公开(公告)号：CN108115551A

公开(公告)日：2018-06-05

申请号：CN201711229358.1

申请日：2017-11-29

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 泷口靖史 ,  山本太郎 ,  冈本芳树 ,  保坂隼斗 ,  小玉辉彦 ,  久保明广 ,  小篠龙人 ,  有内雄司 ,  木村慎佑

IPC: B24B37/10 ,  B24B37/34 ,  B24B37/30 ,  B24B57/02 ,  B24B55/06 ,  B24B55/00 ,  B24B47/12 ,  H01L21/67 ,  F26B21/00

CPC classification number: H01L21/02016 ,  G03F7/70691 ,  H01L21/0209 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67219 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67288 ,  H01L21/6838 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/6875 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68792 ,  B24B37/107 ,  B24B37/30 ,  B24B37/34 ,  B24B47/12 ,  B24B55/00 ,  B24B55/06 ,  B24B57/02 ,  F26B21/004

Abstract: 本发明提供了基片处理装置、基片处理方法和存储介质。关于滑动部件在基片的背面滑动来进行处理，能够在面内进行均匀性高的处理且将由滑动部件的滑动产生的作用可靠地施加到基片。上述装置构成为包括：为了在基片的背面滑动来进行处理而绕铅直轴自转的滑动部件；和公转机构，其使自转中的该滑动部件绕铅直的公转轴以具有比该滑动部件的直径小的公转半径的方式公转。基片被保持于第一保持部时，滑动部件在所述基片的背面的中央部滑动，上述第一保持部水平地保持与基片的背面的中央部不重叠的区域。基片被保持于第二保持部时，滑动部件在旋转的基片的背面的周缘部滑动，上述第二保持部水平地保持基片的背面的中央部并使之绕铅直轴旋转。

公开(公告)号：CN107768293A

公开(公告)日：2018-03-06

申请号：CN201611092835.X

申请日：2016-12-02

Applicant: 美达思系统株式会社

Inventor： 李坤哲 ,  闵兴基 ,  李俊亨 ,  全在根

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/682 ,  G03F1/42 ,  G03F7/70691 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70833 ,  G03F9/7034

Abstract: 本发明涉及校平维持力提升的高性能掩膜对准器用工作台校平装置，尤其涉及稳固已完成校平的晶片工作台并防止校平歪曲的新概念技术。根据已公开的校平装置，其作为局部施压于校平杆的侧面的方法，固定已完成校平的晶片工作台，由此，因上述校平杆沿着上下左右移动而产生的偏差(错误)，导致校平歪曲，并且由于上述校平杆的固定力弱，会产生滑动，从而只能相应地减少能够实现最大校平的晶片(样品)的重量。本发明是为了消除这种问题而提出的解决方案，其特征在于，强调如下技术：当插入于校平杆的外侧的锁环保持倾斜状态时，锁环的内周面施压于校平杆的两侧并进行固定和锁定，而当上述锁环保持水平状态时，锁环的内周面与校平杆相隔开并解除锁定。

公开(公告)号：CN107678249A

公开(公告)日：2018-02-09

申请号：CN201711031278.5

申请日：2017-10-30

Applicant: 无锡源代码科技有限公司

Inventor： 刘炫烨

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70691 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70758

Abstract: 本发明涉及转移机构技术领域，尤其为一种光刻机硅片转移机构，包括机架、外侧板、硅片等待器、内侧板与收纳盒，所述机架的下端外表面固定安装有支腿，所述外侧板的前端外表面固定安装有步进电机，且外侧板的一侧外表面固定安装有抗干扰器，所述硅片等待器的下端外表面设有传送带，所述内侧板的一侧外表面固定安装有校正感应发射器，且校正感应发射器的一侧固定安装有光刻输入器。本发明所述的一种光刻机硅片转移机构，设有环形传送带、抗干扰器和收纳盒，能够在硅片转移过程中保护硅片不受损失，加快转移速度，并能消除来自外界的干扰因素，还能将硅片进行收纳整理，带来更好的使用前景。

公开(公告)号：CN107272344A

公开(公告)日：2017-10-20

申请号：CN201610214904.3

申请日：2016-04-08

Applicant: 华邦电子股份有限公司

Inventor： 何羽轩

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/2035 ,  G03F7/0037 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/2051 ,  G03F7/2053 ,  G03F7/70383 ,  G03F7/70416 ,  G03F7/70691

Abstract: 本发明提供一种曝光方法、曝光设备及三维结构。该曝光方法包括：涂布光可固化材料于基板上；利用光纤提供第一光源进行曝光，使光可固化材料的至少一部分固化，以形成第一光固化材料，其中光纤具有光输出端，以及朝向光输出端逐渐缩窄的锥状部分；以及移除未受到第一光源曝光的光可固化材料，保留第一光固化材料。通过实施本发明，可大幅降低光输出面积及三维结构的临界尺寸。

公开(公告)号：CN103091747B

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201110333523.4

申请日：2011-10-28

Applicant: 清华大学 ,  鸿富锦精密工业(深圳)有限公司

Inventor： 朱振东 ,  李群庆 ,  张立辉 ,  陈墨

IPC: G02B5/18 ,  G03F7/00

CPC classification number: G02B5/1857 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G02B5/18 ,  G02B5/1809 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/095 ,  G03F7/70691 ,  H01L33/508

