太阳能电池
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109004041B

    公开(公告)日:2020-04-28

    申请号:CN201710416290.1

    申请日:2017-06-06

    IPC分类号: H01L31/0224 H01L31/0236

    摘要: 本发明涉及一种太阳能电池,其包括:一背电极、一硅片衬底、一掺杂硅层、一上电极以及至少一电极引线。所述硅片衬底具有相对的第一表面和第二表面,所述背电极设置在所述硅片衬底的第二表面,并与所述硅片衬底欧姆接触;所述掺杂硅层形成于所述硅片衬底的第一表面;所述上电极为设置在掺杂硅层表面的多个多尺度的三维纳米结构;所述电极引线设置在所述上电极远离掺杂硅层的表面,并且电极引线的延伸方向与三维纳米结构的延伸方向交叉设置。

    有机发光二极管的制备方法

    公开(公告)号:CN104681742B

    公开(公告)日:2017-11-14

    申请号:CN201310619300.3

    申请日:2013-11-29

    IPC分类号: H01L51/56

    摘要: 一种有机发光二极管的制备方法,包括以下步骤:提供一基板,所述基板表面具有多个第一电极;在所述设置有多个第一电极的基板表面沉积一第一有机材料层;提供一具有纳米图形的模板,所述纳米图形包括多个深度不同的凹部;将模板具有纳米图形的表面与所述第一有机材料层贴合,并挤压所述模板及所述第一有机材料层;将所述模板与所述第一有机材料层进行脱模,使所述纳米图形转印到第一有机材料层,在所述第一有机材料层远离基板的表面形成高度不同的凸起结构;在所述第一有机材料层凸起结构远离基板的表面沉积一有机发光层;在所述有机发光层上沉积一第二有机材料层;以及形成一第二电极与所述第二有机材料层电连接。

    太阳能电池的制备方法
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103094401B

    公开(公告)日:2015-07-29

    申请号:CN201110331458.1

    申请日:2011-10-27

    IPC分类号: H01L31/18

    摘要: 本发明涉及一种太阳能电池的制备方法,包括以下步骤:提供一硅基板,所述硅基板具有一第一表面以及与该第一表面相对设置的一第二表面;在所述硅基板的第二表面设置一图案化的掩模层,所述图案化的掩模层包括多个并排延伸的条形凸起结构,相邻的条形凸起结构之间形成一沟槽,所述硅基板通过该沟槽暴露出来;刻蚀所述硅基板,使所述掩模层中相邻的多个条形凸起结构依次两两闭合,形成多个三维纳米结构预制体;去除所述掩模层,在所述硅基板的第二表面形成多个M形三维纳米结构;在所述三维纳米结构表面形成一掺杂硅层;在所述掺杂硅层的至少部分表面设置一上电极;以及设置一背电极与所述硅基板欧姆接触。

    有机发光二极管的制备方法

    公开(公告)号:CN104681743A

    公开(公告)日:2015-06-03

    申请号:CN201310619394.4

    申请日:2013-11-29

    IPC分类号: H01L51/56

    摘要: 本发明涉及一种有机发光二极管的制备方法,包括:提供一基板,所述基板表面具有多个第一电极;在所述基板表面形成一第一有机材料层;在所述第一有机材料层的表面形成一第一有机发光层;提供一具有纳米图形的模板,所述纳米图形包括多个深度不同的凹部;将模板具有纳米图形的表面与所述第一有机发光层贴合,并挤压、脱模,在所述第一有机发光层远离基板的表面形成多个相互间隔的第一凸起、第二凸起及第三凸起;在所述第二凸起的表面形成一第二有机发光层,在所述第三凸起的表面形成一第三有机发光层;形成一第二有机材料层覆盖所述第一凸起、第二有机发光层及第三有机发光层;以及设置一第二电极与所述第二有机材料层电连接。

    发光二极管
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103474543A

    公开(公告)日:2013-12-25

    申请号:CN201210185679.7

    申请日:2012-06-07

    IPC分类号: H01L33/44

    摘要: 本发明涉及一种发光二极管,其包括:第一半导体层、活性层以及第二半导体层依次层叠设置于所述基底的一表面,且所述第一半导体层靠近基底设置,所述第一电极与所述第一半导体层电连接,所述第二电极与所述第二半导体层电连接,进一步包括:一第一光学对称层设置于第二半导体层远离活性层的表面;一金属等离子体产生层设置于所述第一光学对称层远离活性层的表面;一第二光学对称层设置于所述金属等离子体产生层远离活性层的表面;所述第二光学对称层的等效折射率n1,与所述基底、第一半导体层、一活性层、一第二半导体层以及第二光学对称层的等效折射率n2的差值∆n大于等于0小于等于0.5,其中∆n=|n1-n2|。