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公开(公告)号：CN109804313B
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN201780060159.4
申请日：2017-08-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·范德梅尤伦 , E·J·阿勒马克 , H·H·M·考克斯 , M·A·W·丘珀斯 , J·德胡戈 , G·C·德维雷斯 , P·C·H·德威特 , S·C·R·德克斯 , R·C·G·吉杰曾 , D·V·P·赫姆舒特 , C·A·霍根达姆 , A·H·凯沃特斯 , R·W·L·拉法雷 , A·L·C·勒鲁克斯 , P·W·P·里姆彭斯 , J·V·奥弗坎普 , C·L·瓦伦丁 , K·范伯克尔 , S·H·范德莫伦 , J·C·G·范德桑登 , H·K·范德舒特 , D·F·弗勒斯 , E·A·R·威斯特豪斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种光刻设备，包括被配置为投射图案化辐射束以在被保持在衬底台上的衬底上形成曝光区域的投影系统，光刻设备进一步包括用于冷却衬底的冷却设备，其中冷却设备包括位于衬底台上方并且邻近于曝光区域的冷却元件，冷却元件被配置为从衬底去除热量。
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公开(公告)号：CN109804313A
公开(公告)日：2019-05-24
申请号：CN201780060159.4
申请日：2017-08-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·范德梅尤伦 , E·J·阿勒马克 , H·H·M·考克斯 , M·A·W·丘珀斯 , J·德胡戈 , G·C·德维雷斯 , P·C·H·德威特 , S·C·R·德克斯 , R·C·G·吉杰曾 , D·V·P·赫姆舒特 , C·A·霍根达姆 , A·H·凯沃特斯 , R·W·L·拉法雷 , A·L·C·勒鲁克斯 , P·W·P·里姆彭斯 , J·V·奥弗坎普 , C·L·瓦伦丁 , K·范伯克尔 , S·H·范德莫伦 , J·C·G·范德桑登 , H·K·范德舒特 , D·F·弗勒斯 , E·A·R·威斯特豪斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种光刻设备，包括被配置为投射图案化辐射束以在被保持在衬底台上的衬底上形成曝光区域的投影系统，光刻设备进一步包括用于冷却衬底的冷却设备，其中冷却设备包括位于衬底台上方并且邻近于曝光区域的冷却元件，冷却元件被配置为从衬底去除热量。
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公开(公告)号：CN114174693A
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN202080054855.6
申请日：2020-07-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·J·M·范德威亚德文 , J·P·M·B·弗穆伦 , J·P·斯塔雷维尔德 , S·H·范德莫伦
Abstract: 本发明提供了一种支撑件(1)，包括：第一端部(2)和第二端部(3)，其中第二端部(3)在支撑件的纵向方向上位于与第一端部(2)相反的一侧上；线圈弹簧(4)，被布置在第一端部(2)和第二端部(3)之间，该线圈弹簧(4)包括：第一螺旋构件(5)，在支撑件(1)的圆周方向上在第一端部(2)和第二端部(3)之间延伸；以及第二螺旋构件(6)，在支撑件(1)的圆周方向上在第一端部(2)和第二端部(3)之间延伸，其中线圈弹簧的第一螺旋构件(5)和线圈弹簧(4)的第二螺旋构件(6)相对于彼此是可移动的，其中支撑件(1)还包括被附接到第一螺旋构件(5)的阻尼器装置(20)。
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