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公开(公告)号：CN109804313B
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN201780060159.4
申请日：2017-08-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·范德梅尤伦 , E·J·阿勒马克 , H·H·M·考克斯 , M·A·W·丘珀斯 , J·德胡戈 , G·C·德维雷斯 , P·C·H·德威特 , S·C·R·德克斯 , R·C·G·吉杰曾 , D·V·P·赫姆舒特 , C·A·霍根达姆 , A·H·凯沃特斯 , R·W·L·拉法雷 , A·L·C·勒鲁克斯 , P·W·P·里姆彭斯 , J·V·奥弗坎普 , C·L·瓦伦丁 , K·范伯克尔 , S·H·范德莫伦 , J·C·G·范德桑登 , H·K·范德舒特 , D·F·弗勒斯 , E·A·R·威斯特豪斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种光刻设备，包括被配置为投射图案化辐射束以在被保持在衬底台上的衬底上形成曝光区域的投影系统，光刻设备进一步包括用于冷却衬底的冷却设备，其中冷却设备包括位于衬底台上方并且邻近于曝光区域的冷却元件，冷却元件被配置为从衬底去除热量。
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公开(公告)号：CN107771303B
公开(公告)日：2021-06-04
申请号：CN201680036158.1
申请日：2016-04-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·H·凯沃特斯 , E·J·阿勒马克 , S·C·R·德克斯 , S·N·L·唐德斯 , W·E·恩登迪杰克 , F·J·J·简森 , R·W·L·拉法雷 , L·M·勒瓦希尔 , J·V·奥弗坎普 , N·坦凯特 , J·C·G·范德桑登
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种光刻设备，包括被配置成投影图案化辐射束以在被保持在衬底台上的衬底上形成曝光区域的投影系统，光刻设备进一步包括用于对衬底进行冷却的冷却设备，其中冷却设备包括位于衬底台的上方且与曝光区域相邻的冷却元件，冷却元件被配置成从衬底移除热量。
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公开(公告)号：CN107367907A
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：CN201710708172.8
申请日：2013-05-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·N·L·唐德斯 , M·菲恩 , C·A·霍根达姆 , M·霍本 , J·H·W·雅各布斯 , A·H·凯沃特斯 , R·W·L·拉法雷 , J·V·奥弗卡姆普 , N·坦凯特 , J·S·C·韦斯特拉肯 , A·F·J·德格罗特 , M·范贝杰纳姆
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70733 , G03F7/70858
Abstract: 一种用于光刻装置的支撑装置(60)，具有物体保持件(61)和在物体保持件径向外侧的提取主体(65)。物体保持件被配置为支撑物体(W)。提取主体包括被配置为从支撑装置的顶面提取流体的提取开口(66)。提取主体与物体保持件间隔开，使得提取主体与物体保持件基本解耦。提取主体包括突起(30)，所述突起被配置为使得其围绕物体保持件，并且使得在使用中液体(32)的层保留在突起上且接触支撑在物体保持件上的物体。
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公开(公告)号：CN104412164A
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201380028677.X
申请日：2013-05-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·N·L·唐德斯 , M·菲恩 , C·A·霍根达姆 , M·霍本 , J·H·W·雅各布斯 , A·H·凯沃特斯 , R·W·L·拉法雷 , J·V·奥弗卡姆普 , N·坦凯特 , J·S·C·韦斯特拉肯 , A·F·J·德格罗特 , M·范贝杰纳姆 , R·德琼
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70733
Abstract: 一种用于光刻装置的支撑装置(60)，具有物体保持件(61)和在物体保持件径向外侧的提取主体(65)。物体保持件被配置为支撑物体(W)。提取主体包括被配置为从支撑装置的顶面提取流体的提取开口(66)。提取主体与物体保持件间隔开，使得提取主体与物体保持件基本解耦。提取主体包括突起(30)，所述突起被配置为使得其围绕物体保持件，并且使得在使用中液体(32)的层保留在突起上且接触支撑在物体保持件上的物体。
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公开(公告)号：CN110716396B
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN201911002613.8
申请日：2016-10-05
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/683
