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公开(公告)号：CN108713167A
公开(公告)日：2018-10-26
申请号：CN201780016112.8
申请日：2017-01-26
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/705 , G03F7/70783
摘要： 一种设备，包括：用于调节辐射束的照射系统；用于支撑图案形成装置的支撑件，图案形成装置能够在辐射束的截面中向辐射束赋予图案以形成经图案化的辐射束；被构造为保持衬底的衬底台；用于将经图案化的辐射束投射到衬底的目标部分上的投射系统；以及控制系统，控制系统被配置为：接收表征图案分布的图案数据，接收表征辐射束的辐射数据，基于图案数据和辐射数据确定图案的耗能分布，通过在图案形成装置的热机械模型中应用耗能分布来确定图案的变形，并且基于图案的变形确定用于控制设备的部件的控制信号。
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公开(公告)号：CN107329374A
公开(公告)日：2017-11-07
申请号：CN201610285810.5
申请日：2016-04-29
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
发明人： 王健
CPC分类号： G03F7/70058 , G03F1/44 , G03F7/70875
摘要： 本发明涉及掩模版弯曲补偿装置、检测补偿系统及补偿方法，补偿装置包括固定框架和固定在其周向外侧的能量补偿单元组成。检测补偿系统包括补偿装置和检测装置，检测装置用于检测掩模版受热的变形量和计算抵消该变形量所需要补偿能量值，补偿装置根据该补偿能量值对掩模版热补偿区域进行补偿。补偿装置和检测补偿系统结构简单，操作方便。补偿方法利用检测补偿系统建立坐标系，通过表征量准确计算掩模版在X和Y轴的变形量，进而分别计算出抵消X和Y轴变形量所需的补偿能量值，再通过控制子系统控制补偿装置，实现对掩模版热补偿区域准确补偿加热。该补偿方法实现了对掩模版受热弯曲的准确和及时补偿，尽可能地消除掩模版受热弯曲效应。
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公开(公告)号：CN107300835A
公开(公告)日：2017-10-27
申请号：CN201710354580.8
申请日：2013-04-16
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·H·W·雅各布斯 , J·S·C·维斯特尔拉肯
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/707 , G03F7/70716 , G03F7/70783 , G03F7/70816 , G03F7/70891 , G03F7/7095 , H01L21/67103
摘要： 本发明公开了一种热调节单元(100)，用以热调节光刻设备中的衬底(W)，所述热调节单元包括：热调节元件(200)，所述热调节元件包括第一层(210)、第二层(220)、定位在第一层和第二层之间的热传递部件(230)以及用于在其上定位衬底的突起(260)，第一层在使用时面对衬底并且包括具有100W/mK或更大的热导率的材料；和加强构件(110)，所述加强构件比热调节元件硬并且配置成支撑热调节元件以便减小其机械变形，其中所述热调节元件与所述加强构件是热隔离的。
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公开(公告)号：CN105911821A
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201610366219.2
申请日：2005-06-07
申请人： 株式会社尼康
发明人： 白石健一
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/42 , G03F7/70875 , G03F7/70916
摘要： 本发明有关于一种曝光装置及元件制造方法，一曝光装置，根据液浸法而能高精度地进行曝光处理及测量处理。曝光装置(EX)，在投影光学系统(PL)的像面侧形成液体(LQ)的液浸区域(AR2)，透过投影光学系统(PL)与液浸区域(AR2)的液体(LQ)而使基板(P)曝光，其具备测量装置(60)，用以测量液浸区域(AR2)形成用的液体(LQ)的性质和/或成分。本发明还公开了元件制造方法及曝光装置的维护方法。
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公开(公告)号：CN104541206A
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201380028535.3
申请日：2013-05-07
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： T·洛朗 , R·布洛克斯 , R·科蒂 , M·霍本 , J·雅各布斯 , R·拉法雷 , H·伦彭斯 , J·奥弗坎普 , G·皮特塞 , T·珀勒特 , W·西蒙斯 , K·斯蒂芬斯 , S·特罗姆普 , V·V·维
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70875 , G03F7/7095 , H01L21/682
摘要： 一种载物台(WT)用于支撑物体(W)，载物台具有支撑本体(100)，用于保持物体的物体保持器(30)，邻近物体保持器边缘的开口(5)，以及经由通路(14)与开口流体连通的通道(16)，其中通道由不同于限定通路的第二材料的第一材料来限定。
