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公开(公告)号：CN112304873B
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN201910706583.2
申请日：2019-07-31
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
摘要： 本发明提供了一种琼斯椭偏仪的标定装置及标定方法，包括沿光路顺次设置的第一标定汇聚镜组、标定偏振镜组和第二标定汇聚镜组，其中，所述标定偏振镜组包括多个能够绕光轴相对转动的标定偏振元件，多个所述标定偏振元件中具有一个第一标定偏振片及至少两个第一标定波片，在进行标定时，先从所述偏振态生成镜组至所述偏振态检测镜组之间的能量传递函数，然后调整多个所述标定偏振元件的方位角得到多组光强分布，根据多组光强分布求解能量传递函数得到所述琼斯椭偏仪的偏振态调制矩阵，从而实现了琼斯椭偏仪的标定，并且标定的精度较高。
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公开(公告)号：CN107870522B
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：CN201610852346.3
申请日：2016-09-26
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
发明人： 王健
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供了一种成像光路装置与成像光路装置的检测控制方法，用于光刻系统中，该成像光路装置包括照明部分、掩模台、物镜组件，所述照明部分产生的光源依次经所述掩模台上的掩模和物镜组件照至硅片表面；其特征在于：还包括：所述物面测量单元，设置在所述物镜组件的物面，用以于所述掩模台上测得不同场点的物面光瞳信息；所述像面测量单元，设置在所述物镜组件的像面，用以于硅片表面处测得不同场点的像面光瞳信息；根据上述物面光瞳信息和像面光瞳信息获得所述物镜组件在不同场点的透过率分布情况，通过所述透过率分布情况调整所述照明部分中照明光瞳的椭圆度分布。
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公开(公告)号：CN106933024B
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：CN201511025209.4
申请日：2015-12-30
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
发明人： 王健
摘要： 本发明提供一种可检测掩膜弯曲度的光刻系统，需在掩膜制作过程中添加若干个用于测量掩膜弯曲度的测量标记，并在测量标记的对应处设置传感器，用于探测测量标记的信息，即可计算出掩膜弯曲度的变形量，这种光刻系统结构简单，占用空间小，保证了光刻系统运动自由性。本发明还提供一种使用上述的光刻系统的掩膜弯曲度的检测方法，传感器探测得到掩膜上的测量标记的垂向坐标并传输至控制系统，得到用于描述掩膜的变形曲面的曲面计算公式，控制系统根据该计算公式得到变形曲面在扫描方向上和非扫描方向上用于表征掩膜弯曲度的变形量，该方法操作简便，由于可以在曝光过程中实时通过传感器探测信息，并计算掩膜弯曲度，因此保证了检测的及时性和准确性。
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公开(公告)号：CN109991815A
公开(公告)日：2019-07-09
申请号：CN201711480285.3
申请日：2017-12-29
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
发明人： 王健
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供了一种泛曝补偿板，用于调节达到基底的泛曝光线的光强，所述泛曝补偿板包括若干个透光部与若干个挡光部，所述透光部用于泛曝光线通过，所述挡光部用于阻挡泛曝光线通过，通过调节所述透光部与所述挡光部在所述泛曝补偿板的排布比例实现调节达到所述基底的泛曝光线。本发明提供的一种泛曝补偿板能够提高曝光量率。
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公开(公告)号：CN112285028B
公开(公告)日：2022-04-05
申请号：CN201910677242.7
申请日：2019-07-25
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
摘要： 本发明提供一种偏振检测标定方法、偏振检测方法及偏振检测装置，所述偏振检测标定方法主要通过替换多个已知偏振性能的标定样品，对每个标定样品，均多次调整第二波片的角度，获得光强探测器对应于每个标定样品在第二波片的多个角度下的光强矩阵，进而根据光强矩阵与标定样品的琼斯矩阵元素及其复共轭乘积的关系，由光强矩阵以及多个标定样品的偏振性能，标定所述第一偏振片、所述第一波片、所述第二波片以及所述第二偏振片的偏振性能。如此，提高了标定精度，从而也提高了偏振检测的精度。
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公开(公告)号：CN111123535B
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201811288187.4