Abstract: 一种光刻设备包括被配置用于接收物体(402)的夹具(406)。夹具限定被配置用于在第一流体温度传递流体的至少一个通道(408)。光刻设备也包括耦合至夹具的卡盘(404)。卡盘(404)限定配置用于将卡盘与夹具热绝缘的至少一个孔洞(464)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108139684B
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN201680058599.1
申请日：2016-10-05
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/683
Abstract: 一种光刻设备包括被配置用于接收物体(402)的夹具(406)。夹具限定被配置用于在第一流体温度传递流体的至少一个通道(408)。光刻设备也包括耦合至夹具的卡盘(404)。卡盘(404)限定配置用于将卡盘与夹具热绝缘的至少一个孔洞(464)。
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公开(公告)号：CN109804313A
公开(公告)日：2019-05-24
申请号：CN201780060159.4
申请日：2017-08-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·范德梅尤伦 , E·J·阿勒马克 , H·H·M·考克斯 , M·A·W·丘珀斯 , J·德胡戈 , G·C·德维雷斯 , P·C·H·德威特 , S·C·R·德克斯 , R·C·G·吉杰曾 , D·V·P·赫姆舒特 , C·A·霍根达姆 , A·H·凯沃特斯 , R·W·L·拉法雷 , A·L·C·勒鲁克斯 , P·W·P·里姆彭斯 , J·V·奥弗坎普 , C·L·瓦伦丁 , K·范伯克尔 , S·H·范德莫伦 , J·C·G·范德桑登 , H·K·范德舒特 , D·F·弗勒斯 , E·A·R·威斯特豪斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种光刻设备，包括被配置为投射图案化辐射束以在被保持在衬底台上的衬底上形成曝光区域的投影系统，光刻设备进一步包括用于冷却衬底的冷却设备，其中冷却设备包括位于衬底台上方并且邻近于曝光区域的冷却元件，冷却元件被配置为从衬底去除热量。
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公开(公告)号：CN110716396A
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：CN201911002613.8
申请日：2016-10-05
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/683
Abstract: 一种光刻设备包括被配置用于接收物体(402)的夹具(406)。夹具限定被配置用于在第一流体温度传递流体的至少一个通道(408)。光刻设备也包括耦合至夹具的卡盘(404)。卡盘(404)限定配置用于将卡盘与夹具热绝缘的至少一个孔洞(464)。
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公开(公告)号：CN107367907B
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201710708172.8
申请日：2013-05-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·N·L·唐德斯 , M·菲恩 , C·A·霍根达姆 , M·霍本 , J·H·W·雅各布斯 , A·H·凯沃特斯 , R·W·L·拉法雷 , J·V·奥弗卡姆普 , N·坦凯特 , J·S·C·韦斯特拉肯 , A·F·J·德格罗特 , M·范贝杰纳姆
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种用于光刻装置的支撑装置(60)，具有物体保持件(61)和在物体保持件径向外侧的提取主体(65)。物体保持件被配置为支撑物体(W)。提取主体包括被配置为从支撑装置的顶面提取流体的提取开口(66)。提取主体与物体保持件间隔开，使得提取主体与物体保持件基本解耦。提取主体包括突起(30)，所述突起被配置为使得其围绕物体保持件，并且使得在使用中液体(32)的层保留在突起上且接触支撑在物体保持件上的物体。
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公开(公告)号：CN108139684A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201680058599.1
申请日：2016-10-05
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/683
CPC classification number: G03F7/70875 , G03F7/707 , G03F7/70783 , H01L21/67109 , H01L21/67115 , H01L21/67248 , H01L21/6831
Abstract: 一种光刻设备包括被配置用于接收物体(402)的夹具(406)。夹具限定被配置用于在第一流体温度传递流体的至少一个通道(408)。光刻设备也包括耦合至夹具的卡盘(404)。卡盘(404)限定配置用于将卡盘与夹具热绝缘的至少一个孔洞(464)。
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