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公开(公告)号：CN101051188B
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN200710092076.1
申请日：2007-04-06
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·维克曼斯 , M·A·W·崔帕斯 , F·E·德琼格 , E·A·M·范冈佩尔 , R·詹森 , G·A·A·M·库斯特斯 , T·P·M·卡迪 , M·F·P·斯米茨 , F·范德穆伦 , W·F·J·西蒙斯 , M·H·A·利恩德斯 , J·J·奥坦斯 , M·范巴伦
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70875 , F16L55/053 , G03F7/70341 , G03F7/70783
摘要： 公开了一种光刻装置，该光刻装置将图案从构图部件投影到基底上，该光刻装置具有用于保持基底的基底台，该基底台包括调节系统，该调节系统用于保持调节流体并调节该基底台，其中，该调节系统包括压力阻尼器，该压力阻尼器与该调节系统成流体连通，并且布置成可抑制该调节系统内的压力变化。
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公开(公告)号：CN102681351B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201210055428.7
申请日：2012-03-05
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： H·K·尼恩黑斯 , M·A·W·崔帕斯 , L·M·莱瓦西尔 , 简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 , Y·J·G·范德维基沃尔 , O·V·沃兹纳 , F·J·J·詹森 , D·M·H·菲利普斯 , M·A·C·马兰达 , O·加拉克季奥诺夫 , L·J·A·凡鲍克霍文 , N·坦凯特 , M·兰詹 , A·P·瑞吉普玛 , K·巴尔 , R·W·A·H·施密茨 , A·L·C·勒鲁
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70875 , G03F7/70891
摘要： 本发明公开了一种光刻设备和器件制造方法。所述光刻设备包括：衬底台，构造成保持衬底；投影系统，配置成将图案化的辐射束投影通过开口并投影到衬底的目标部分上；和管道，具有位于开口内的出口。所述管道配置成将气体传送至所述开口。光刻设备还包括由控制系统控制的冷却设备。冷却设备配置成冷却所述气体以使得从开口行进至衬底的气体在其入射到所述衬底上时具有预定的温度。
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公开(公告)号：CN102495539B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201210010399.2
申请日：2007-04-06
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·维克曼斯 , M·A·W·崔帕斯 , F·E·德琼格 , E·A·M·范冈佩尔 , R·詹森 , G·A·A·M·库斯特斯 , T·P·M·卡迪 , M·F·P·斯米茨 , F·范德穆伦 , W·F·J·西蒙斯 , M·H·A·利恩德斯 , J·J·奥坦斯 , M·范巴伦
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , F16L55/053 , G03F7/70341 , G03F7/70783
摘要： 本发明涉及一种光刻设备，其布置成将图案从构图部件投影到基底上，光刻设备具有用于保持基底的基底台，该基底台包括调节系统，该调节系统用于保持调节流体并调节该基底台，其中，该调节系统包括压力阻尼器，该压力阻尼器与该调节系统成流体连通，并且布置成可抑制该调节系统内的压力变化。
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公开(公告)号：CN102681351A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210055428.7
申请日：2012-03-05
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： H·K·尼恩黑斯 , M·A·W·崔帕斯 , L·M·莱瓦西尔 , 简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 , Y·J·G·范德维基沃尔 , O·V·沃兹纳 , F·J·J·詹森 , D·M·H·菲利普斯 , M·A·C·马兰达 , O·加拉克季奥诺夫 , L·J·A·凡鲍克霍文 , N·坦凯特 , M·兰詹 , A·P·瑞吉普玛 , K·巴尔 , R·W·A·H·施密茨 , A·L·C·勒鲁
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70875 , G03F7/70891
摘要： 本发明公开了一种光刻设备和器件制造方法。所述光刻设备包括：衬底台，构造成保持衬底；投影系统，配置成将图案化的辐射束投影通过开口并投影到衬底的目标部分上；和管道，具有位于开口内的出口。所述管道配置成将气体传送至所述开口。光刻设备还包括由控制系统控制的冷却设备。冷却设备配置成冷却所述气体以使得从开口行进至衬底的气体在其入射到所述衬底上时具有预定的温度。
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公开(公告)号：CN115210649A
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202180010795.2
申请日：2021-01-26
申请人： ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/683
摘要： 本文的实施例描述了用于掩模版夹具阻尼器和隔离系统的方法、装置和系统，用于输送掩模版并且减少光刻设备和系统的掩模版输送器中的振动。一种掩模版输送器设备包括掩模版输送器臂、被配置为保持掩模版的掩模版基板以及被布置为将掩模版基板连接至掩模版输送器臂的夹具。夹具包括被耦接至掩模版输送器臂的静态结构、被耦接至静态结构的隔离结构以及一个或多个阻尼元件。夹具被配置为使用一个或多个阻尼元件来减少掩模版输送器设备中的掩模版的振动。
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公开(公告)号：CN102495539A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201210010399.2
申请日：2007-04-06
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·维克曼斯 , M·A·W·崔帕斯 , F·E·德琼格 , E·A·M·范冈佩尔 , R·詹森 , G·A·A·M·库斯特斯 , T·P·M·卡迪 , M·F·P·斯米茨 , F·范德穆伦 , W·F·J·西蒙斯 , M·H·A·利恩德斯 , J·J·奥坦斯 , M·范巴伦
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , F16L55/053 , G03F7/70341 , G03F7/70783
摘要： 本发明涉及一种光刻设备，其布置成将图案从构图部件投影到基底上，光刻设备具有用于保持基底的基底台，该基底台包括调节系统，该调节系统用于保持调节流体并调节该基底台，其中，该调节系统包括压力阻尼器，该压力阻尼器与该调节系统成流体连通，并且布置成可抑制该调节系统内的压力变化。
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公开(公告)号：CN101051188A
公开(公告)日：2007-10-10
申请号：CN200710092076.1
申请日：2007-04-06
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·维克曼斯 , M·A·W·崔帕斯 , F·E·德琼格 , E·A·M·范冈佩尔 , R·詹森 , G·A·A·M·库斯特斯 , T·P·M·卡迪 , M·F·P·斯米茨 , F·范德穆伦 , W·F·J·西蒙斯 , M·H·A·利恩德斯 , J·J·奥坦斯 , M·范巴伦
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70875 , F16L55/053 , G03F7/70341 , G03F7/70783
摘要： 公开了一种光刻装置，该光刻装置将图案从构图部件投影到基底上，该光刻装置具有用于保持基底的基底台，该基底台包括调节系统，该调节系统用于保持调节流体并调节该基底台，其中，该调节系统包括压力阻尼器，该压力阻尼器与该调节系统成流体连通，并且布置成可抑制该调节系统内的压力变化。
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