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公开(公告)号：CN106462079B
公开(公告)日：2019-08-09
申请号：CN201580029069.X
申请日：2015-05-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·巴特勒 , W·H·T·M·安格南特 , N·迪尔克斯 , R·卡米迪 , W·F·J·西蒙斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F9/7088 , G03F9/7092
Abstract: 本发明涉及包括可移动对象、致动器系统和控制系统的对象定位系统。可移动对象相对于基准可移动。致动器系统被配置成在对象上的力施加位置处向对象施加力以便相对于基准移动可移动对象。控制系统被配置成相对于基准定位对象的兴趣点。控制系统被配置成基于表示力施加位置与兴趣点之间的空间关系的参数来驱动致动器系统。参数取决于表示对象相对于基准的位置的另外的参数。
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公开(公告)号：CN101051188B
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN200710092076.1
申请日：2007-04-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·维克曼斯 , M·A·W·崔帕斯 , F·E·德琼格 , E·A·M·范冈佩尔 , R·詹森 , G·A·A·M·库斯特斯 , T·P·M·卡迪 , M·F·P·斯米茨 , F·范德穆伦 , W·F·J·西蒙斯 , M·H·A·利恩德斯 , J·J·奥坦斯 , M·范巴伦
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70875 , F16L55/053 , G03F7/70341 , G03F7/70783
Abstract: 公开了一种光刻装置，该光刻装置将图案从构图部件投影到基底上，该光刻装置具有用于保持基底的基底台，该基底台包括调节系统，该调节系统用于保持调节流体并调节该基底台，其中，该调节系统包括压力阻尼器，该压力阻尼器与该调节系统成流体连通，并且布置成可抑制该调节系统内的压力变化。
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公开(公告)号：CN101446776B
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200810215061.4
申请日：2008-09-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： P·P·J·伯克文斯 , R·F·德格拉夫 , P·M·M·里伯艾格特斯 , R·范德汉姆 , W·F·J·西蒙斯 , D·J·M·迪艾克斯 , F·J·J·杰森 , P·W·斯考蒂斯 , G-J·G·J·T·布兰德斯 , K·斯蒂芬斯 , H·H·A·兰姆彭斯 , M·A·K·范力洛普 , C·德麦特森艾尔 , M·A·C·马兰达 , P·J·W·斯普鲁伊藤伯格 , J·J·A-M·沃斯特拉艾斯
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341
Abstract: 本发明公开了一种浸没式光刻设备以及一种器件制造方法。所述浸没式光刻设备包括流体限制系统，所述流体限制系统配置用于将流体限制到在投影系统和衬底之间的空隙。流体限制系统包括用于供给流体的流体入口，所述流体入口连接到入口端口和出口端口。所述浸没式光刻设备和包括流体供给系统，所述流体供给系统配置用于通过改变被提供给入口端口的流体的流量和从出口端口去除的流体的流量来控制经过流体入口的流体的流动。
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公开(公告)号：CN101446776A
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200810215061.4
申请日：2008-09-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： P·P·J·伯克文斯 , R·F·德格拉夫 , P·M·M·里伯艾格特斯 , R·范德汉姆 , W·F·J·西蒙斯 , D·J·M·迪艾克斯 , F·J·J·杰森 , P·W·斯考蒂斯 , G-J·G·J·T·布兰德斯 , K·斯蒂芬斯 , H·H·A·兰姆彭斯 , M·A·K·范力洛普 , C·德麦特森艾尔 , M·A·C·马兰达 , P·J·W·斯普鲁伊藤伯格 , J·J·A-M·沃斯特拉艾斯
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341
Abstract: 本发明公开了一种浸没式光刻设备以及一种器件制造方法。所述浸没式光刻设备包括流体限制系统，所述流体限制系统配置用于将流体限制到在投影系统和衬底之间的空隙。流体限制系统包括用于供给流体的流体入口，所述流体入口连接到入口端口和出口端口。所述浸没式光刻设备和包括流体供给系统，所述流体供给系统配置用于通过改变被提供给入口端口的流体的流量和从出口端口去除的流体的流量来控制经过流体入口的流体的流动。
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公开(公告)号：CN107003619B
公开(公告)日：2019-08-09
申请号：CN201580065520.3
申请日：2015-11-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·巴特勒 , R·M·S·诺普斯 , B·斯特里夫柯克 , C·L·瓦伦汀 , 简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 , W·F·J·西蒙斯 , L·L·F·默克斯 , R·J·M·德琼 , R·J·E·梅里 , M·F·伊普玛
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70258 , G03F7/70266 , G03F7/705 , G03F7/706
Abstract: 一种用于光刻设备的投影系统(PS1)包括：光学路径(100)、多个传感器(S1‑S4)、一个或更多个致动器(A1‑A4)；和控制器(CN)。所述光学路径能够操作以接收输入辐射束(Bin)和将输出辐射束(Bout)投影到衬底上以形成图像。所述光学路径包括多个光学元件(M1‑M4)，所述多个光学元件包括第一组至少两个光学元件(M1，M4)和第二组至少一个光学元件(M2，M3)。每个传感器与所述多个光学元件中的一个相关联且能够操作以确定该光学元件的位置。每个致动器与所述第二组光学元件中的一个相关联且能够操作以调整该光学元件。所述控制器能够操作以使用所述一个或更多个致动器以依赖于第一组光学元件所确定的位置来调整所述第二组光学元件，以便于至少部分地补偿由所述第一组光学元件的位置所造成的光学像差和/或视线误差。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106462079A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580029069.X
