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公开(公告)号：CN112805625B
公开(公告)日：2024-05-07
申请号：CN201980065672.1
申请日：2019-09-26
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 约斯特·德胡格 , A·L·C·勒鲁 , A·M·A·惠杰伯特斯 , C·L·瓦伦汀 , R·C·维特 , D·V·P·汉斯乔特 , F·范德穆伦 , J·F·M·范桑特沃尔特 , 拉杜·唐纳斯
摘要： 本发明涉及包括子系统的系统，所述子系统被配置成将实体部件的热状况从一设定点改变为新的设定点，其中所述子系统包括：混合器，混合器能够操作以接收具有第一温度的第一调节流体和具有不同于第一温度的第二温度的第二调节流体，并且混合器能够操作以向所述实体部件供应所述第一调节流体和所述第二调节流体的混合物；和控制器，该控制器被配置成根据所述新的设定点来控制所述混合器。还描述了操作光刻设备的方法以及使用本文所描述的所述系统或根据本文所描述的所述方法制造的装置。
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公开(公告)号：CN111458973B
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN201911079900.9
申请日：2015-11-16
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： F·范德穆伦 , 马尔滕·M·M·詹森 , 约根·M·阿泽雷L , 德克·S·G·布龙 , 马克·布鲁因 , J·德克尔斯 , 保罗·詹森 , R·H·G·克莱默 , M·克鲁兹恩卡 , R·G·M·兰斯勃根 , M·H·A·李德斯 , 埃里克·洛劳夫·鲁普斯卓 , G·范德博世 , J·F·S·V·范罗 , B·L·M-J·K·韦伯罗根 , 安吉洛·恺撒·皮特·德克勒克 , J·M·丁斯 , M·L·J·杨森 , R·J·J·克尔斯滕斯 , M·J·M·克斯特斯 , M·卢斯 , G·米德尔 , S·M·赖纳德斯 , F·J·C·托伊尔蔡特 , A·J·W·范利芬根
摘要： 本发明提供了一种表膜框架附接设备，被配置成容纳图案形成装置和包括表膜框架和表膜的表膜组件，所述表膜附接设备包括被配置用以对设置于表膜框架上的子安装台的接合机构进行操作的操纵器，其中所述操纵器突出穿过设置于分隔区中的开口或从所述开口突出，所述分隔区使容纳表膜组件的受控环境与所述表膜框架附接设备的其他部分分。(56)对比文件US 2014255827 A1,2014.09.11US 5976307 A,1999.11.02US 2014307237 A1,2014.10.16CA 2752247 A1,2004.10.14CN 1591193 A,2005.03.09CN 1249235 A,2000.04.05US 2009239158 A1,2009.09.24CN 102681334 A,2012.09.19US 2002155359 A1,2002.10.24
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公开(公告)号：CN101655671B
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN200910173478.3
申请日：2006-01-12
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70866 , G03F7/70341
摘要： 本发明公开了一种光刻装置和一种器件制造方法。所述光刻装置包括围绕充满液体的空间的密封元件，其具有在其下表面对相对低的压力源和相对高的压力源开口的凹槽，通过该凹槽，液体和/或气体从所述密封元件和所述基底之间排出。
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公开(公告)号：CN102495539A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201210010399.2
申请日：2007-04-06
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·维克曼斯 , M·A·W·崔帕斯 , F·E·德琼格 , E·A·M·范冈佩尔 , R·詹森 , G·A·A·M·库斯特斯 , T·P·M·卡迪 , M·F·P·斯米茨 , F·范德穆伦 , W·F·J·西蒙斯 , M·H·A·利恩德斯 , J·J·奥坦斯 , M·范巴伦
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , F16L55/053 , G03F7/70341 , G03F7/70783
摘要： 本发明涉及一种光刻设备，其布置成将图案从构图部件投影到基底上，光刻设备具有用于保持基底的基底台，该基底台包括调节系统，该调节系统用于保持调节流体并调节该基底台，其中，该调节系统包括压力阻尼器，该压力阻尼器与该调节系统成流体连通，并且布置成可抑制该调节系统内的压力变化。
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公开(公告)号：CN101051188A
公开(公告)日：2007-10-10
申请号：CN200710092076.1
申请日：2007-04-06
