公开(公告)号：CN109804313A

公开(公告)日：2019-05-24

申请号：CN201780060159.4

申请日：2017-08-11

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： F·范德梅尤伦 ,  E·J·阿勒马克 ,  H·H·M·考克斯 ,  M·A·W·丘珀斯 ,  J·德胡戈 ,  G·C·德维雷斯 ,  P·C·H·德威特 ,  S·C·R·德克斯 ,  R·C·G·吉杰曾 ,  D·V·P·赫姆舒特 ,  C·A·霍根达姆 ,  A·H·凯沃特斯 ,  R·W·L·拉法雷 ,  A·L·C·勒鲁克斯 ,  P·W·P·里姆彭斯 ,  J·V·奥弗坎普 ,  C·L·瓦伦丁 ,  K·范伯克尔 ,  S·H·范德莫伦 ,  J·C·G·范德桑登 ,  H·K·范德舒特 ,  D·F·弗勒斯 ,  E·A·R·威斯特豪斯

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种光刻设备，包括被配置为投射图案化辐射束以在被保持在衬底台上的衬底上形成曝光区域的投影系统，光刻设备进一步包括用于冷却衬底的冷却设备，其中冷却设备包括位于衬底台上方并且邻近于曝光区域的冷却元件，冷却元件被配置为从衬底去除热量。

公开(公告)号：CN112384863B

公开(公告)日：2024-12-24

申请号：CN201980045146.9

申请日：2019-05-28

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·塔利班·法尔德 ,  E·A·R·威斯特豪斯 ,  A·H·凯沃特斯

IPC: G03F7/20

Abstract: 光刻装置包括：投影系统，被配置为经由投影路径将图案化的辐射束投影到保持在衬底台上的衬底处的曝光区上，该衬底台在投影系统下方的区域中是可移动的；以及冷却装置，被配置为经由从衬底到冷却元件的热传递来冷却衬底，冷却元件位于衬底上方并且与投影路径相邻；其中冷却装置包括位于投影路径中的隔膜系统，以将投影系统与该区域物理地分离。

公开(公告)号：CN109804313B

公开(公告)日：2024-06-25

申请号：CN201780060159.4

申请日：2017-08-11

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： F·范德梅尤伦 ,  E·J·阿勒马克 ,  H·H·M·考克斯 ,  M·A·W·丘珀斯 ,  J·德胡戈 ,  G·C·德维雷斯 ,  P·C·H·德威特 ,  S·C·R·德克斯 ,  R·C·G·吉杰曾 ,  D·V·P·赫姆舒特 ,  C·A·霍根达姆 ,  A·H·凯沃特斯 ,  R·W·L·拉法雷 ,  A·L·C·勒鲁克斯 ,  P·W·P·里姆彭斯 ,  J·V·奥弗坎普 ,  C·L·瓦伦丁 ,  K·范伯克尔 ,  S·H·范德莫伦 ,  J·C·G·范德桑登 ,  H·K·范德舒特 ,  D·F·弗勒斯 ,  E·A·R·威斯特豪斯

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种光刻设备，包括被配置为投射图案化辐射束以在被保持在衬底台上的衬底上形成曝光区域的投影系统，光刻设备进一步包括用于冷却衬底的冷却设备，其中冷却设备包括位于衬底台上方并且邻近于曝光区域的冷却元件，冷却元件被配置为从衬底去除热量。

公开(公告)号：CN112384863A

公开(公告)日：2021-02-19

申请号：CN201980045146.9

申请日：2019-05-28

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·塔利班·法尔德 ,  E·A·R·威斯特豪斯 ,  A·H·凯沃特斯

IPC: G03F7/20

Abstract: 光刻装置包括：投影系统，被配置为经由投影路径将图案化的辐射束投影到保持在衬底台上的衬底处的曝光区上，该衬底台在投影系统下方的区域中是可移动的；以及冷却装置，被配置为经由从衬底到冷却元件的热传递来冷却衬底，冷却元件位于衬底上方并且与投影路径相邻；其中冷却装置包括位于投影路径中的隔膜系统，以将投影系统与该区域物理地分离。