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公开(公告)号：CN109804313B
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN201780060159.4
申请日：2017-08-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·范德梅尤伦 , E·J·阿勒马克 , H·H·M·考克斯 , M·A·W·丘珀斯 , J·德胡戈 , G·C·德维雷斯 , P·C·H·德威特 , S·C·R·德克斯 , R·C·G·吉杰曾 , D·V·P·赫姆舒特 , C·A·霍根达姆 , A·H·凯沃特斯 , R·W·L·拉法雷 , A·L·C·勒鲁克斯 , P·W·P·里姆彭斯 , J·V·奥弗坎普 , C·L·瓦伦丁 , K·范伯克尔 , S·H·范德莫伦 , J·C·G·范德桑登 , H·K·范德舒特 , D·F·弗勒斯 , E·A·R·威斯特豪斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种光刻设备，包括被配置为投射图案化辐射束以在被保持在衬底台上的衬底上形成曝光区域的投影系统，光刻设备进一步包括用于冷却衬底的冷却设备，其中冷却设备包括位于衬底台上方并且邻近于曝光区域的冷却元件，冷却元件被配置为从衬底去除热量。
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公开(公告)号：CN110431485B
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN201880017997.8
申请日：2018-02-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·A·克鲁格基斯特 , V·Y·巴宁 , J·F·M·贝克斯 , M·贾姆布纳坦 , M·A·纳萨勒维克 , A·尼基佩洛维 , R·J·W·斯塔斯 , D·F·弗勒斯 , W·J·J·韦尔特斯 , S·赖克
Abstract: 一种传感器标记，包括衬底(200)，该衬底具有：第一深紫外(DUV)吸收层(310，320，330)，包括基本上吸收DUV辐射的第一材料；第一保护层(600)，包括第二材料；其中：第一DUV吸收层中具有第一通孔(500)；第一保护层在平面图中位于第一通孔(500)中，并且第一通孔中的第一保护层具有包括多个通孔(700)的图案化区域；并且第二材料比第一材料更优质。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115494703A
公开(公告)日：2022-12-20
申请号：CN202211105510.6
申请日：2017-03-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·奥努勒 , A·F·J·德格罗特 , W·西门斯 , D·F·弗勒斯
IPC: G03F7/20 , H01L21/687
Abstract: 本发明涉及一种用于支撑衬底(W)的衬底支撑件(WT)。衬底支撑件包括主体(MB)、夹紧装置(VC；VSO)和抖动装置(DD)。主体包括用于支撑衬底(W)的支撑表面(S)。夹紧装置被布置为提供夹紧力以将衬底夹紧在支撑表面上。抖动装置被配置为抖动夹紧力。抖动装置可以被配置为在衬底W被装载到支撑表面上时抖动夹紧力。
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公开(公告)号：CN109804313A
公开(公告)日：2019-05-24
申请号：CN201780060159.4
申请日：2017-08-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·范德梅尤伦 , E·J·阿勒马克 , H·H·M·考克斯 , M·A·W·丘珀斯 , J·德胡戈 , G·C·德维雷斯 , P·C·H·德威特 , S·C·R·德克斯 , R·C·G·吉杰曾 , D·V·P·赫姆舒特 , C·A·霍根达姆 , A·H·凯沃特斯 , R·W·L·拉法雷 , A·L·C·勒鲁克斯 , P·W·P·里姆彭斯 , J·V·奥弗坎普 , C·L·瓦伦丁 , K·范伯克尔 , S·H·范德莫伦 , J·C·G·范德桑登 , H·K·范德舒特 , D·F·弗勒斯 , E·A·R·威斯特豪斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种光刻设备，包括被配置为投射图案化辐射束以在被保持在衬底台上的衬底上形成曝光区域的投影系统，光刻设备进一步包括用于冷却衬底的冷却设备，其中冷却设备包括位于衬底台上方并且邻近于曝光区域的冷却元件，冷却元件被配置为从衬底去除热量。
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公开(公告)号：CN109073990B
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN201780024569.3
申请日：2017-03-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·奥努勒 , A·F·J·德格罗特 , W·西门斯 , D·F·弗勒斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种用于支撑衬底(W)的衬底支撑件(WT)。衬底支撑件包括主体(MB)、夹紧装置(VC；VSO)和抖动装置(DD)。主体包括用于支撑衬底(W)的支撑表面(S)。夹紧装置被布置为提供夹紧力以将衬底夹紧在支撑表面上。抖动装置被配置为抖动夹紧力。抖动装置可以被配置为在衬底W被装载到支撑表面上时抖动夹紧力。
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公开(公告)号：CN110431485A
公开(公告)日：2019-11-08
申请号：CN201880017997.8
申请日：2018-02-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·A·克鲁格基斯特 , V·Y·巴宁 , J·F·M·贝克斯 , M·贾姆布纳坦 , M·A·纳萨勒维克 , A·尼基佩洛维 , R·J·W·斯塔斯 , D·F·弗勒斯 , W·J·J·韦尔特斯 , S·赖克
Abstract: 一种传感器标记，包括衬底(200)，该衬底具有：第一深紫外(DUV)吸收层(310，320，330)，包括基本上吸收DUV辐射的第一材料；第一保护层(600)，包括第二材料；其中：第一DUV吸收层中具有第一通孔(500)；第一保护层在平面图中位于第一通孔(500)中，并且第一通孔中的第一保护层具有包括多个通孔(700)的图案化区域；并且第二材料比第一材料更优质。
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公开(公告)号：CN109073990A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780024569.3
申请日：2017-03-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·奥努勒 , A·F·J·德格罗特 , W·西门斯 , D·F·弗勒斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种用于支撑衬底(W)的衬底支撑件(WT)。衬底支撑件包括主体(MB)、夹紧装置(VC；VSO)和抖动装置(DD)。主体包括用于支撑衬底(W)的支撑表面(S)。夹紧装置被布置为提供夹紧力以将衬底夹紧在支撑表面上。抖动装置被配置为抖动夹紧力。抖动装置可以被配置为在衬底W被装载到支撑表面上时抖动夹紧力。
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