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公开(公告)号：CN111819499B
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN201980017481.8
申请日：2019-02-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·J·J·简森 , P·J·J·H·A·哈贝茨 , G·纳基伯格鲁 , R·W·A·H·施米茨 , R·范德梅伦唐克 , J·D·B·J·范登博姆 , N·P·瓦特森
IPC: G03F7/20
Abstract: 本公开提供一种辐射屏蔽装置、包括辐射屏蔽装置的设备和方法。设备包括：热敏装置；辐射元件，辐射元件在操作中生成朝向热敏装置传播的第一电磁辐射；以及辐射屏蔽装置，布置在辐射元件与热敏装置之间使得在操作中第一辐射入射在辐射屏蔽装置上。辐射屏蔽装置包括：具有第一流体通道的第一屏蔽元件和具有第二流体通道的第二屏蔽元件。第一屏蔽元件被布置为比第二屏蔽元件靠近辐射元件，并且第二屏蔽元件被布置为比第一屏蔽元件靠近热敏装置，第一屏蔽元件和第二屏蔽元件彼此间隔开。
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公开(公告)号：CN117795430A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202280055687.1
申请日：2022-07-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 关天男 , 黄壮雄 , J·B·C·恩格伦 , G·纳基伯格鲁 , M·克鲁兹加 , P·J·M·范吉尔斯 , A·特拉利 , S·F·德维瑞斯 , M·M·C·F·特尼森 , R·J·布鲁尔斯 , F·范德梅尤伦
IPC: G03F7/20 , H01L21/683
Abstract: 本发明涉及一种静电保持器，包括本体和夹持元件，该夹持元件附接到本体，所述夹持元件包括电极，该电极用于在夹持元件与第一待夹持物体之间施加吸引力，其中本体的外边缘被配置为在本体的外边缘与第一待夹持物体之间提供间隙，该间隙被配置为用于输出用于减少到达第一待夹持物体或到达位于保持器的相反侧上的第二待夹持物体的灰尘颗粒的流体。
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公开(公告)号：CN117296013A
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN202280034405.X
申请日：2022-04-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·范德梅伦唐克 , R·I·库斯特 , M·W·I·M·威尔布林克 , S·G·布鲁斯特 , G·A·H·F·詹森 , N·P·瓦特森 , G·纳基伯格鲁
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种流限制元件，该流限制元件包括：具有大横截面入口和小横截面出口的入口部分；具有小横截面入口和大横截面出口的出口部分，以及具有入口和出口的螺旋形管，其中所述入口连接到所述入口部分的小横截面出口，并且所述出口连接到所述出口部分的小横截面入口。
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公开(公告)号：CN117242401A
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202280030141.0
申请日：2022-03-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·范德梅伦唐克 , D·J·M·迪雷克斯 , G·纳基伯格鲁 , N·P·瓦特森 , J·A·克鲁格基斯特 , S·匹克尔德 , A·J·范德内特 , J·H·W·雅各布斯 , J·奥德斯 , G·A·H·F·詹森 , J·P·J·范利比奇格 , J·F·M·范桑特沃尔特
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了使用调节液体来调节物体温度的温度调节系统，温度调节系统包括调节导管、回流导管、供应室和排放室，其中温度调节系统被布置为在供应室出口和排放室入口之间提供静态压力差，以产生通过调节导管的流。还描述了对物体进行温度调节的光刻设备和方法。
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公开(公告)号：CN111819499A
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN201980017481.8
申请日：2019-02-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·J·J·简森 , P·J·J·H·A·哈贝茨 , G·纳基伯格鲁 , R·W·A·H·施米茨 , R·范德梅伦唐克 , J·D·B·J·范登博姆 , N·P·瓦特森
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种设备包括：热敏装置(F)；辐射元件(RE)，辐射元件在操作中生成第一电磁辐射(ER)，第一辐射朝向热敏装置传播；以及辐射屏蔽装置(20)，布置在辐射元件与热敏装置之间使得在操作中第一辐射入射在辐射屏蔽装置上。辐射屏蔽装置包括：具有布置在其中的第一流体通道(215)的第一屏蔽元件(21)，第一屏蔽元件具有第一表面(213)和第二表面(214)，第一表面被布置为比第二表面更靠近辐射元件；以及具有布置在其中的第二流体通道(225)的第二屏蔽元件(22)，第二屏蔽元件具有第三表面(223)和第四表面(224)，第三表面被布置为比第四表面靠近辐射元件。第一屏蔽元件被布置为比第二屏蔽元件靠近辐射元件，并且第二屏蔽元件被布置为比第一屏蔽元件靠近热敏装置，第一屏蔽元件和第二屏蔽元件彼此间隔开并且第二表面和第三表面彼此相对。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109863453A
公开(公告)日：2019-06-07
申请号：CN201780061493.1
申请日：2017-09-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种执行衬底的光刻曝光的方法，衬底保持在衬底台上，衬底台包括可操作用以冷却衬底台的冷却系统，方法包括，执行衬底的对准测量，施加热量至衬底台以减小由冷却系统所提供对衬底台的冷却，在执行对准测量时刻与执行光刻曝光时刻之间施加热量，以及执行衬底的光刻曝光。
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公开(公告)号：CN109863453B
公开(公告)日：2021-09-14
申请号：CN201780061493.1
申请日：2017-09-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种执行衬底的光刻曝光的方法，衬底保持在衬底台上，衬底台包括可操作用以冷却衬底台的冷却系统，方法包括，执行衬底的对准测量，施加热量至衬底台以减小由冷却系统所提供对衬底台的冷却，在执行对准测量时刻与执行光刻曝光时刻之间施加热量，以及执行衬底的光刻曝光。
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公开(公告)号：CN108885406B
公开(公告)日：2020-09-11
申请号：CN201780019458.3
申请日：2017-02-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·E·塞克利 , G·纳基伯格鲁 , F·J·J·范博克斯特尔 , J-P·X·范达梅 , R·J·F·范哈伦
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种图案化设备冷却系统(30)，用于热调节光刻装置的图案化设备(MA)，其中图案化设备在使用时被曝光辐射照射，其中图案化设备冷却系统包括：热调节器(20)，被配置为热调节图案化设备；以及控制器(500)，被配置为控制热调节器，以根据被图案化设备吸收的曝光辐射的量来热调节图案化设备。
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公开(公告)号：CN110799904A
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：CN201880041791.9
申请日：2018-06-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种辐射源(SO)，包括：燃料供给装置(3)，被配置为供给燃料；激发装置(1)，被配置为将燃料激发成等离子体(7)；收集器(5)，被配置为收集由等离子体发射的辐射并且将该辐射引导至束出口；碎片缓解系统(20)，被配置为收集由等离子生成的碎片，该碎片缓解系统具有部件(3，9B，21，22，23，24，27，28，29)，该部件具有从中穿过的管道(301)；以及温度控制系统(300)，被配置为通过选择性地加热或冷却穿过管道循环的热传递流体来选择性地增加或降低该部件的温度。
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公开(公告)号：CN108885406A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201780019458.3
申请日：2017-02-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·E·塞克利 , G·纳基伯格鲁 , F·J·J·范博克斯特尔 , J-P·X·范达梅 , R·J·F·范哈伦
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种图案化设备冷却系统(30)，用于热调节光刻装置的图案化设备(MA)，其中图案化设备在使用时被曝光辐射照射，其中图案化设备冷却系统包括：热调节器(20)，被配置为热调节图案化设备；以及控制器(500)，被配置为控制热调节器，以根据被图案化设备吸收的曝光辐射的量来热调节图案化设备。
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