申请日：2015-05-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·巴特勒 , W·H·T·M·安格南特 , N·迪尔克斯 , R·卡米迪 , W·F·J·西蒙斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F9/7088 , G03F9/7092
Abstract: 本发明涉及包括可移动对象、致动器系统和控制系统的对象定位系统。可移动对象相对于基准可移动。致动器系统被配置成在对象上的力施加位置处向对象施加力以便相对于基准移动可移动对象。控制系统被配置成相对于基准定位对象的兴趣点。控制系统被配置成基于表示力施加位置与兴趣点之间的空间关系的参数来驱动致动器系统。参数取决于表示对象相对于基准的位置的另外的参数。
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公开(公告)号：CN102495539A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201210010399.2
申请日：2007-04-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·维克曼斯 , M·A·W·崔帕斯 , F·E·德琼格 , E·A·M·范冈佩尔 , R·詹森 , G·A·A·M·库斯特斯 , T·P·M·卡迪 , M·F·P·斯米茨 , F·范德穆伦 , W·F·J·西蒙斯 , M·H·A·利恩德斯 , J·J·奥坦斯 , M·范巴伦
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70875 , F16L55/053 , G03F7/70341 , G03F7/70783
Abstract: 本发明涉及一种光刻设备，其布置成将图案从构图部件投影到基底上，光刻设备具有用于保持基底的基底台，该基底台包括调节系统，该调节系统用于保持调节流体并调节该基底台，其中，该调节系统包括压力阻尼器，该压力阻尼器与该调节系统成流体连通，并且布置成可抑制该调节系统内的压力变化。
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公开(公告)号：CN101051188A
公开(公告)日：2007-10-10
申请号：CN200710092076.1
申请日：2007-04-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·维克曼斯 , M·A·W·崔帕斯 , F·E·德琼格 , E·A·M·范冈佩尔 , R·詹森 , G·A·A·M·库斯特斯 , T·P·M·卡迪 , M·F·P·斯米茨 , F·范德穆伦 , W·F·J·西蒙斯 , M·H·A·利恩德斯 , J·J·奥坦斯 , M·范巴伦
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70875 , F16L55/053 , G03F7/70341 , G03F7/70783
Abstract: 公开了一种光刻装置，该光刻装置将图案从构图部件投影到基底上，该光刻装置具有用于保持基底的基底台，该基底台包括调节系统，该调节系统用于保持调节流体并调节该基底台，其中，该调节系统包括压力阻尼器，该压力阻尼器与该调节系统成流体连通，并且布置成可抑制该调节系统内的压力变化。
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公开(公告)号：CN111566565A
公开(公告)日：2020-08-21
申请号：CN201880085060.4
申请日：2018-11-29
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： W·F·J·西蒙斯 , D·布拉卡玛 , H·巴特勒 , H·H·M·考克西 , R·W·A·H·理纳尔斯 , S·C·Q·利布雷尔 , M·范杜伊霍温 , M·W·J·E·威吉克曼斯
Abstract: 本发明涉及一种定位系统，包括：第一致动器，在可移动体上施加致动力，所述第一致动器耦接至平衡质量块，所述平衡质量块被配置为吸收所述致动力所产生的反作用力，所述致动力提供所述可移动体的加速度，所述反作用力提供所述平衡质量块的加速度，其中，由所述可移动体的加速度产生的力与由所述平衡质量块的加速度产生的力一起产生平衡质量块转矩；平衡质量块支撑件，将所述平衡质量块支撑到框架上，所述平衡质量块支撑件在支撑位置处接合所述框架；和转矩补偿器；其中所述转矩补偿器施加补偿力以补偿所述平衡质量块转矩，和其中所述转矩补偿器在所述支撑位置处将所述补偿力施加到所述框架上。
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公开(公告)号：CN107003619A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201580065520.3
申请日：2015-11-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·巴特勒 , R·M·S·诺普斯 , B·斯特里夫柯克 , C·L·瓦伦汀 , 简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 , W·F·J·西蒙斯 , L·L·F·默克斯 , R·J·M·德琼 , R·J·E·梅里 , M·F·伊普玛
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70258 , G03F7/70266 , G03F7/705 , G03F7/706
Abstract: 一种用于光刻设备的投影系统(PS1)包括：光学路径(100)、多个传感器(S1‑S4)、一个或更多个致动器(A1‑A4)；和控制器(CN)。所述光学路径能够操作以接收输入辐射束(Bin)和将输出辐射束(Bout)投影到衬底上以形成图像。所述光学路径包括多个光学元件(M1‑M4)，所述多个光学元件包括第一组至少两个光学元件(M1，M4)和第二组至少一个光学元件(M2，M3)。每个传感器与所述多个光学元件中的一个相关联且能够操作以确定该光学元件的位置。每个致动器与所述第二组光学元件中的一个相关联且能够操作以调整该光学元件。所述控制器能够操作以使用所述一个或更多个致动器以依赖于第一组光学元件所确定的位置来调整所述第二组光学元件，以便于至少部分地补偿由所述第一组光学元件的位置所造成的光学像差和/或视线误差。
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