申请日：2018-10-31
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G02B27/30
摘要： 本发明实施例公开了一种光学准直系统，用于对预设数值孔径和预设波长的光束进行准直操作，包括依次位于物面一侧的第一平凸透镜、第一弯月形凸透镜、第二弯月形凸透镜、第三弯月形凸透镜和第一双凸透镜；所述第一平凸透镜的光焦度为D1，所述第一弯月形凸透镜的光焦度为D2，所述第二弯月形凸透镜的光焦度为D3，所述第三弯月形凸透镜的光焦度为D4，所述第一双凸透镜的光焦度为D5；其中，D1>0，D2>0，D3>0，D4>0，D5>0，且min{D3，D4，D5}≤D1/10.5≤max{D3，D4，D5}；min{D3，D4，D5}表示D3、D4和D5中的最小值，max{D3，D4，D5}表示D3、D4和D5中的最大值。合理设置物面与像面之间各凸透镜的形状和光焦度，保证光学准直系统对预设数值孔径和预设波长的光束的准直效果好。
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公开(公告)号：CN109991815B
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201711480285.3
申请日：2017-12-29
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
发明人： 王健
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供了一种泛曝补偿板，用于调节达到基底的泛曝光线的光强，所述泛曝补偿板包括若干个透光部与若干个挡光部，所述透光部用于泛曝光线通过，所述挡光部用于阻挡泛曝光线通过，通过调节所述透光部与所述挡光部在所述泛曝补偿板的排布比例实现调节达到所述基底的泛曝光线。本发明提供的一种泛曝补偿板能够提高曝光量率。
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公开(公告)号：CN111123535A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201811288187.4
申请日：2018-10-31
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G02B27/30
摘要： 本发明实施例公开了一种光学准直系统，用于对预设数值孔径和预设波长的光束进行准直操作，包括依次位于物面一侧的第一平凸透镜、第一弯月形凸透镜、第二弯月形凸透镜、第三弯月形凸透镜和第一双凸透镜；所述第一平凸透镜的光焦度为D1，所述第一弯月形凸透镜的光焦度为D2，所述第二弯月形凸透镜的光焦度为D3，所述第三弯月形凸透镜的光焦度为D4，所述第一双凸透镜的光焦度为D5；其中，D1>0，D2>0，D3>0，D4>0，D5>0，且min{D3，D4，D5}≤D1/10.5≤max{D3，D4，D5}；min{D3，D4，D5}表示D3、D4和D5中的最小值，max{D3，D4，D5}表示D3、D4和D5中的最大值。合理设置物面与像面之间各凸透镜的形状和光焦度，保证光学准直系统对预设数值孔径和预设波长的光束的准直效果好。
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公开(公告)号：CN108008608B
公开(公告)日：2019-11-22
申请号：CN201610934140.5
申请日：2016-10-31
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F9/00
摘要： 本发明公开了一种背面对准的方法，包括如下步骤：在晶圆上分别建立晶圆坐标系和晶圆几何坐标系，晶圆正面上片，根据正面标记执行第一次对准，计算得到晶圆坐标系相对于工件台零位坐标系的相对位置关系；执行第二次对准，计算得到晶圆正面的晶圆几何坐标系相对于工件台零位坐标系的相对位置关系，进而得到晶圆坐标系相对于晶圆几何坐标系的相对位置关系，晶圆背面上片；执行第三次对准，计算得到晶圆背面的晶圆几何坐标系相对于工件台零位坐标系的相对位置关系，根据所述晶圆坐标系相对于晶圆几何坐标系的相对位置关系，计算得到晶圆背面，晶圆坐标系相对于工件台零位坐标系的相对位置关系。
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公开(公告)号：CN107329374B
公开(公告)日：2019-06-25
申请号：CN201610285810.5
申请日：2016-04-29
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
发明人： 王健
摘要： 本发明涉及掩模版弯曲补偿装置、检测补偿系统及补偿方法，补偿装置包括固定框架和固定在其周向外侧的能量补偿单元组成。检测补偿系统包括补偿装置和检测装置，检测装置用于检测掩模版受热的变形量和计算抵消该变形量所需要补偿能量值，补偿装置根据该补偿能量值对掩模版热补偿区域进行补偿。补偿装置和检测补偿系统结构简单，操作方便。补偿方法利用检测补偿系统建立坐标系，通过表征量准确计算掩模版在X和Y轴的变形量，进而分别计算出抵消X和Y轴变形量所需的补偿能量值，再通过控制子系统控制补偿装置，实现对掩模版热补偿区域准确补偿加热。该补偿方法实现了对掩模版受热弯曲的准确和及时补偿，尽可能地消除掩模版受热弯曲效应。
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