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公开(公告)号：CN119547014A
公开(公告)日：2025-02-28
申请号：CN202380045582.2
申请日：2023-05-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/00
Abstract: 一种衬底支撑件，被配置为在光刻设备中支撑衬底，衬底支撑件包括：第一圆周壁；第一开口，在第一圆周壁的径向外侧并且被配置为供应和/或抽取气体；第二圆周壁，在第一开口的径向外侧；第二开口，与环境压力流体连通并且在第二圆周壁的径向外侧；第三圆周壁，在第二开口的径向外侧；第三开口，在第三圆周壁的径向外侧并且被配置为抽取流体；以及第四圆周壁，在第三开口的径向外侧。
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公开(公告)号：CN115176202A
公开(公告)日：2022-10-11
申请号：CN202080094125.9
申请日：2020-12-24
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
Inventor： R·P·奥尔布赖特 , K·巴尔 , V·Y·拜尼恩 , 理查德·J·布鲁尔斯 , S·F·德弗里斯 , O·W·V·弗吉恩斯 , 黄仰山 , 黄壮雄 , J·H·W·雅各布斯 , J·H·J·莫尔斯 , G·N·内恩查夫 , A·尼基帕罗夫 , T·M·瑞斯费尔德 , M·兰詹 , E·特斯莱特 , K·R·乌姆施塔特 , E·乌兹戈伦 , M·A·范德柯克霍夫 , P·耶格霍比
Abstract: 一种设备，包括：辐射接收设备，该辐射接收设备设置有开口，该辐射接收设备能够操作为通过开口接收来自辐射源的辐射；其中，该辐射接收设备包括偏转设备，该偏转设备被布置成改变颗粒通过开口到达辐射接收设备的轨迹。
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公开(公告)号：CN118556212A
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202280088848.7
申请日：2022-12-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种用于光刻设备的系统包括：衬底台；另一装置；以及至少一个可变形分隔件。衬底台(例如晶片台)被布置为支撑衬底。该系统可配置为处于第一配置，使得装置的表面面向并邻近衬底和衬底台。至少一个可变形分隔件或者：(a)当系统处于第一配置时，从衬底台部分地延伸朝向装置的表面；或者(b)当系统处于第一配置时，从面向并邻近衬底和衬底台的装置的表面部分地延伸朝向衬底台。
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公开(公告)号：CN115702389A
公开(公告)日：2023-02-14
申请号：CN202180041436.3
申请日：2021-05-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·N·冯塞卡·祖尼尔 , 黄壮雄 , F·J·L·赫茨 , F·梅格海尔布林克 , H·A·J·W·范德文 , R·奥梅罗维克 , E·A·T·范登阿科
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种用于光学元件(120)的流体净化系统(100)，包括：流体引导单元，该流体引导单元被布置为在光学元件的光学表面(122)的至少弯曲部分上引导由流体供应系统提供的流体。流体引导单元包括流体入口和第一喷嘴单元(110)，该第一喷嘴单元用于向光学表面提供流体。该流体引导单元由至少第一壁部分(102)和至少第二壁部分(104)形成，其中第二壁部分被配置为面向光学表面并且跟随光学表面的轮廓。第二壁部分包括第二喷嘴单元(112)。
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公开(公告)号：CN118661137A
公开(公告)日：2024-09-17
申请号：CN202380020576.1
申请日：2023-01-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/687
Abstract: 一种支撑件，该支撑件用于在夹持器的制造期间支撑部分的或完全的夹持器，其中该支撑件包括位于顶表面上的升高的柔性元件，该柔性元件被配置为由于作用在柔性元件上的气体压差而变形，以在夹持器和支撑件之间的空间与夹持器外部的空间之间形成气体流动限制。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116157743A
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202180060464.X
申请日：2021-07-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了一种用于光刻过程的焦距测量的方法。所述方法包括：接收衬底，已经通过光刻设备利用照射光瞳在所述衬底上印制量测图案；利用量测工具照射所述量测图案以基于由所述量测图案散射的辐射来测量信号；和基于所测量的信号来确定或监测所述光刻过程的焦距。所述量测图案的至少一部分的位置依赖于焦距。所述量测图案的至少一部分已经由所述光刻设备利用角向不对称的照射光瞳来印制。
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公开(公告)号：CN114788101A
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN202080084189.0
申请日：2020-10-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01S3/036
Abstract: 功率放大器包括气体激光器腔室、气体激光器功率源、催化剂腔室、反馈装置和处理器。气体激光器腔室被配置为容纳流动气体混合物。气体激光器功率源被耦合到气体激光器腔室，并且被配置为向流动气体混合物提供能量以输出激光束。催化剂腔室被耦合到气体激光器腔室并且包括催化剂，该催化剂被配置为对流动气体混合物中的离解分子进行再氧化。反馈装置被耦合到气体激光器腔室和/或激光束，并且被配置为测量功率放大器的特性。处理器被耦合到催化剂腔室和反馈装置。该处理器被配置为基于经测量的特性来调整流动气体混合物于催化剂腔室中的催化剂的暴露量。
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公开(公告)号：CN119404146A
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN202380048141.8
申请日：2023-07-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 黄壮雄 , A·特拉利 , R·T·M·吉利森 , M·A·G·默凯科斯
Abstract: 提供了一种流体配发系统，该流体配发系统包括：具有预定义渗透性以允许流体的渗透的流体可渗透表面；以及控制器，其被配置为通过控制流体的压力和流体可渗透表面的暴露表面积中的一者或两者来控制流体渗透进入体积的速率。还提供了一种控制流体的配发的方法、包括这种流体配发系统的等离子体产生装置、以及这种系统、方法或装置在光刻装置或光刻工艺中的用途。
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公开(公告)号：CN117795430A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202280055687.1
申请日：2022-07-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 关天男 , 黄壮雄 , J·B·C·恩格伦 , G·纳基伯格鲁 , M·克鲁兹加 , P·J·M·范吉尔斯 , A·特拉利 , S·F·德维瑞斯 , M·M·C·F·特尼森 , R·J·布鲁尔斯 , F·范德梅尤伦
IPC: G03F7/20 , H01L21/683
Abstract: 本发明涉及一种静电保持器，包括本体和夹持元件，该夹持元件附接到本体，所述夹持元件包括电极，该电极用于在夹持元件与第一待夹持物体之间施加吸引力，其中本体的外边缘被配置为在本体的外边缘与第一待夹持物体之间提供间隙，该间隙被配置为用于输出用于减少到达第一待夹持物体或到达位于保持器的相反侧上的第二待夹持物体的灰尘颗粒的流体。
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公开(公告)号：CN115701293A
公开(公告)日：2023-02-07
申请号：CN202180040349.6
申请日：2021-04-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·N·冯塞卡·祖尼尔 , F·J·L·赫茨 , 黄壮雄 , F·梅格海尔布林克
Abstract: 本发明提供用于光学元件(30)的流体净化系统(100)，其包括环状件和流体供应系统(40)。环状件由完全围绕光学元件的主体形成，环状件限定其径向向内并邻近光学元件的空间(5)。环状件由至少一个第一壁部(10)和至少一个第二壁部(20A；20B)形成，其中第一壁部的平均高度大于第二壁部的平均高度。流体供应系统被径向地定位在环状件的外部、并且被配置为供应用于经过至少一个第二壁部到达空间的流体。
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