Abstract: 一种光栅的制备方法，其包括以下步骤：提供一基底；形成一抗蚀材料薄膜于该基底的表面；纳米压印并刻蚀所述抗蚀材料薄膜，得到抗蚀层；形成一掩模层于所述基底表面，所述掩模层覆盖所述抗蚀层以及基底通过所述抗蚀层暴露的表面；剥离所述抗蚀层及抗蚀层表面的部分掩模层，使基底形成一具图形化的掩模层；采用反应离子刻蚀法刻蚀基底得到石英光栅，刻蚀过程中刻蚀气体为四氟化碳、六氟化硫以及氩气；以及去除掩膜层。该种光栅对光波的衍射性能较好。

公开(公告)号：CN104238276A

公开(公告)日：2014-12-24

申请号：CN201310245138.3

申请日：2013-06-19

Applicant: 上海微电子装备有限公司

Inventor： 王鑫鑫 ,  江旭初 ,  朱文静 ,  王小刚

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/09

CPC classification number: G03F7/70783 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70691 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70791 ,  G03F7/708 ,  G03F7/70866

Abstract: 本发明公开了一种大掩模整形装置、方法及应用，该大掩模整形装置包括：吸附垫以及设置于所述吸附垫内的真空缸，所述真空缸通过一球头形铰链与定位面接触，所述球头形铰链将所述真空缸分为正压气室和负压气室两部分，所述吸附垫底部设有一真空腔，所述真空腔与所述负压气室连通，所述真空腔周围还设有正压通道。真空缸与定位面采用球铰连接的方式，当掩模变形时，所述大掩模整形装置会适应性的偏转，来吸附掩模。由于负压气室与真空腔连通，当吸附垫的真空腔处形成真空时，从圆柱形通道处通入的负压使得真空缸能够吸附掩模并带着掩模提升，直到真空缸与定位面接触，实现掩模的整形。

公开(公告)号：CN102645849A

公开(公告)日：2012-08-22

申请号：CN201210036738.4

申请日：2012-02-17

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： R·A·C·M·比伦斯 ,  A·F·J·德格鲁特

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

CPC classification number: G03F7/70691

Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和光刻投影方法。该光刻设备包括：照射系统；支撑第一图案形成装置的第一支撑结构和支撑第二图案形成装置的第二支撑结构，第一和第二图案形成装置能够在辐射束的横截面上赋予辐射束图案以形成图案化辐射束；衬底台；和投影系统，其中第一和第二支撑结构在扫描方向上可以在沿扫描方向的至少为第二或第一图案形成装置的长度的扫描距离上移动，其中第一和第二支撑结构在第二方向上可以在沿第二方向的至少为第二或第一图案形成装置的宽度的距离上移动，其中第二方向大体垂直于扫描方向，以及光刻设备通过第一支撑结构和/或第二支撑结构在第二方向上的移动选择地将第一支撑结构或第二支撑结构与投影系统对准。

公开(公告)号：CN108983553A

公开(公告)日：2018-12-11

申请号：CN201810511008.2

申请日：2018-05-25

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 松平泰尚

IPC: G03F7/20

CPC classification number: H01L21/6838 ,  B25J15/0616 ,  G03F7/70691 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供了一种用于保持被传送物体的传送手，该传送手包括：基部；垫，所述垫构造成吸附被传送物体；以及第一弹性部件，所述第一弹性部件固定于所述基部并构造成支撑所述垫，其中，所述第一弹性部件包括三个或更多支撑单元，每个支撑单元构造成支撑所述垫，且所述第一弹性部件构造成使得沿竖直方向的刚性低于沿水平方向的刚性，从而使得所述垫顺从被传送物体的形状。还提供给了一种传送装置、一种光刻装置、一种物品的制造方法以及一种保持机构。

公开(公告)号：CN107438334A

公开(公告)日：2017-12-05

申请号：CN201710563797.X

申请日：2017-07-12

Applicant: 奥士康精密电路(惠州)有限公司

Inventor： 叶志诚 ,  周睿 ,  蒋善刚

IPC: H05K3/06 ,  G03F7/20

CPC classification number: H05K3/06 ,  G03F7/70691 ,  H05K2203/0502

Abstract: 本发明提供了一种减少PCB板曝光不良的方法，针对不同的PCB板厚度放置不同厚度的垫片，包括：1)垫片的选取：A、所有不同厚度的垫片宽度为30mm，长度在300mm-750mm；B、垫片应比PCB板厚度薄0.1mm；C、PCB厚度≤0.2mm，PCB板四周可以贴红胶带(红胶带≤0.1mm)代替垫片；PCB厚度＞0.2mm，PCB板四周安放垫片；2)垫片的安放规范：D、PCB板四周都安放垫片，且所有垫片使用胶带固定；E、若PCB板边距玻璃边缘≤100mm，只需贴一条红胶带/垫片；若超过100mm应多加一条红胶带/垫片，若超过200mm应安放3条红胶带/垫片，以此类推；F、最靠近板边的一条红胶带或垫片距板边15mm-100mm。运用本发明方法能够有效降低内层曝光浪造成的报废及重工成本，从而节省成本。

公开(公告)号：CN105319861B

公开(公告)日：2017-11-24

申请号：CN201510293935.8

申请日：2015-06-02

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 宫岛义一 ,  中野一志

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70741 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/7035 ,  G03F7/70691 ,  G03F7/7075 ,  G03F7/70991

Abstract: 一种光刻装置包括原版传送路线、基板传送路线和多个图形形成设备，每个图形形成设备被构造用于使用原版在基板上进行图形形成。所述多个图形形成设备布置成两列。基板传送路线在所述两列之间并沿所述两列提供。原版传送路线提供在两列中的每列上，在两列原版传送路线之间并沿着两列原版传送路线布置两列图形形成设备。一种物品制造方法。