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公开(公告)号：CN110945437A
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201880049630.4
申请日：2018-07-18
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 提供减少污染物粒子到达对粒子敏感的环境的可能性的设计，所述污染物粒子具有大范围的尺寸、材料、移动速度和入射角。根据本公开的一方面，提供包括第一腔室(403)和第二腔室(405)的物体平台(400)。所述物体平台还包括具有第一表面(415)的第一结构(402)和第二结构(404)。所述第二结构配置成支撑所述第二腔室(405)中的物体(412)、能相对于所述第一结构移动，并且所述第二结构包括第二表面(417)，所述第二表面与所述第一结构(402)的第一表面(415)相对从而限定在所述第一结构与所述第二结构之间的间隙(414)，所述间隙在所述第一腔室(403)与所述第二腔室(405)之间延伸。所述物体平台还包括气体出口，所述气体出口用于注射气体且设置成(a)在所述间隙中或(b)在所述第一腔室中且与第一腔室处的间隙的进口相邻。
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公开(公告)号：CN110945437B
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN201880049630.4
申请日：2018-07-18
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 提供减少污染物粒子到达对粒子敏感的环境的可能性的设计，所述污染物粒子具有大范围的尺寸、材料、移动速度和入射角。根据本公开的一方面，提供包括第一腔室(403)和第二腔室(405)的物体平台(400)。所述物体平台还包括具有第一表面(415)的第一结构(402)和第二结构(404)。所述第二结构配置成支撑所述第二腔室(405)中的物体(412)、能相对于所述第一结构移动，并且所述第二结构包括第二表面(417)，所述第二表面与所述第一结构(402)的第一表面(415)相对从而限定在所述第一结构与所述第二结构之间的间隙(414)，所述间隙在所述第一腔室(403)与所述第二腔室(405)之间延伸。所述物体平台还包括气体出口，所述气体出口用于注射气体且设置成(a)在所述间隙中或(b)在所述第一腔室中且与第一腔室处的间隙的进口相邻。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104335121B
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201380013882.9
申请日：2013-02-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70691 , G03F7/20 , G03F7/70066 , G03F7/70866 , G03F7/70933
Abstract: 一种光刻仪器，其将气体注入掩模(MA)和掩模刀片(REB‑X，REB‑Y)之间，以保护掩模不受污染。气体可以被注入掩模和最近的一对掩模刀片之间限定的空间中，或者注入在两对掩模刀片之间限定的空间中。
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公开(公告)号：CN102681351B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201210055428.7
申请日：2012-03-05
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·K·尼恩黑斯 , M·A·W·崔帕斯 , L·M·莱瓦西尔 , 简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 , Y·J·G·范德维基沃尔 , O·V·沃兹纳 , F·J·J·詹森 , D·M·H·菲利普斯 , M·A·C·马兰达 , O·加拉克季奥诺夫 , L·J·A·凡鲍克霍文 , N·坦凯特 , M·兰詹 , A·P·瑞吉普玛 , K·巴尔 , R·W·A·H·施密茨 , A·L·C·勒鲁
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70875 , G03F7/70891
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和器件制造方法。所述光刻设备包括：衬底台，构造成保持衬底；投影系统，配置成将图案化的辐射束投影通过开口并投影到衬底的目标部分上；和管道，具有位于开口内的出口。所述管道配置成将气体传送至所述开口。光刻设备还包括由控制系统控制的冷却设备。冷却设备配置成冷却所述气体以使得从开口行进至衬底的气体在其入射到所述衬底上时具有预定的温度。
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公开(公告)号：CN104335121A
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：CN201380013882.9
申请日：2013-02-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70691 , G03F7/20 , G03F7/70066 , G03F7/70866 , G03F7/70933
Abstract: 一种光刻仪器，其将气体注入掩模(MA)和掩模刀片(REB-X，REB-Y)之间，以保护掩模不受污染。气体可以被注入掩模和最近的一对掩模刀片之间限定的空间中，或者注入在两对掩模刀片之间限定的空间中。
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公开(公告)号：CN115176202A
公开(公告)日：2022-10-11
申请号：CN202080094125.9
申请日：2020-12-24
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
Inventor： R·P·奥尔布赖特 , K·巴尔 , V·Y·拜尼恩 , 理查德·J·布鲁尔斯 , S·F·德弗里斯 , O·W·V·弗吉恩斯 , 黄仰山 , 黄壮雄 , J·H·W·雅各布斯 , J·H·J·莫尔斯 , G·N·内恩查夫 , A·尼基帕罗夫 , T·M·瑞斯费尔德 , M·兰詹 , E·特斯莱特 , K·R·乌姆施塔特 , E·乌兹戈伦 , M·A·范德柯克霍夫 , P·耶格霍比
Abstract: 一种设备，包括：辐射接收设备，该辐射接收设备设置有开口，该辐射接收设备能够操作为通过开口接收来自辐射源的辐射；其中，该辐射接收设备包括偏转设备，该偏转设备被布置成改变颗粒通过开口到达辐射接收设备的轨迹。
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公开(公告)号：CN102681351A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210055428.7
申请日：2012-03-05
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·K·尼恩黑斯 , M·A·W·崔帕斯 , L·M·莱瓦西尔 , 简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 , Y·J·G·范德维基沃尔 , O·V·沃兹纳 , F·J·J·詹森 , D·M·H·菲利普斯 , M·A·C·马兰达 , O·加拉克季奥诺夫 , L·J·A·凡鲍克霍文 , N·坦凯特 , M·兰詹 , A·P·瑞吉普玛 , K·巴尔 , R·W·A·H·施密茨 , A·L·C·勒鲁
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70875 , G03F7/70891
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和器件制造方法。所述光刻设备包括：衬底台，构造成保持衬底；投影系统，配置成将图案化的辐射束投影通过开口并投影到衬底的目标部分上；和管道，具有位于开口内的出口。所述管道配置成将气体传送至所述开口。光刻设备还包括由控制系统控制的冷却设备。冷却设备配置成冷却所述气体以使得从开口行进至衬底的气体在其入射到所述衬底上时具有预定的温度。
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