公开(公告)号：CN109804313B

公开(公告)日：2024-06-25

申请号：CN201780060159.4

申请日：2017-08-11

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： F·范德梅尤伦 ,  E·J·阿勒马克 ,  H·H·M·考克斯 ,  M·A·W·丘珀斯 ,  J·德胡戈 ,  G·C·德维雷斯 ,  P·C·H·德威特 ,  S·C·R·德克斯 ,  R·C·G·吉杰曾 ,  D·V·P·赫姆舒特 ,  C·A·霍根达姆 ,  A·H·凯沃特斯 ,  R·W·L·拉法雷 ,  A·L·C·勒鲁克斯 ,  P·W·P·里姆彭斯 ,  J·V·奥弗坎普 ,  C·L·瓦伦丁 ,  K·范伯克尔 ,  S·H·范德莫伦 ,  J·C·G·范德桑登 ,  H·K·范德舒特 ,  D·F·弗勒斯 ,  E·A·R·威斯特豪斯

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种光刻设备，包括被配置为投射图案化辐射束以在被保持在衬底台上的衬底上形成曝光区域的投影系统，光刻设备进一步包括用于冷却衬底的冷却设备，其中冷却设备包括位于衬底台上方并且邻近于曝光区域的冷却元件，冷却元件被配置为从衬底去除热量。

公开(公告)号：CN109804313A

公开(公告)日：2019-05-24

申请号：CN201780060159.4

申请日：2017-08-11

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： F·范德梅尤伦 ,  E·J·阿勒马克 ,  H·H·M·考克斯 ,  M·A·W·丘珀斯 ,  J·德胡戈 ,  G·C·德维雷斯 ,  P·C·H·德威特 ,  S·C·R·德克斯 ,  R·C·G·吉杰曾 ,  D·V·P·赫姆舒特 ,  C·A·霍根达姆 ,  A·H·凯沃特斯 ,  R·W·L·拉法雷 ,  A·L·C·勒鲁克斯 ,  P·W·P·里姆彭斯 ,  J·V·奥弗坎普 ,  C·L·瓦伦丁 ,  K·范伯克尔 ,  S·H·范德莫伦 ,  J·C·G·范德桑登 ,  H·K·范德舒特 ,  D·F·弗勒斯 ,  E·A·R·威斯特豪斯

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种光刻设备，包括被配置为投射图案化辐射束以在被保持在衬底台上的衬底上形成曝光区域的投影系统，光刻设备进一步包括用于冷却衬底的冷却设备，其中冷却设备包括位于衬底台上方并且邻近于曝光区域的冷却元件，冷却元件被配置为从衬底去除热量。

公开(公告)号：CN118556212A

公开(公告)日：2024-08-27

申请号：CN202280088848.7

申请日：2022-12-21

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： D·拉贝斯基 ,  E·A·T·范登阿科 ,  J·德胡戈 ,  黄壮雄 ,  S·F·德维瑞斯 ,  S·A·哈扎里

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种用于光刻设备的系统包括：衬底台；另一装置；以及至少一个可变形分隔件。衬底台(例如晶片台)被布置为支撑衬底。该系统可配置为处于第一配置，使得装置的表面面向并邻近衬底和衬底台。至少一个可变形分隔件或者：(a)当系统处于第一配置时，从衬底台部分地延伸朝向装置的表面；或者(b)当系统处于第一配置时，从面向并邻近衬底和衬底台的装置的表面部分地延伸朝向衬底台。