底支撑件包括：第一圆周壁；第一开口，在第一圆周壁的径向外侧并且被配置为供应和/或抽取气体；第二圆周壁，在第一开口的径向外侧；第二开口，与环境压力流体连通并且在第二圆周壁的径向外侧；第三圆周壁，在第二开口的径向外侧；第三开口，在第三圆周壁的径向外侧并且被配置为抽取流体；以及第四圆周壁，在第三开口的径向外侧。

公开(公告)号：CN118633060A

公开(公告)日：2024-09-10

申请号：CN202380019450.2

申请日：2023-01-11

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： G·克拉默 ,  C·W·J·贝伦德森 ,  S·万佩尔特 ,  M·M·P·A·沃姆伦 ,  S·K·拉文斯伯格 ,  埃里克·W·博加特

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种用于浸没光刻设备中的衬底台，所述衬底台具有限定用于支撑待图案化的衬底的支撑平面的支撑区域和围绕所述支撑区域的上表面，其中：所述上表面包括大致平面的外部区和邻近于所述支撑区域的过渡区；并且所述过渡区是与所述外部区不共面的以便改善所述外部区与非标准衬底之间的水平过渡，所述非标准衬底具有不同于所述支撑平面与由所述外部区限定的名义平面之间的距离的厚度。