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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110520800A
公开(公告)日：2019-11-29
申请号：CN201880025714.4
申请日：2018-03-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： G·L·加托比吉奥 , N·巴纳吉 , J·F·M·贝克斯 , E·H·E·C·尤梅伦 , R·F·科克斯 , T·W·波勒特 , C·M·洛普斯 , M·P·J·范吉尔斯 , W·J·J·范斯路易斯维尔德 , R·T·范格鲁维
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种在浸没式光刻设备中对流体处理结构(12)的工作参数进行性能测试的方法，该方法包括：将包括具有第一部分(300)和第二部分(310)的上表面的测试衬底(TW)放置在浸没式光刻设备中的台上，该第一部分具有限定上表面的抗蚀剂，该第二部分具有限定上表面的其余部分的与抗蚀剂不同的材料，通过使用相关联的工作参数操作流体处理结构，来将液体限制在台的上表面和/或测试衬底的上表面的区域上，移动该台，使得区域从第二部分移动到第一部分；检测由于在移动期间在第一部分上留下的液体所导致的对第一部分的改变和/或在第一部分上的残留物。
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公开(公告)号：CN113728275A
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN202080029265.8
申请日：2020-04-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种用于浸没式光刻的图像传感器(17)，该图像传感器包括：光栅(310、320和330)；在光栅上的吸收层(350)，该吸收层被配置为吸收辐射；以及在图像传感器的上表面处的疏液涂层(400)，其中保护层(500)被设置在吸收层与疏液层之间，该保护层对浸液的反应性低于吸收层对浸液的反应性。
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公开(公告)号：CN110431485A
公开(公告)日：2019-11-08
申请号：CN201880017997.8
申请日：2018-02-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·A·克鲁格基斯特 , V·Y·巴宁 , J·F·M·贝克斯 , M·贾姆布纳坦 , M·A·纳萨勒维克 , A·尼基佩洛维 , R·J·W·斯塔斯 , D·F·弗勒斯 , W·J·J·韦尔特斯 , S·赖克
Abstract: 一种传感器标记，包括衬底(200)，该衬底具有：第一深紫外(DUV)吸收层(310，320，330)，包括基本上吸收DUV辐射的第一材料；第一保护层(600)，包括第二材料；其中：第一DUV吸收层中具有第一通孔(500)；第一保护层在平面图中位于第一通孔(500)中，并且第一通孔中的第一保护层具有包括多个通孔(700)的图案化区域；并且第二材料比第一材料更优质。
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公开(公告)号：CN110520800B
公开(公告)日：2021-10-15
申请号：CN201880025714.4
申请日：2018-03-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： G·L·加托比吉奥 , N·巴纳吉 , J·F·M·贝克斯 , E·H·E·C·尤梅伦 , R·F·科克斯 , T·W·波勒特 , C·M·洛普斯 , M·P·J·范吉尔斯 , W·J·J·范斯路易斯维尔德 , R·T·范格鲁维
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种在浸没式光刻设备中对流体处理结构(12)的工作参数进行性能测试的方法，该方法包括：将包括具有第一部分(300)和第二部分(310)的上表面的测试衬底(TW)放置在浸没式光刻设备中的台上，该第一部分具有限定上表面的抗蚀剂，该第二部分具有限定上表面的其余部分的与抗蚀剂不同的材料，通过使用相关联的工作参数操作流体处理结构，来将液体限制在台的上表面和/或测试衬底的上表面的区域上，移动该台，使得区域从第二部分移动到第一部分；检测由于在移动期间在第一部分上留下的液体所导致的对第一部分的改变和/或在第一部分上的残留物。
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公开(公告)号：CN110431485B
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN201880017997.8
申请日：2018-02-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·A·克鲁格基斯特 , V·Y·巴宁 , J·F·M·贝克斯 , M·贾姆布纳坦 , M·A·纳萨勒维克 , A·尼基佩洛维 , R·J·W·斯塔斯 , D·F·弗勒斯 , W·J·J·韦尔特斯 , S·赖克
Abstract: 一种传感器标记，包括衬底(200)，该衬底具有：第一深紫外(DUV)吸收层(310，320，330)，包括基本上吸收DUV辐射的第一材料；第一保护层(600)，包括第二材料；其中：第一DUV吸收层中具有第一通孔(500)；第一保护层在平面图中位于第一通孔(500)中，并且第一通孔中的第一保护层具有包括多个通孔(700)的图案化区域；并且第二材料比第一材料更优质。
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