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公开(公告)号：CN104520770A
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201380021286.5
申请日：2013-03-19
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 罗纳尔多·范德威尔克 , R·施密特兹 , A·诺登布姆 , M·E·威尔
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70708 , G03F7/70875 , H01L21/6831
摘要： 本发明公开了一种静电夹持装置(21)，配置成保持物体，所述静电夹持装置包括电极(24)、由位于电极上的电阻材料形成的电阻部分(23)以及由位于电阻部分上的介电材料形成的介电部分(22)。
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公开(公告)号：CN102495539B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201210010399.2
申请日：2007-04-06
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·维克曼斯 , M·A·W·崔帕斯 , F·E·德琼格 , E·A·M·范冈佩尔 , R·詹森 , G·A·A·M·库斯特斯 , T·P·M·卡迪 , M·F·P·斯米茨 , F·范德穆伦 , W·F·J·西蒙斯 , M·H·A·利恩德斯 , J·J·奥坦斯 , M·范巴伦
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , F16L55/053 , G03F7/70341 , G03F7/70783
摘要： 本发明涉及一种光刻设备，其布置成将图案从构图部件投影到基底上，光刻设备具有用于保持基底的基底台，该基底台包括调节系统，该调节系统用于保持调节流体并调节该基底台，其中，该调节系统包括压力阻尼器，该压力阻尼器与该调节系统成流体连通，并且布置成可抑制该调节系统内的压力变化。
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公开(公告)号：CN102218414B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201110029588.X
申请日：2011-01-24
申请人： 优志旺电机株式会社
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70875
摘要： 提供一种光处理装置及光处理方法，能够抑制被处理物的温度上升的同时进行紫外线照射处理。本发明的光处理装置，具备具有紫外线透过窗的框体以及配置于该框体内的准分子灯，其特征为：在上述紫外线透过窗的周围，具有与冷却用气体供给机构或冷却用气体吸气机构连接的气体流通口。并且，上述准分子灯具有：整体为扁平板状的放电容器；配置于该放电容器的一面的高电压侧电极；以及配置于该放电容器的另一面的接地侧电极，并且优选以上述放电容器的配置有上述高电压侧电极的一面与上述紫外线透过窗相对的方式配置。
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公开(公告)号：CN103962719A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201410026058.3
申请日：2014-01-21
申请人： 三星显示有限公司
IPC分类号： B23K26/064 , B23K26/02 , B23K26/70
CPC分类号： G03F1/76 , B23K26/067 , G03F7/2053 , G03F7/70383 , G03F7/70875 , G03F7/2006
摘要： 本发明公开一种掩模制造装置及利用激光束制造掩模的方法。一种掩模制造装置，其包括激光照射器、平台、框架和散热片。激光照射器将激光束分为多道子激光束并将子激光束照射到被放置在平台上的阴影掩模。框架设置在平台上来支撑阴影掩模。散热片接触阴影掩模材料，吸收从阴影掩模产生的热并将该热排出到阴影掩模的周围。因此，避免了阴影掩模过热。
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公开(公告)号：CN103959171A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201280056174.9
申请日：2012-10-12
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/70633 , G03F7/70716 , G03F7/70933
摘要： 一种光刻设备(100)包括：衬底台(WT)，构造以保持衬底(W)；投影系统(PS)，配置成通过开口(301)投影图案化辐射束并且将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上；和导管(305、306)，具有在开口中的出口(306)。所述导管配置成将气体传输至开口。光刻设备包括温度控制设备(330)，其由控制系统控制并且配置成控制在投影系统和衬底之间的空间中的气体的温度，尤其是冷却所述气体。
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