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·维克曼斯 , M·A·W·崔帕斯 , F·E·德琼格 , E·A·M·范冈佩尔 , R·詹森 , G·A·A·M·库斯特斯 , T·P·M·卡迪 , M·F·P·斯米茨 , F·范德穆伦 , W·F·J·西蒙斯 , M·H·A·利恩德斯 , J·J·奥坦斯 , M·范巴伦
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70875 , F16L55/053 , G03F7/70341 , G03F7/70783
摘要： 公开了一种光刻装置，该光刻装置将图案从构图部件投影到基底上，该光刻装置具有用于保持基底的基底台，该基底台包括调节系统，该调节系统用于保持调节流体并调节该基底台，其中，该调节系统包括压力阻尼器，该压力阻尼器与该调节系统成流体连通，并且布置成可抑制该调节系统内的压力变化。
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公开(公告)号：CN101042541B
公开(公告)日：2011-07-06
申请号：CN200710087811.X
申请日：2007-03-19
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341
摘要： 公开了一种光刻投影装置，其中在基底交换过程中利用遮蔽构件来遮挡该液体供给系统，从而在基底交换过程中确保液体与投影系统的一元件保持接触.该遮蔽构件与支撑投影系统的计量框架连接。通过这种方式，遮蔽构件的位置总是已知的。
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公开(公告)号：CN100458567C
公开(公告)日：2009-02-04
申请号：CN200410059589.9
申请日：2004-05-15
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70733 , G03F7/70716 , G03F7/70725
摘要： 一种光刻装置包括：用于提供辐射投影光束的照明系统；用于支撑构图器件的支撑结构，该构图器件用于使投影光束的横截面具有图案；保持基底的基底台；以及将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统；在该装置的第一部分和第二部分之间有一能避免碰撞的碰撞保护系统，该装置能被至少一个致动器系统相对移动，所述碰撞保护系统包括：至少一个传感器系统，其测定该装置所述第一部分和第二部分的相对位置和/或相对速度；和一台控制器，在所述传感器系统测定所述第一部分和第二部分的相对位置和/或相对速度预示着潜在的碰撞的时候，控制所述致动器系统来阻止第一部分和第二部分靠近到一起。本发明还涉及一种器件制造方法。
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公开(公告)号：CN101042541A
公开(公告)日：2007-09-26
申请号：CN200710087811.X
申请日：2007-03-19
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341
摘要： 公开了一种光刻投影装置，其中在基底交换过程中利用遮蔽构件来遮挡该液体供给系统，从而在基底交换过程中确保液体与投影系统的一元件保持接触。该遮蔽构件与支撑投影系统的计量框架连接。通过这种方式，遮蔽构件的位置总是已知的。
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公开(公告)号：CN1841208A
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN200610071533.4
申请日：2006-03-28
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·-G·C·范德图恩 , H·布特勒 , H·H·M·科西 , E·H·J·德拉贾 , N·坦卡特 , F·范德穆伦 , M·J·H·弗兰坎 , M·侯克斯 , A·H·阿伦德斯 , M·库帕卢斯
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341
摘要： 一种光刻装置，其包括保持基底的基底台和将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统。该光刻装置还包括流体供给系统，用于在基底和投影系统的最后一个透镜元件之间提供流体，和位置控制装置，用于控制该流体供给系统的位置。该位置控制装置配置成在被提供基底的位置量时，通过在基底的位置量上增加位置偏差来确定流体供给系统的期望位置，然后根据该期望位置定位流体供给系统。该位置量包括基底台的位置和/或旋转位置和/或基底高度的高度函数。
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公开(公告)号：CN1821884A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200610059227.9
申请日：2006-01-12
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70866 , G03F7/70341
摘要： 围绕充满液体的空间的密封元件，具有在其下表面对相对低的压力源和相对高的压力源开口的凹槽，通过该凹槽液体和/或气体从所述密封元件和所述基底之间排出。
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